高精度薄膜测量设备

应用于IC、半导体制造及科研开发等领域

覆盖生产线上所有非金属薄膜

多参数和多层膜测量

Nanothi 100技术规格

可测薄膜

可测膜层 Oxide、Nitride、BPSG、PR、PI、Polymer、Polysilicon、ITO等
膜层结构 Oxide/Si、PR/Si、Nitride/Si、Polysilicon/Oxide/Si 等单、多层结构
测量参数 T，N，K，R
测量范围 25nm - 20µm (Oxide/Si)

硬件规格

光谱范围 400-800nm
物镜倍率 4X 10X 40X
光斑尺寸 最小30µm
机械分辨率 X：1µm， Y：1µm， Z：0.04µm

测量指标
250Å－2000Å 2000Å－20µm
准确度 ±1％ ±1％
重复性（3б） 0.75Å 0.05％
稳定性（3б） 2.4Å 0.25％
测量时间 单点 < 3sec， 5点 <30sec

先进的光学测量技术

高精度、高重复性测量

稳定、使用寿命长且低成本的光源

高性能PDA

自动调焦

三维全自动机械平台

贴近生产实际操作习惯的软件系统，为测量提供快捷、方便易用的操作

数据的准确测量与实时评价