磁控离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择,以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。磁控溅射的原理是,在电场内在叠加一个磁场,这样电子在叠加场内做螺旋运动,行程很长,每个电子电离的气体分子比直流多很多很多,所以可以在低电压下,有较好的真空度。溅射产生同样的镀膜效果。但是因为磁控真空度相对高,所以镀膜的颗粒小,膜层附着力好,靶材的利用率也高。 在直流溅射过程中,样品的温升主要来自于负离子在电场作用下对样品的轰击,在磁控溅射中,负离子都被磁场束缚了,所以基本没有对样品的轰击,所以温升基本没有,很适合温度敏感性的样品制备。
企业名称
郑州科创实验仪器设备有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
91410100MA442L4G2B
成立日期
2017-06-15
注册资本
101
经营范围
目前公司已研发生产产品十多个系列几十款产品,产品囊括实验电炉、CVD供气系统、等离子清洗机、小型离子溅射仪、小型蒸镀仪等,主要适用于科研院校及工矿企业在新材料、新能源等领域物理特性及化学特性的研究,广销于各大院校,及材料研究所