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《全反射X荧光分析技术(TRXF)》

2007-12-24 11:20

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资料摘要:

  全反射X荧光分析技术,是一种在X荧光分析技术基础上发展起来的全新技术,其主要特征是通过反射技术去掉在通常X荧光分析中高能散射本底的影响,提高了分析灵敏度,分析刻度简单,分析样品量少(微克量级),设备简单,于八十年代中期开始出现商品。
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购买设备实际是购买能满足用户需求的某类功能,厂家出售的是能实现这类功能的设备。人们总是选购物美价廉、结实耐用、售后服务优良的产品。产品从购买、使用到若干年后,由于技术进步,完成同样功能的新产品出现,旧设备因精度低、效果差、无附件维修而停止使用,这种寿命周期叫经济寿命周期,寿命周期常指此类。

全反射X荧儿(TXRF)分析技术是十多年前才发展起来的多元素同时分析技术,它突出的优点是检出限低(pg、ng/mL 级以下)、用样量少(Μl、ng级)、准确高度(可用内标法)、简便、快速,而且要进行无损分析,成为一种不可替代的全亲的元素分析方法。 国际上每两年召开一次TXRF分析技术国际讨论会。该技术被誉为在分析领域是最具有竞争力的分析手段,在原子谱仪领域内处于领先地位。从整个分析领域看,与质谱仪中的ICP-MS和GDMS、原子吸收谱仪中的ETAAS和EAAS以及中子活化分析NAA等方法相比较,TXRF分析在检出限低、定量性好、用样量少、快速、简便、经济、多元素同时分析等方面有着综合优势。在X荧光谱仪范围内,能谱仪(XRF)和波谱仪(WXRF)在最低检出限、定量性、简便性、准确性、经济性等方面,都明显比TXRF差。在表面分析领域内,尤其在微电子工业的大面积硅片表面质量控制中,TXRF已在国际上得到广泛应用。

在产品检验、原材料的质量标准或生产过程的中间控制分析中,你可能已经注意到要求进行“XRD分析”的地方日渐多起来了。

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