inTEST ATS-535 全球唯一集成空压机的高低温冲击机 上海伯东代理美国 inTEST ThermoStream ATS-535 是目前全球唯一内部集成空压机的高低温冲击机 ( 热流仪 ),整机噪音 inTEST ATS-535 高低温冲击机典型应用:上海伯东某主要研发生产电源管理芯片 Power Management Integrated Circuits 公司, 因场地噪音限制, 严禁使用空压机, 通过伯东推荐采购 ATS-535 成功实现电源管理芯片的高低温冲击试验. 经过测试的芯片广泛应用于卫星通讯, 定位系统, 安防等领域.inTEST ATS-535 高低温冲击机测试过程1. 将待测芯片放置于已做好的工装中.2. 将 sensor 一端连接热流罩上对应接口, 一端与芯片表面接触3. 将 ATS-535 热流罩转到工装平台并下压固定4. 启动 ATS-535 高低温冲击机加热至需要测试的温度点5. 启动芯片测试设备对芯片在 -55度及 +125度下进行性能测试并记录数据inTEST ATS-535 高低温冲击机参数高低温冲击范围-60至+ 225°C变温速率-40至+ 125°C +125至-40°C 系统气流输出*5scfm（2.4l / s）固定流量温度显示和分辨率+/- 0.1°C温度精度1.0°C（根据  NIST 标准校准时）DUT 温度控制专有的控制算法可直接控制 DUT 温度DUT 传感器端口热电偶：T＆K型电源制冷机功率：220±10％VAC 50 / 60Hz 16amp压缩机功率：220±10％VAC 50 / 60Hz 30amp工作温度+ 20°至+ 28°C; +23°C 标称值湿度0至60％;  额定值的45％尺寸194.7cm（76.7inch）X 61.7cm（24.3inch）X 108.6cm（42.8inch）重量249.5kg（550lbs）鉴于客户信息保密, 若您需要进一步的了解 inTEST 高低温冲击机, 请联络上海伯东叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

上海伯东 Europlasma 实现 TWS 蓝牙耳机 IPX8 级防水真无线立体声蓝牙耳机, 简称 TWS 耳机 True Wireless Stereo, 依据应用场景, TWS 耳机在生产工艺上需要实现防水, 防雨, 防潮以及防汗液腐蚀等功能. 因 TWS 耳机体积小, 内部芯片体积更小, 耳机形状多变, 接缝形式比较复杂等因素, 传统的电子产品防水工艺比如刷三防漆, 派瑞林等都很难实现 IPX8 级防护.上海伯东 Europlasma 提供组合式的等离子体纳米防水镀膜方案, 同一台设备可以同时完成以下两种镀膜工艺, 只需要更换不同的化学前体, 即可实现最高 IPX7 级防水.1. 机型: CD1000 Nanofics@ 2. Control PCB 采用 2μm Nanofics@ 120S 拒水镀膜工艺 Barrier coating 3. TWS 耳机整体采用 Nanofics@ 120 疏水镀膜工艺 Hydrophobic coating 4. 镀膜完成后, 不影响耳机本身的性能, 并实现均匀性涂覆.上海伯东代理比利时 Europlasma 低压等离子真空镀膜系统 PECVD, 利用低压等离子体沉积超薄纳米涂层, 实现产品的防水, 防腐蚀等功能, 现已广泛应用于 TWS 耳机行业, 例如 Apple, JBL, SONOS,  Jaybird (Logitech) 等, 实现 IPX0 - IPX8 级的全方面防护.若您需要进一步的了解 Europlasma 详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士,分机109现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士,分机109上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 

上海伯东 Europlasma 无卤素涂层设备实现助听器 IP68 等级防水2021年 Europlasma 获得了丹麦知名助听器公司的追加订单, 提高了其在医疗设备纳米防水涂层 Hydrophobic nanocoating 市场的主导地位. Europlasma 专利 Nanofics@ 纳米涂层技术凭借其纳米涂层的灵活性, 高通量和可靠性正成为全球助听器市场的优质选择, 纳米涂层防护等级最高可达 IP68.上海伯东 Europlasma 在助听器行业, 有着非常丰富的纳米涂层防护解决方案. 2020年7月欧盟开始执行最新的 REACH Annex XVII 法案, 其中对于卤素的定义有了更严格的规定, Europlasma 是全球第一家提供商用化无卤素等离子涂层设备 Halogen Free Plasma Nanocoating 的公司并申请专利 PlasmaGuard@, 满足助听器领域可持续和环保涂料的需求.Europlasma 等离子纳米涂层类型类型市场功能涂层厚度防水等级Nanofics® 110电子, 医疗, 过滤水接触角 WCA > 110°, Oil>4疏水, 疏油50-500 nmIPX2 - IPX4Nanofics® 120电子, 医疗, 过滤水接触角 WCA > 120°, Oil>7疏水, 疏油50-500 nmIPX2 - IPX4Nanofics® S电子防水, 防汗1-5 µmIPX5 – IPX8Nanofics® SE电子防盐水, 耐腐蚀1-5 µmIPX5 – IPX8PlasmaGuard®运动. 户外, 电子防水 防汗水 防盐水, 无卤素1-5μmIPX5 - IPX8Nanofics® 10医疗, 活化, 过滤水接触角 WCA 10-50 nm亲水特性 WCA＜10°上海伯东代理比利时 Europlasma 等离子涂层设备在可穿戴和消费电子行业深耕多年, 协助众多知名品牌, 如: 无线蓝牙耳机,户外运动装备, 电子眼镜, 助听器, MP3, 手机等产品实现 IPX8 等级防水！上海伯东 Europlasma 根据您产品的实际应用选择合适的机型和涂覆材料！ 若您需要进一步的了解 Europlasma 详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士,分机109现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 

