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新一代全检膜厚测量仪ME-210-T

2022/11/30 14:48

阅读:143

分享:
应用领域:
电子/电气
发布时间:
2022/11/30
检测样品:
电子元器件产品
检测项目:
物理性质
浏览次数:
143
下载次数:
参考标准:
日标

方案摘要:

可整面快速检测膜厚分布的新一代椭偏仪,透明基板上的极薄膜厚也可检测。

产品配置单:

分析仪器

PHL膜厚测试仪/椭偏仪SE-101

型号: SE-101、102、110

产地: 日本

品牌: Photonic Lattice

面议

参考报价

联系电话

方案详情:

新一代全检膜厚测量椭偏仪ME-210(-T


常规椭偏仪通常只能对一点进行膜厚测量,而且单点测量也需要耗费时间,虽然也有可以做到自动扫描检测整个样品膜厚状况的手段,但是点数和时间以及精度往往无法满足工业客户的需求;对客户的这一痛点日本Photonic lattic 通过以自研的偏振传感器为核心的新一代全检膜厚测量椭偏仪,可以做到1000点/分钟,6寸产品最快可以在3分钟内完成,不仅如此,ME-210-T针对透明基板也可测量。



高速/面分布测量


最大每分钟1000点以上超高速全面测量膜厚,短时间内就可以取得整个产品膜厚和分布图


微小领域测定(20un左右)

可简单测量任意微小区域



透明基板上的薄膜厚度也可测量

适用于玻璃基板上的极薄膜测定


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