第二场显微分析应用系列报告旨在分享氙离子FIB的特点及各个领域的应用,尤其是半导体行业。
先来回顾下清华大学徐晓明老师的精彩内容。
完美实现原位的
微区综合分析表征
TESCAN 是全球首家将等离子 FIB 集成到扫描电子显微镜(SEM)中的制造商,早在2011年就推出了FERA,并于2019年底推出了新一代的 AMBER X 和 SOLARIS X。其中 AMBER X 将可用于样品精确加工的氙等离子体 FIB 和无漏磁的超高分辨成像的 SEM完美地结合,应用于各类材料的显微结构表征。氙等离子体 FIB 与传统的金属镓离子的 FIB 相比,大离子束流上的束斑更小。因此,它可以用更快的速度完成样品切削工作的同时,仍然能完成精细加工和抛光,并实现15 nm的高分辨率成像。
除此之外,其另一个强大的功能是与其它附件(拉曼图像-RISE、TOF-SIMS)联用,帮助完美实现原位的微区综合分析表征。
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会议 • 详情 《氙等离子体FIB的技术特点及其在不同领域中的应用》 徐晓明 清华大学材料科学与工程研究院中心,高级工程师 徐老师的报告从双束电镜的组成出发,列举了成像、切割、沉积的三种功能以及常见的5种应用方向: 截面制备 微纳加工 透射样品制备 三维重构 与TOF-SIMS和拉曼联用 并通过丰富的案例展示了:Xe等离子体的大体积加工能力,无Ga离子注入以及较小的非晶化损伤的优势,这些应用案例涉及金属材料、锂电池等行业;而Xe等离子体FIB与拉曼图像-RISE、TOF-SIMS联用,可以完美实现原位的微区综合分析表征。详细报告回放,请搜索“中国电镜用户之家”查看会议视频回放。 此次报告希望能为专家和老师提供一个学习的平台,TESCAN始终秉持成就客户,服务科研的核心价值观。我们下一期再见!
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