Europlasma 纳米涂层技术 Nanofics@ 生物医药应用案例 上海伯东代理比利时 Europlasma 专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 通过沉积超薄纳米涂层, 实现生物医药行业产品的亲水hydrophilic 特性. 其中 Nanofics@ 10 水接触角 WCA Europlasma 纳米涂层技术 Nanofics@ 生物医药典型案例1. 人体植入 Implants 2. 医用敷料3. 微流量设备 Microfluidic devices 4. 输血 Blood filtering 5. 医疗器械活化 ActivationEuroplasma Nanofics@ 10 应用于人体植入适用于心脏瓣膜, 人工晶体, 人造血管, 人造骨骼,人造关节, 各种类型的植入型导管, 过滤器,各种手术应用的修复网格.通过使用 Europlasma Nanofics@ 10 实现:1. 减少植入物的细菌粘附, 从而减少感染的机会;2. 减少植入物的生物刺激;3. 附着生物分子, 促进骨骼生长, 组织生长或其他减少血液的黏附或阻塞;4. 减少蛋白质粘附, 提高生物分析设备的效率;5. 可以控制药物的释放效率Europlasma Nanofics 10 应用于医用敷料 适用于膏药或外敷贴片,化妆品的纸巾,湿巾等;生理液体 (如尿液或血液)的绷带, 敷料或吸水垫(如卫生巾, 卫生棉条); 用于伤口护理的绷带或敷料等.通过使用 Europlasma Nanofics 10 实现:1. 改善创伤面敷料的湿润性2. 与含银伤口敷料中的抗菌银离子协同作用3. 可以降低微生物对纤维或基质的粘附4. 亲水层改善滑动行为，提供较低的机械创伤应力5. 涂层纤维或基质上的液体薄膜可以防止新形成的组织进入基Europlasma Nanofics@ 10 应用于输血适用于(体外)血液过滤和回流回路, 血液分析, 血液透析系统,输血设备, 血液滤过/透析, 植入式血液过滤器, 植入式血泵, 一次性心脏手术用品, 手术设备组件, 吸入排水系统通过使用 Europlasma Nanofics 10 实现:Nanofics®10镀膜和活化是同时完成的, 防止阻塞血液过滤器, 更重要的是不会形成血凝块(其他类型的应用于过滤材料的镀膜过程都是2步完成, 第一步是把膜浸入溶液中,第二步再执行一个激励的步骤. 简而言之就是通过单步镀膜的过程减少纤维蛋白原吸附.Europlasma Nanofics@ 10 应用于微流量设备适用于生化分析 ( 实验室芯片 ), 医用微反应器, 医用微混合器, 医用微型泵, 医用微型阀通过使用 Europlasma Nanofics 10 实现:1. 提高毛细管性能2. 提高体液生物相容性Europlasma Nanofics@ 10 应用于医疗器械活化 适用于上胶前激活, 如针座活化, 打印前激活, 如导管, 通过活化提高板的润湿性, 使细胞生长 静脉输液器的输液器末端输液针在使用过程中, 拔出时针座与针管之间会出现脱离现象, 一旦脱离, 血液会随针管流出, 如不及时正确处理, 对病人会造成严重威胁. 为了避免这类事故的发生, 对针座进行表面处理是非常必要的, 针座孔非常小, 普通方法难处理, 通过使用伯东 Europlasma 等离子设备对微小的孔也进行活化处理, 可改善表面活性，提高其与针管的粘接强度, 以确保它们之间不会脱离.上海伯东代理 Europlasma 等离子体涂层技术 Nanofics@ 已经成功地工业化, 轧制宽度从0.5米到2.5米. 通过专有的 PECVD 技术, 超薄涂层被均匀地应用在能够穿透复杂形状材料或产品的核心, 如 PCB, 电子设备, 滤膜或技术纺织品. 涂层的独特沉积方式使其具有卓越的功能性能. 此外, 这些涂层非常薄, 不可见, 也不会改变产品的其他特性.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！

