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超高真空用腔体-真空脱气处理 (UHV-Chamber)

滨州创元设备

2012/11/18 10:44

阅读：901

分享：

 真空脱气处理

  真空脱气处理是对真空腔体/零件等在真空中进行加热，减少实际
使用时的真空容器内
壁以及内部零件材料的气体放出，即使腔体达到良好环境的前处理。

  真空脱气处理采用每秒3000升的涡轮分子泵，Qmass可精确控制残
留气体。脱气处理后进行高精密脱脂清洗处理。

另外，对磁耦合样品传输装置、驱动器、XY水平位移台等真空驱动装
置也实施真空脱气处理，提供良好真空环境。
对要求到达真空度E-9Pa～E-10Pa级的腔体，可减小启动烘烤温度值和

加热时间。
 
有效尺寸
750x750x750（mm）以下
烘烤温度
≦450℃（溶解波纹管制品≦250℃）
加热时间
450℃-10小时
温度控制
程序式温度调节器
冷却方式
自然冷却
气体
Ar
到达真空度 加热处理中的真空度
10-7Pa
排气系统
5.0x10-5Pa

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