核心参数
服务报价: 10万-20万
服务经验: 5-10年
服务经验: 电镜设备载网
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TE系列:
原位芯片X-Ray氮化硅薄膜窗口TE系列,为满足科研人员对样品的观测需求,苏州原位芯片采用先进的微电子工艺,设计并制造了专门用于同步辐射线站及扫描电子显微镜(SEM)的标准氮化硅膜窗格。苏州原位芯片氮化硅膜窗格具有高洁净度,高X-射线透射性,低应力,高强度且膜厚均匀一致的特性,适用于高温(~1000℃)实验以及不同压力环境的测试。目前我们的产品已被全球范围内的科研人员广泛认可且用于其生物、材料、物理、化学等方面的研究。
产品应用
·纳米材料,半导体材料,光学晶体材料,功能薄膜材料
·胶体,气凝胶,有机材料和纳米颗粒的表征实验
·含碳样品分析(光阻剂,聚合物,食品,油品,燃料等)
·用于化学反应及退火效应的原位表征
·作为生物、细胞载体
技术参数
TE同步辐射氮化硅薄膜窗口 | |||
外框项目 | 参数 | 外框 | 参数 |
材料 | N/P 型硅片 | 电阻率 | 1~10Q*cm |
氮化硅项目 | 参数 | 氮化硅项目 | 参数 |
材料 | LPCVD 氮化硅 | 应力 | <250MPa |
介电常数 | 6-7 | 介电强度 | 10 (106V/cm) |
电阻率 | 1016Ω*cm | 粗糙度(Ra) | 0.28±5% nm |
折射率@630nm | 2.15-2.17 | 粗糙度(Rms) | 0.40±5% nm |
产品型号
产品编号 | 膜厚 | 窗口尺寸 | 框架大小 |
TE025Z | 10nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
TE050Z | 10nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
TE025Y | 20nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
TE050Y | 20nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
TE025A | 30nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
TE050A | 30nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
TE100A | 30nm | 1x1mm | 5x5mm |
TE025B | 50nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
TE050B | 50nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
TE100B | 50nm | 1x1mm | 5x5mm |
TE150B | 50nm | 1.5x1.5mm | 5x5mm |
TE200B | 50nm | 2x2mm | 5x5mm |
TE025C | 100nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
TE050C | 100nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
TE100C | 100nm | 1x1mm | 5x5mm |
TE150C | 100nm | 1.5x1.5mm | 5x5mm |
TE200C | 100nm | 2x2mm | 5x5mm |
TE75050C | 100nm | 0.5x0.5mm | 7.5x7.5mm |
TE75200C | 100nm | 2x2mm | 7.5x7.5mm |
TE100300C(5pcs) | 100nm | 3x3mm | 10x10mm |
TE100500C(5pcs) | 100nm | 5x5mm | 10x10mm |
TE010D | 200nm | 0.1x0.1mm | 5x5mm |
TE025D | 200nm | 0.25x0.25mm | 5x5mm |
TE050D | 200nm | 0.5x0.5mm | 5x5mm |
TE100D | 200nm | 1x1mm | 5x5mm |
TE150D | 200nm | 1.5x1.5mm | 5x5mm |
TE200D | 200nm | 2x2mm | 5x5mm |
TE250D | 200nm | 2.5x2.5mm | 5x5mm |
每盒包含10枚芯片 |
企业名称
苏州原位芯片科技有限责任公司
企业信息已认证
企业类型
有限责任公司(自然人投资或控股)
信用代码
913205943311577317
成立日期
2015-04-08
注册资本
316.55338万元整
经营范围
微纳米芯片及相关产品的研发、销售并提供相关技术服务;销售:电子材料、实验室耗材、无尘耗材、洁净设备、实验室设备和仪表;提供上述产品的技术转让和服务,从事上述产品及技术的进出口业务.(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)
苏州原位芯片科技有限责任公司
公司地址
苏州市工业园区酝慧路168号星洲大厦
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