核心参数
产地类别: 进口
最大成形尺寸: 50*50m㎡
分层厚度: /
激光器功率及数量: 250mW
成型精度: 160nm
最大扫描速度: ≤250mm/s
可打印材料: 光敏树脂
基于双光子灰度光刻原理无掩模微纳3D打印
- 适合于制造微光学衍射以及折射元件
Quantum X新型超高速无掩模光刻技术的核心是Nanoscribe独家专利的双光子灰度光刻技术(2GL®)。该技术将灰度光刻的卓越性能与双光子聚合的精确性和灵活性完美结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。这种具有创新性的增材制造工艺大大缩短了企业的设计迭代,打印样品结构既可以用作技术验证原型,也可以用作工业生产上的加工模具。
Nanoscribe双光子灰度光刻微纳打印系统技术要点
这项技术的关键是在高速扫描下使激光功率调制和动态聚焦定位达到精准同步,这种智能方法能够轻松控制每个扫描平面的体素大小,并在不影响速度的情况下,使得样品精密部件能具有出色的形状精度和超光滑表面。该技术将灰度光刻的卓越性能与双光子聚合的精确性和灵活性*结合,使其同时具备高速打印,完全设计自由度和超高精度的特点。从而满足了高端复杂增材制造对于优异形状精度和光滑表面的极高要求。
技术参数
产地:德国全进口
打印技术:双光子灰度光刻 (2GL)
三维横向特征尺度:160nm
最佳分辨率:400nm
最小表面粗糙度:≤10nm
激光扫描速度:≤250mm/s
关键特性
高速的2.5维微纳制造
光学质量表面和极好的形状精度
亚微米级别加工满足设计自由
超快调整控制打印体素大小,优化打印过程
自动化的打印流程,例如校正、打印和实时
监控 广泛的基板-树脂组合选择
按任务顺序连续进行打印
可触摸屏和远程电脑操控
纳糯三维科技(上海)有限公司作为德国Nanoscribe独资子公司扩大了亚太地区业务范围,同时也加强了售后服务支持。
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企业名称
纳糯三维科技(上海)有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
91310115MA1K3XQN7G
成立日期
2017-11-08
注册资本
100
经营范围
纳糯三维科技(上海)有限公司
公司地址
徐汇区新漕河泾国际商务中心B-1106
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