Europlasma 等离子设备针座活化应用上海伯东代理比利时 Europlasma 专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 通过沉积超薄纳米涂层, 实现生物医药行业产品的亲水 hydrophilic 特性. 其中 Nanofics@10 水接触角 WCA 静脉输液器的输液器末端输液针在使用过程中, 拔出时针座与针管之间会出现脱离现象, 一旦脱离, 血液会随针管流出, 如不及时正确处理, 对病人会造成严重威胁. 为了避免这类事故的发生, 对针座进行表面处理是非常必要的, 针座孔非常小, 普通方法难处理, 通过使用伯东 Europlasma 等离子设备对微小的孔进行活化处理, 可改善表面活性，提高其与针管的粘接强度, 以确保它们之间不会脱离.Europlasma 等离子体涂层技术 Nanofics@ 提供不同应用涂层类型市场功能涂层厚度Nanofics® 110电子 / 医疗 / 过滤水接触角 WCA > 110°, Oil>4, 疏水, 疏油50-500 nmNanofics® 120电子/ 医疗 / 过滤水接触角 WCA > 120°, Oil>7, 疏水, 疏油50-500 nmNanofics® S电子防水, 防汗1-5 µmNanofics® SE电子防盐水，耐腐蚀1-5 µmPlasmaGuard®运动 +户外耐久拒水, 无卤素1-5μmNanofics® 10医疗 / 过滤水接触角 WCA 10-50 nm上海伯东 Europlasma 真空条件下, 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆!若您需要进一步的了解 Europlasma , 请参考以下联络方式： 上海伯东: 叶女士                             台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-3511 ext 109         T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                      F: +886-3-567-0049 M: +86 1391-883-7267                   M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                    ec@hakuto.com.tw qq: 2821409400现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！

Europlasma 纳米涂层技术 Nanofics@ 实现消费电子产品防水, 防汗功能 随着消费电子产品的普及率不断提高, 电子产品的使用环境要求也越来越苛刻, 运动无线蓝牙耳机, 蓝牙音箱, 手机, 智能穿戴, 运动 AR 眼镜, 无人机等相关电子产品的防水处理以及防汗液处理的要求也在提高. 需要实现 IPX 2-8 的防水等级！ 上海伯东代理 Europlasma 超薄等离子体表面处理设备提供专利 Nanofics@ 110/120, Nanofics@ S, Nanofics@SE 三款不同涂层为消费电子产品提供 IP68 防护等级, 实现防水及防汗液功能！ 随着全球对于环保要求的不断提高, 欧盟于 2020年7月执行新的法规 REACH Annex XVII, 对于销往欧盟的产品中的卤素种类和含量进行限制. 上海伯东 Europlasma 推出了全球第一款无卤素真空镀膜方案 PlasmaGuard S/SE, 该解决方案可以完全满足欧盟对于无卤素的法案要求.规格Nanofics 120Nanofics 110WCA 水接触角ASTM D5964>120°>110°疏油ISO14419-2010L8L5消费电子产品客户案例: MP3 播放器浸水实验, IP 等级防水消费电子产品客户案例: 手机浸水实验, IP 等级防水若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士,分机109现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 

Europlasma 纳米涂层技术 Nanofics@ 实现可穿戴智能眼镜防水 近年来, 人们对可穿戴技术 (包括眼镜领域) 的兴趣与日俱增, 可穿戴技术的发展也日新月异, 上海伯东代理 Europlasma 纳米涂层技术 Nanofics@ 一直用于日本某知名智能眼镜生产研发中, 该公司新研发一触式电子对焦眼镜, 利用电力提供更舒适的视觉效果, 用于近距和远距视觉.乍一看, 这似乎只是一副时尚的眼镜, 但隐藏在框架中的是电路. 通过触摸安装在镜腿中的传感器, 液晶透镜被激活, 从而使眼镜可以将焦点从远处改变为瞬间闭合. 通过使用伯东 Europlasma 纳米涂层技术 Nanofics@ 实现智能眼镜防水功能.上海伯东代理 Europlasma 等离子体涂层技术 Nanofics@ 已经成功地工业化, 轧制宽度从0.5米到2.5米. 通过专有的 PECVD 技术, 超薄涂层被均匀地应用在能够穿透复杂形状材料或产品的核心, 如 PCB, 电子设备, 滤膜或技术纺织品. 涂层的独特沉积方式使其具有卓越的功能性能. 此外, 这些涂层非常薄, 不可见, 也不会改变产品的其他特性.Europlasma 等离子体涂层技术 Nanofics@类型市场功能Nanofics® 110电子 / 医疗 / 过滤疏水 WCA > 110°Nanofics® 120电子/ 医疗 / 过滤疏水 WCA > 120°Nanofics® S电子带有疏水表层的防水屏障涂层Nanofics® SE电子带有疏水表层的防汗屏障涂层PlasmaGuard®运动 +户外耐久拒水Nanofics® 10医疗 / 过滤亲水 WCA 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士上海伯东版权所有, 翻拷必究！  

