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产品简介鉴知®LAS2000系列气体分析仪可实时、连续、快速监测HF、HCl、CO、CO2、CH4、O2等气体的含量。
锂离子电池行业中， LAS2000可对六氟磷酸锂合成过程中HF、HCl气体进行实时检测。
电子特气行业，LAS2000可对三氟化硼、四氟化锗等电子气体中杂质HF、HCl、CO、CO2、CH4、SO2等气体进行检测。
可检测气体
| HF | HCL | CO | CO2 | CH4 | O2 | |
| 检测限*（ppm） | 0.02 | 0.05 | 0.1 | 0.2 | 0.1 | 100 |
| 测量范围** | 0~20ppm | 0~10ppm | 0~100ppm | 0~100ppm | 0~1% | 0~100% |
| H2S | H2O | SO2 | NO | NH3 | ||
| 检测限*（ppm） | 3 | 0.1 | 1 | 1 | 0.15 | |
| 测量范围** | 0~500ppm | 0~50% | 0~300ppm | 0~50ppm | 0~15ppm |
*检测限为1m光程25℃、0.1MPa下对应检测下限
** 测量范围可定制
应用方式
HF实时浓度采集
技术特点• 实时：响应时间≤1s
• 原位：常压的样品可原位在线检测
• 耐腐蚀：尤其适合含有HF的气体体系
• 互联：及时将结果反馈给中控系统
• 抗干扰：单线吸收光谱，避免其他背景气体的干扰
• 自修正：温压自动补偿修正
产品参数压力范围 | 大气压±5 kPa（高压气体可通过减压处理检测） |
温度范围 | ≤800 ℃ |
线性误差 | ±1.0% F.S. |
重复性 | ±1.0% F.S. |
模拟信号输入 | 4-20 mA，温度压力补偿修正 |
模拟信号输出 | 4-20 mA |
数字信号输出 | RS485 |
开关量输出 | 继电器输出，气体浓度报警，系统故障报警 |
尺寸 | 1500 mm × 600 mm × 1500 mm |
重量 | 230 kg |
气路接口 | 标准6 mm卡套接头，其他尺寸可转接 |
应用领域新能源/氟材料
四氟化锗产品中的HF气体残留监测
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四氟化锗产品中的HF气体残留监测
年来国家鼓励国内半导体产业创新发展，打破国外垄断，实现技术自主，出台了一系列支持和引导该行业的政策法规。四氟化锗（GeF4）作为一种锗的氟化物，在半导体行业中用于掺杂和离子注入，结合乙硅烷气体，可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶，其潜在应用价值正越发受到国内外企业关注。在某GeF4生产工艺过程中，需要尽力去除产品气GeF4 中杂质HF气体，使其残留量值低于企业标准中的限量值（35ppm）。为了监测此工艺过程的效果，需要定量监测GeF4气体中的HF残留。含量范围大约0-500 ppm。
半导体
2023/03/21
企业名称
同方威视技术股份有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110000009979270
成立日期
2000-12-19
注册资本
18500
经营范围
核仪器仪表的研究、开发、销售及设备安装服务;高科技项目咨询;应用系统软件及系统集成的销售和技术开发、技术咨询、技术培训;高新技术转让和服务;进出口业务;承包境外与出口自产设备相关的工程和境内国际招标工程;租赁机械设备;销售汽车(不含九座以下乘用车);使用Ⅳ、Ⅴ类放射源及生产、销售、使用Ⅱ、Ⅲ类射线装置;对外派遣实施与出口自产设备相关的境外工程所需的劳务人员;核仪器仪表的生产;销售医疗器械Ⅲ类(医疗器械经营许可证有效期至2024年05月08日)。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
北京鉴知技术有限公司
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北京市海淀区清华同方科技广场D座9层
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