项目 | 技术指标 |
仪器型号 | EM12 |
激光波长 | 632.8nm (He-Ne Laser) |
膜厚测量重复性(1) | 0.2nm (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
折射率测量重复性(1) | 2x10-3 (对于平面Si基底上100nm的SiO2膜层) |
单次测量时间 | 与测量设置相关,典型1.6s |
最大的膜层范围 |
透明薄膜可达4000nm 吸收薄膜则与材料性质相关 |
光学结构 | PSCA(Δ在0°或180°附近时也具有极高的准确度) |
激光光束直径 | 1-2mm |
入射角度 | 40°-90°可手动调节,步进5° |
样品方位调整 |
Z轴高度调节:±6.5mm 二维俯仰调节:±4° 样品对准:光学自准直和显微对准系统 |
样品台尺寸 | 平面样品直径可达Φ170mm |
最大外形尺寸 | 887 x 332 x 552mm (入射角为90º时) |
仪器重量(净重) | 25Kg |
选配件 |
水平XY轴调节平移台 真空吸附泵 |
软件 |
ETEM软件:
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企业名称
北京赛凡光电仪器有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
110112006999781
成立日期
2004-05-28
注册资本
1000
经营范围
销售仪器仪表、机械设备;技术开发;技术转让;技术咨询;技术服务;货物进出口;代理进出口。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本区产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)
北京赛凡光电仪器有限公司
公司地址
北京市通州区张家湾镇光华路16号方和正圆
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