一款新型的真空干燥箱推介

上海和呈仪器

2012/06/18 10:47

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      这款新型的真空干燥箱是由上海和呈研发部门推出的一款真空干燥箱，该款干燥箱无论从外观设计还是功能结构上都和以前有很大的不同。
     HMDS-6090结构介绍
     1、机外壳采用医用级不锈钢316L材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。
    2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。
    3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。
    4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。
    5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。
    6、整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。
    产品技术参数：
电源电压：AC 380V±10%/50Hz±2%
输入功率：3000W
控温范围：室温+10℃-250℃
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：±0.5℃
达到真空度：133Pa
容积：90L
工作室尺寸（mm）：450*450*450
外形尺寸（mm）：615*590*1470
载物托架：2块
时间单位：分钟
真空泵：国内品牌，上海“慕鸿”型号：DM-4，旋片式油泵。
     这款干燥箱和其他设备相比具有添加了
       1. HMDS 预处理系统
     HMDS 预处理系统必要性
    在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
2.HMDS-6000系列预处理系统的一般工作流程：
    首先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真牢度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，冉次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：首先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。
    欲了解更多信息可以访问：http://www.hasuc.cn

HASUC主营：真空干燥箱、真空烘箱、真空烤箱、鼓风干燥箱、高温干燥箱、恒温干燥箱、电热恒温干燥箱、电热恒温鼓风干燥箱、电炉、电阻炉、马弗炉、恒温摇床、净化台、洁净工作台、高温炉、生物安全柜、恒温振荡器、摇床、箱式电阻炉、恒温培养摇床、高温电炉、高温电阻炉、高温箱、高低温试验箱、高低温交变试验箱、高低温冲击试验箱、恒温恒湿机、高低温箱、低温箱、恒温恒湿试验箱、高温箱、高低温湿热试验箱、高低温交变湿热试验箱、光照培养箱、恒温恒湿箱、生化培养箱、恒温恒湿试验机、恒温槽等产品。欢迎来电来函咨询。