纳米团簇束流沉积系统

l纳米团簇束流沉积系统由纳米团簇源、质量选择器、沉积系统构成。 

l可以用于基于纳米粒子的器件加工，可在结构、化学组分、封装等不同环节上对纳米结构单元进行操纵。

l可用于纳米粒子膜的大规模工业化制备。

l工艺过程高效、快速和低成本。

v创新的镀膜、沉积设备 

v新型的纳米颗粒制备设备

   纳米粒子源通过气相聚集过程及差分束流系统形成纳米团簇束流，由质量选择器进行筛选，然后在高真空下以声速（低能）或被加速（高能）沉积于基底上。

1、纳米团簇束流沉积系统——纳米团簇源

l纳米粒子的平均直径：0.5～35nm（1 ～ 106个）可调。 

l纳米粒子的尺寸分布（FWHM）：2～5nm。 

l可选用多靶套件。 

l可选用粒子弯头，实现多种团簇沉积或取样。 

l相比传统磁控溅射系统，节约大约50%氩气。 

l靶材可以是金属（包括碱金属、贵金属和特高熔点金属，例如：锇、钨）、非金属（常温常压下固态非金属单质和化合物）、半导体（例如硅、锗）、能在真空存在的固态有机材料等。

2、纳米团簇束流沉积系统——质量选择器

l基于德国科学家的时间飞行法对小团簇进行原子数级的质量选择，可以从“白”束流中分选出pA-nA流量的单原子数组分束流，质量选择精度为0.5 ～2%。 

l1-200单原子可控。

l尺寸选择精度：亚纳米级。 

l通量：1010/s ～ 1011/s(1-10nA)。

l选择后束流原子数在1 ～10000之间，选择精度优于20，可达200。

3、纳米团簇束流沉积系统——沉积系统

l纳米薄膜沉积速度可监控，并在0.05 ～2nm/s连续可调。 l标准纳米束流直径：0.5 ～25mm可调，可选配样品X-Y扫描器，制备150×150mm以上样品。

l可实现加速动能为1 ～40keV的荷能纳米粒子沉积。

l系统背景真空度可达10-9Torr。

l控制沉积速度（声速）并配合控温台（选配）实现沉积过程不升温。

l可选配快速降温组件，实现退火，得到一些特殊相。

l可用于制备纳米颗粒。