KRI 射频离子源在光学加工中具有高的去除率和好的稳定性

离子束抛光技术已经成为光学表面超精加工中常用的最后一道工序, 原子量级的材料去除使得离子束抛光加工具有纳米、亚纳米级别的加工精度. 离子束抛光系统中的核心部件是离子源, 离子源的性能直接决定了该离子束机床的修形能力.

去除函数, 是光学面形确定性加工的基础, 去除函数指的是单位时间内材料去除量在空间上的分布函数, 反应材料的去除速率. 影响光学表面抛光加工精度的主要因素之一是去除函数的形状、稳定性以及峰值去除率. 高斯型的去除函数是光学镜面抛光加工最理想的去除函数形状.

KRI 射频离子源在光学加工中具有高的去除率和稳定性

在光学加工中, 伯东工程师推荐使用 KRI 射频离子源, 其主要优点有:

1. 不使用阴极, 靠射频辐射激发等离子体, 因此, 不受使用气体的限制, 工作寿命也较长.

2. 射频离子源是无极放电的离子源, 因此不存在阴极消耗, 使用寿命较长, 对被加工工件的污染可大大减少; 

3. 射频感应生产的等离子体中只有单荷离子, 几乎没有双荷离子, 因此, 离子对屏栅的溅射较小, 也增加了束流的均匀性.

伯东代理美国考夫曼公司 KRI 离子源, 可选的射频离子源类型多, 客户可根据自己的工艺选择所对应之型号: 射频离子源 RFICP 380, 射频离子源 RFICP 220, 射频离子源 RFICP 140, 射频离子源 RFICP 100, 射频离子源 RFICP 40

结果:

通过实际应用表明, 射频离子源去除函数的形状为回转高斯形, 在靶距为30mm, 离子能量为 900eV时, 去除函数的峰值去除率 194nm/min, 体积去除率为19.2x10^-3mm³/min, 半峰全宽值为9.2mm; 并且去除函数的峰值去除率与体积去除率的变化均在3%以内, 半峰全宽值的变化在1.7%以内.

因此, 射频离子源具有光学镜面抛光加工所需的去除效率, 而且射频离子源具有好的稳定性, 具备光学加工的潜能.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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