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广州竞赢化工科技有限公司
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解决方案
等离子增强原子层沉积系统沉积高均匀性和高保型性介电薄膜
应用领域
电子/电气检测样品
电子元器件产品检测项目
超薄膜沉积★超薄，纳米尺度介电薄膜与金属／金属性薄膜是MEMS/NEMS器件、其它IC部件，传感器，光学器件或催化剂关键部件
★IC业中的高精度30器件， 如高深宽比沟槽与穿透性硅通孔， ALO工艺是唯可以在这些器件上实现高保形，平整，无缺陷，无针孔的薄膜材料。
★可规模化生产的ALO工艺， 几种金属／金属性材料与介电材料： Pt, Ir, Ru, Cu, Ag, Au, TiN, AIN, TiAIN, ln203与Al203.
★沉积工艺可选：传统热ALO或者等离子增强ALD。
共1台
