美国PSS AccuSizer A9000 FXnano 高浓度颗粒计数器

CMP浆体粒径分析：SPOS与费朗霍夫

半导体行业正在朝着更小的线宽和更多的层的方向发展。迈向这种高密度芯片技术的最重要的工艺考虑之一是对平面化步骤的更复杂的控制。抛光步骤受胶体分散金属氧化物浆料（CMP，化学机械平面化的简称）的影响，主要是二氧化硅和氧化铝，平均直径在10nm-200nm范围。这些浆料被用于放置晶圆片的旋转抛光垫上。在过去，激光衍射最常用来表征这些浆料的粒度分布。人们一直都知道，这些浆料中含有的体积百分比小于1微米的颗粒。这些颗粒会在晶圆片表面造成划伤和其他缺陷。本文将证明，由于测量的性质，激光衍射法不足以定量测定不合规格的浆料颗粒的浓度。另一方面，单粒子光学粒度（SPOS）可对颗粒进行计数，将被证明是表征CMP浆料的一个很好的工具。

CMP 研磨液中颗粒的评价技术

在化学机械抛光过程中，各种研磨液用于晶圆平坦化处理。这些研磨液中颗粒浓度可达＞1015颗/ml。除了用于抛光的大量颗粒外，研磨液中还含有相对较少＞1.0um的颗粒（二氧化硅而言 104-106颗/ml；氧化铝而言109颗/ml）。这些颗粒可能会在晶圆表面平坦化处理的时候造成微划伤。 已开发出相应的技术用于评估研磨液中＞1.0um的不良颗粒以及这些颗粒的浓度。这些技术可以帮助我们确认系统中的颗粒污染源，以及帮助评估过滤的有效性以及减少这些不良颗粒。

AN-754 ISO4406污染度等级

污染是油品降解的唯一最大原因。如果不加以控制或预防，污染可能会导致系统严重故障。通常使用液体颗粒计数器（例如PSS AccuSizer）对流体清洁度进行量化。使用光学传感器分析样品。各种行业标准（1,2,3）提供了使用与选定颗粒尺寸上的浓度相关的代码（标度）值报告流体清洁度的方法。最常用的标准是ISO 4406液压动力液体方法，用于编码固体颗粒的污染程度。

通过单颗粒光学传感（SPOS）对CMP浆料进行超灵敏的在线监测

我们已经开发了一个强大的工具，可以对CMP浆料进行连续的在线监控。我们的新AccuSizer 780 / OL系统基于单颗粒光学传感（SPOS）技术，可以快速，准确地确定大于0.5微米的“异常”颗粒的粒径分布（PSD），这可能会导致严重的缺陷。抛光过程中的晶圆表面。 PSD中这些大颗粒“尾巴”的来源包括浆液分配系统中的泵和过滤器不良，以及由于pH或热冲击引起的胶体不稳定性的发生，以及其他影响。

AN710 AccuSizer 780系列仪器在喷墨墨水粒度检测中的应用

喷墨墨水的色素是在溶液中呈胶态分布的。色素的一定分散对避免沉降、不稳定或结块引起的喷墨失败都是很有必要的。为了确保最佳配比并生产，我们需要一个可靠的方法来确定最终产品的粒度分布。PSS的AccuSizer系统——单颗粒计数原理(SPOS)是一个理想的工具，它可以测出喷墨墨水是否包含任何可能构成阻塞喷射器、导致性能降低等风险的粒子。本应用阐述了AccuSizer在解决喷墨墨水制造业方面问题的一些例子。

全新的化妆品活性成份的稳定超微载体 Nano tope TM 纳能托 [注 ]及其 与普通脂质体的性能比较

介绍了一种全新的平均粒径为 25nm 左右的化妆品活性物的超微载体系统纳能托。它对皮肤具有高覆盖率和强渗透性。它比普通脂质体更耐表面活性剂 ,并具有良好的 pH值和离子强度的适应性 ,是一种比脂质体、纳球、纳颗粒以及纳乳液都稳定且粒径分布均匀的纳胶体。运用动态光散射法及浊度法研究了纳能托及脂质体在一系列不同表面活性剂中的稳定性及其粒径分布。讨论了该超微载体系统的应用前景。

化妆品级云母粉的粒度形貌特征和润湿性

通过分析 6 种化妆品级云母粉的粒度分布、 形貌特征和润湿性 特征，将指标量化，探讨国内外市售化妆品级云母粉的差异。结果表明：1#、2# 云母粉的粒径分布窄，径厚比大，晶体形态和改性效果良好；3#、4#云母粉的改性效果优异；5#、6# 云母粉表面改性效果差， 且表面阶梯状明显；国内化妆品级云母粉晶体形态、表面平整度和润湿性需改进。

17 PSS AN CMP10 CMP slurry 中的大颗粒

化学机械抛光（CMP）工艺的质量取决于抛光设备和浆料，浆料由包含多种化学添加剂的液体中定义明确的固体颗粒组成。当今主要的生产问题之一是根据浆液的规格保证其质量，以及在使用时（POU）免受任何形式的降解的稳定性。许多浆料是不稳定的胶体体系，具有相对较短的保存期限。同样，将浆液从容器传输到CMP工具可能是由于剪切，沉降或团聚而导致降解的原因。影响浆料性能的一个关键方面是在CMP过程中会导致缺陷（例如晶片上的微划痕）的大颗粒的存在。