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应用于高等院校教学与电化学机理研究、也可应用于科研院所、生物、材料、制药、环境生态学等领域。
技术参数：
恒电位范围：±6.5V；
恒电流范围：±100mA；
电流测量下限:10pA；
扫描速度:0.01mV/s－5000V/s；
最小分辨力：0.01mV；
电流测量范围：±20mA/V－±1nA/V；
采样间隔：0.0001－60000s；
槽压：±28V
方波频率：0.001Hz---100KHz；
正弦波频率：0.1mHz---100kHz；
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天津兰力科：磁诱导下氧化亚铜晶体的制备及表征
在恒定磁场的诱导下，恒电流电沉积制备了氧化亚铜晶体，X射线衍射和X射线光电子能谱仪的测定结果表明，电沉积制备的氧化亚铜为纯净、立方晶系的氧化亚铜晶体；扫描电子显微镜分析结果表明，有无磁场电沉积时，氧化亚铜均表现为多面体聚集，但电结晶行为表现不同，在磁诱导下氧化亚铜电结晶经向生长的速率明显优于轴向生长，并出现空孔现象。
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2017/10/31
企业名称
天津市兰力科化学电子高技术有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
120104000079050
成立日期
1998-11-13
注册资本
500
经营范围
新材料、机电一体化、生物医学工程、能源技术及产品的开发、咨询、服务、转让;化工(危险品、易制毒品除外)、电器设备批发兼零售;化学分析仪器、化工设备制造。(国家有专营专项规定的按专营专项规定办理)
天津市兰力科化学电子高技术有限公司
公司地址
天津市华苑产业园区榕苑路15号4-C-901
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公司地址： 天津市华苑产业园区榕苑路15号4-C-901 联系人： 孙建东 邮编： 300190
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