实验室专用原子层沉积设备

用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD;具备近100种膜层工艺。

• 应用领域：

      芯片封装、半导体High-k介电层、纳米涂层、3D涂层、锂电池、催化剂、太阳能电池、5G通讯（SAW器件）、生物医学仿生、荧光材料、OLED显示、有机材料、电子电路、光学膜等，细分及对应膜层如下：

      -High-K介电材料(Al2O3,HfO2,ZrO2,PrAlO,Ta2O5,La2O3)

      -导电门电极 (Ir, Pt, Ru, TiN)

      -金属互联结构 (Cu WN,TaN,Ru,Ir)

      -催化材料 (Pt,Ir,Fe,Co,TiO2,V2O5)

      -纳米结构 (All ALD Material)

      -生物医学涂层 (TiN,ZrN,TiAlN,AlTiN)

      -金属 (Ru,Pd,Ir,Pt,Rh,Co,Cu,Fe,Ni)

      -压电层 (ZnO,AlN,ZnS)

      -透明电学导体 (ZnO:Al,ITO)

      -紫外阻挡层 (ZnO,TiO2)

      -光子晶体 (ZnO,ZnS:Mn,TiO2,Ta3N5)

      -防反射滤光(Al2O3,ZnS,SnO2,Ta2O5)

      -电致发光器件(SrS:Cu,ZnS:Mn,ZnS:Tb,SrS:Ce)

      -工艺层如蚀刻栅栏、离子扩散栅栏等 (Al2O3,ZrO2)

      -光学应用如太阳能电池、激光器、光学涂层、纳米光子等 (AlTiO,SnO2,ZnO)

      -传感器 (SnO2,Ta2O5)

      -磨损润滑剂、腐蚀阻挡层 (Al2O3,ZrO2,WS2)

      -OLED钝化层 (Al2O3)

• 功能特点：

  -采用热法和等离子法制备原子层纳米级薄膜

  -一个循环周期小于2秒钟

  -可以沉积有机高分子材料，实现表面亲疏水性

  -可以在纳米粉末或纳米颗粒上沉积薄膜

  -可以在三维、不规则体、带有长深孔（深宽比2500：1）样品上沉积薄膜

  -可以沉积低饱和蒸汽压材料

  -可增加在线椭偏仪和QCM检测

  -可增加等离子体装置

  -可扩展臭氧产生器

  -可集成手套箱设备

  -可增加Load-lock自动上下载片装置

• 可沉积膜层：

  氧化物

  氮化物

  硫化物

  金属/碲化物

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