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光罩对准曝光机

品牌：
产地： 韩国
型号： MDA-12SA
样本： 下载
报价： 面议
产品介绍
MIDAS SYSTEM公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机，是韩国第一家研发并商业化光罩对准曝光机的企业，始终致力于不断完善、增强技术型企业的核心竞争力。
 
MIDAS SYSTEM公司具有专业化的设计团队，以客户需要为己任，生产、供应满足国内外企业、科研院所不断增长的应用需求，并且提供半导体工艺相关的设备需要。

MDA-12SA型曝光机是一款MIDAS公司新开发的产品，代表了下一代全区域光刻系统。这一新型半自动化对准曝光平台具有更高的重复光刻精度以及更可靠的操作，非常适合陶瓷及其他探针卡应用，同时MDA-12SA型半动化光罩对准曝光机具有更高的生产能力和容易操控。

项目 参数
光源能量 紫外曝光光源光强2000～5000W，输出能量可控
光束范围 14.25″× 14.25″
均匀光束范围 13.25″× 13.25″
光束均匀性 ＜3%～5%
365nm输出光束强度 5KW 25～60mW/cm2，2 KW 15～30mW/cm2
400nm输出光束强度 5KW 50～100mW/cm2，2 KW30～50mW/cm2
可调节曝光时间 0.1～999.9s
范围观察 显微镜/CCD相机安装（480～1000倍可变放大,1600倍可选）
电动观察范围移动 显微镜x、y、z电动操作（手柄控制）
电动样品台 样品台x、y、z、Theta电动操作
卡盘移动 大范围。静态对准工具模块进行x、y、z、Theta移动
卡盘水平 楔形误差补偿（楔形位置自动感应，压力传感器，警报）
基片尺寸 直至14″× 14″
掩模板规格 可替换的直至15″× 15″
真空卡盘移动 x、y：10mm；Theta：4×
Z向移动距离 10mm
接触模式 接近式、软接触式、硬接触式、真空接触式（真空接触力可调节）
接近调节 1μm步进可调节程序化控制系统
对准精度 1μm
显示器 17″触屏
气动控制 基片、掩膜、接触、接触调节、卡盘锁、N2、N2调节
分辨率 1μm（真空接触下近紫外）
摆放 防震桌
选件 CCD BSA、DUV、紫外强度计
 
工商信息

企业名称

陕西思的信息资讯有限公司

企业信息已认证

企业类型

信用代码

610000100148177

成立日期

2008-10-14

注册资本

100

经营范围

2-庚酮、环己酮、正丁醇、苯甲醚、环戊酮、乙酸[含量>80%]、丙二醇乙醚、甲硫醚、乙酸正丁酯、乙二醇异丙醚、丙酸乙酯、乙酸正丙酯(剧毒化学品、成品油、易制爆危险化学品除外)(无储存场所)(危险化学品经营许可证有效期至2020年12月26日);货物与技术的进出口经营(国家限制、禁止和须经审批进出口的货物和技术除外);机电设备、仪器仪表、科研仪器、精细化学品、化工产品及化工原材料(不含危险、监控、易制毒化学品)、工业设备的销售;计算机软硬件的开发、销售;计算机系统集成(须经审批除外);网站的开发、建设;广告的设计、制作、代理、发布(须经审批除外);企业营销策划;市场营销策划;展览展示活动的组织、策划;公关咨询;光刻工艺设备、颗粒表征仪器、干法蚀刻设备和湿法蚀刻设备的售后维修、服务。(依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动)

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西安市高新区高新路65号信力大厦11105室

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公司地址： 西安市高新区高新路65号信力大厦11105室 联系人： 邮编： 710075

主营产品：

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