透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口

透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口 

产品概述：
与X射线用氮化硅窗口类似，透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗口也使用低应力氮化硅薄膜基底。但整体尺度更小，适合TEM装样的要求。窗口有单窗口和多窗口阵列等不同规格。同时NTI也定制多孔氮化硅薄膜窗口。

  

现在可以提供透射电镜（TEM）用氮化硅薄膜窗系列产品，规格如下：
外框尺寸:
• 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：0.5 mm，薄膜厚度：30 nm)
• 3 mm x 3 mm (窗口尺寸：1.0 mm，薄膜厚度：50 nm)
边框厚度： 200µm、381µm。
Si3N4薄膜厚度： 50nm、100nm
可以为用户定制产品(30-200nm)，但要100片起订。
本产品为一次性产品，不建议用户重复使用，本产品不能进行超声清洗，适合化学清洗、辉光放电和等离子体清洗。
 
技术指标： 

表面平整度：
我们认为薄膜与其下的硅片同样平整， TEM用氮化硅薄膜窗口的表面粗糙度为：0.6-2nm。完全适用于TEM表征。

亲水性： 
该窗格呈疏水性，如果样品取自水悬浮液，悬浮微粒则不能均匀地分布在薄膜上。用等离子蚀刻机对薄膜进行亲水处理，可暂时获得亲水效果。虽然没有对其使用寿命进行过测试，但预期可以获得与同样处理的镀碳TEM网格相当的寿命。我们可以生产此种蚀刻窗格，但无法保证其使用寿命。如果实验室有蚀刻工具也可对其进行相应的处理提高其亲水性能。

温度特性：
氮化硅薄膜窗口产品是耐高温产品，能够承受1000度高温，非常适合在其表面利用CVD方法生长各种纳米材料。

化学特性：
氮化硅薄膜窗口是惰性衬底。

应用简介和优点：
1、 适合TEM、SEM、AFM、XPS、EDX等的对同一区域的交叉配对表征。
2、 大窗口尺寸，适合TEM大角度转动观察。
3、 无碳、无杂质的清洁TEM观测平台。
4、 背景氮化硅无定形、无特征。
5、 耐高温、惰性衬底，适应各种聚合物、纳米材料、半导体材料、光学晶体材料和功能薄膜材料的制备环境，（薄膜直接沉积在窗口上）。
6、 生物和湿细胞样本的理想承载体。特别是在等离子体处理后，窗口具有很好的亲水性。。
7、 耐高温、惰性衬底，也可以用于化学反应和退火效应的原位表征。
8、 适合做为胶体、气凝胶、有机材料和纳米颗粒等的表征实验承载体。

详细请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com