核心参数
组件类别: 光学元件
利用具有高耐用性、SiC膜和清晰形状的Ta X射线吸收体的FZP能生产坚韧、高精确、清晰的产品。
公司的FZP因其高质量而在世界上被广泛用于产品生产。
公司的由SiC膜和Ta吸收体图案组成的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性、高分辨率和高对比度。
只有公司提供基于SiC膜的菲涅耳波带板(FZP)具有出色的高耐X射线辐射性。的FZP由干法蚀刻的Ta组成。吸收体图案清晰,S/N比高,成像缺陷少, 能理想地应用于X射线显微镜、X射线微光束辐射和X射线成像。
另外,还提供用于软X射线和极紫外(EUV、XUV)领域的Ta图案/SiN膜型FZP和Au板图案/SiN 膜型FZP。并提供台阶式(基诺全息照片)FZP。
能用于X射线显微镜、EUV显微镜、X射线微光束辐射和同步加速器辐射光束监视等各种X射线应用。
出色的高耐X射线辐射性
最小区域宽度达25纳米
可定制FZP
型号 | 宽高 比 | 膜 材料 | 膜 厚度 (微米) | ΔRn (纳米) | D (微米) | N | Tm (纳米) |
---|---|---|---|---|---|---|---|
FZP-S38/84 | 4.2 | SiN | 0.15 | 38 | 84 | 550 | 160 |
FZP-S50/80 | 5 | SiN | 0.2 | 50 | 80 | 400 | 250 |
FZP-S40/155 | 5 | SiN | 2 | 40 | 155 | 970 | 200 |
FZP-S50/330 | 8 | SiN | 1 | 50 | 330 | 1,650 | 400 |
FZP-S86/416 | 8 | SiN | 2 | 86 | 416 | 1,200 | 700 |
FZP-100/155 | 8 | SiN | 2 | 100 | 155 | 388 | 800 |
FZP-173/208 | 5.8 | SiN | 2 | 173 | 208 | 300 | 1,000 |
FZP-200/206 | 8 | SiN | 2 | 200 | 206 | 255 | 1,600 |
FZP-C234/2500 | 0.6 | SiC | 0.2 | 234 | 2,500 | 2,670 | 150 |
※规格可能会变更,恕不预先通告。
Rn:最外区域宽度
D:直径
N:全区域
Tm:Ta厚度
可按要求定制设计FZP,满足用户的特殊X射线能量、光学设置和聚焦、图像性能。如果本公司的标准产品商品目录中没有所需的产品,请联系我们。
图案示意图 | 以对角观察的SEM图 |
二进制型 | 台阶(基诺全息照片)式 |
最小区域宽度(最外区域) | 25纳米 |
---|---|
最大直径 | 5毫米 |
膜材料 | SiN, SiC |
膜厚度 | 0.2至2微米 |
吸收体材料 | Ta |
吸收体厚度 | 0.1至2微米 |
Si基板形状 | 10平方毫米 |
Si基板厚度 | 1毫米 |
※我们可与用户商讨不同需求。
菲涅耳波带板(FZP)直径:250微米,Ta厚度:125纳米,最外区域宽度:25纳米,膜:SiC 2.0微米
菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:2.5微米,最外区域宽度:250纳米,膜:SiN 2.0微米
菲涅耳波带板(FZP)直径:100微米,Ta厚度:4.0微米,最外区域宽度:400纳米,膜:SiC 2.0微米
菲涅耳波带板(FZP)中间区域的SEM 图:台阶(基诺全息照片)式菲涅耳波带板(FZP)、Ta图案
Microworks光学仪器组件FZP-S38/84等的工作原理介绍
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企业名称
北京众星联恒科技有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110108015768001
成立日期
2013-04-09
注册资本
100
经营范围
技术开发、技术转让、技术咨询、技术服务、技术推广;销售机械设备、电子产品、五金、交电、计算机、软件及辅助设备、通讯设备、润滑油、非金属矿石、金属矿石、金属材料、化工产品(不含危险化学品及一类易制毒化学品)、自行开发后的产品;计算机系统服务;数据处理;基础软件服务;应用软件服务;销售自行开发后的产品;货物进出口、技术进出口。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
北京众星联恒科技有限公司
公司地址
北京市海淀区信息路1号 国际创业园西区 2号楼1305
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