突破传统半导体工艺2D加工限制，双光子聚合技术前景广阔——访Nanoscribe中国区总经理崔万银博士

仪器信息网讯 8月29日，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第四届微光刻分委会年会暨第十三届微光刻技术交流会在青岛成功召开。

会议期间，仪器信息网特别采访了纳糯三维科技 (上海) 有限公司（Nanoscribe）中国区总经理崔万银博士。据了解，Nanoscribe以双光子聚合技术为基础开发产品和服务。

据介绍，Nanoscribe公司此前是卡尔蔡司的一家子公司，当前聚焦于光刻技术。崔万银博士透露，当前公司主要有4款产品：Photonic Professional GT2能够实现各种各样的微纳加工，适用于高校院所的公共平台使用；Quantum X shape是其升级版，在原来GT2的基础上增加了灰度功能，提高了加工效率和加工平整度；Quantum X bio是针对生物领域所开发，例如打印细胞生长支架和器官组织、药物筛选等；Quantum X align主要面向光通信领域。

相比于单光子加工产品、DLP技术等3D打印技术，Nanoscribe产品的打印精度提升了一两个数量级，最小加工线宽可达160nm，相当于头发丝的万分之一。与电子束曝光、光刻直写技术相比，Nanoscribe产品可以进行三维加工。

但同时，崔万银博士也表示，双光子打印技术太过前沿，缺乏前后制程配套，短期内难以在工业界实现替代。崔万银博士希望可以将产品应用在纳米压印的模具制造中，结合纳米压印技术实现快速大批量加工，让技术走进千家万户。崔万银博士始终坚信，3D加工的手段相比于传统半导体加工技术拥有非常大的领先优势。

以下为现场采访视频：