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微波等离子去胶机,半导体/晶圆去残胶,去胶速率高

仪器应用

发布时间:2022/09/06

简介: 国内自有微波半导体去胶发生器技术,对半导体行业封装清洗.晶圆,芯片倒装表面活化,除胶,提高表面附着力.,自由基分子的等离子体无偏压,不会对产品有电性损伤,集成的控制系统设计,专利控制软件,处理效率高。
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