Europlasma 等离子体涂层技术 Nanofics@自1993年成立以来, Europlasma一直是世界级低压等离子体技术设计和生产的创新者之一.  在比利时总部设计和生产所有的设备, 拥有全套产品整合的独特优势.在过去的十年里, Europlasma 公司开发了一项专利技术 Nanofics@, 利用低压等离子体沉积超薄纳米涂层, 这一过程被称为等离子体增强化学气相沉积 PECVD, 也被称为等离子体聚合. Europlasma 在将纳米涂层应用于三维物体以及通过专利电极设计缠绕和解开纺织品的卷筒织物上的能力上海伯东代理 Europlasma 等离子体涂层技术 Nanofics@ 已经成功地工业化, 轧制宽度从0.5米到2.5米. 通过专有的 PECVD 技术, 超薄涂层被均匀地应用在能够穿透复杂形状材料或产品的核心, 如 PCB, 电子设备, 滤膜或技术纺织品. 涂层的独特沉积方式使其具有卓越的功能性能. 此外, 这些涂层非常薄, 不可见, 也不会改变产品的其他特性.Europlasma 等离子体涂层技术 Nanofics@类型市场功能Nanofics® 110电子 / 医疗 / 过滤疏水 WCA > 110°Nanofics® 120电子/ 医疗 / 过滤疏水 WCA > 120°Nanofics® S电子带有疏水表层的防水屏障涂层Nanofics® SE电子带有疏水表层的防汗屏障涂层PlasmaGuard®运动 +户外耐久拒水Nanofics® 10医疗 / 过滤亲水 WCA 等离子体是物质的第四种基本状态, 仅次于固体, 液体和气体. 在物质的这个阶段, 它以离子和自由电子的气体形式存在, 并且具有高度的导电性. 虽然宇宙中有大量的等离子体, 但在地球上, 自然发生的情况相对较少. 闪电, 静电和极光是地球上天然等离子体的主要来源. 等离子体可以以不同的方式产生, 姐妹公司CPI, 专门从事大气压下得等离子体. Europlasma专注于低压(真空)等离子体.自20世纪90年代以来, Europlasma一直研发生产低压等离子体设备, 用于各种表面处理:- 清洁: 去除表面的分子污染层- 蚀刻: 表面材料的去除 (几个 nm 可达 1µm )- 活化: 在上胶， 涂漆或粘接前对表面进行化学修饰- 等离子体纳米涂层若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士

Europlasma 无卤素涂层技术 PlasmaGuard®上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 推出世界上第一台无卤素等离子纳米涂层设备, 提供表面涂层和防护涂层, 无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 持久防水, 无卤疏水涂层 WCA >120°, 适用于消费电子, 锂电池防渗涂层和户外运动行业.Europlasma 使用 PECVD 等离子体增强化学气相沉积法原理, 在产品表面进行涂覆. 2016年在涂层研发中取得重大突破, 研发生产世界第一台无卤素涂层设备并申请专利 PlasmaGuard®. 这种涂层不仅具有极强的阻隔能力, 而且完全不含任何卤素.无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 属性:不含任何卤素iz-axis 导电 生物相容性符合 ISO 10993-5按照 ISO 10993-10 标准不敏感 达到 svhc 的标准 符合 rohs 和 WEEE 要求 允许优异的膜透气性 ( Ret 值 0.9 根据 ISO11092)对声学没有听觉影响 非常耐磨损Plasma Guard® 符合欧盟有害物质限制 RoHS 和化学品 REACH 指令Europlasma 无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 包含2种型号: PlasmaGuard® S 是一种高度疏水的表面涂层;PlasmaGuard® E 是一种电子产品防护涂层. 完全不含任何 VOC, 铅或其他金属.型号PlasmaGuard® SPlasmaGuard® E应用运动户外电子产品性能高度疏水表面涂层 WCA > 120°防护涂层, 高度疏水涂层厚度厚度一般在 100 到 200纳米之间.1微米特点超薄纳米涂层 适用于各种各样的材料, 包括电子, 塑料, 纺织品和医疗设备.优良的介电性能 化学和防潮性能 完全不会引起排斥 超薄, 真正保形涂层 无针孔裂缝渗透能力 非常环保和可持续的涂层卤素元素是指氟F, 氯Cl, 溴Br, 碘I, 砹At, 和石田 (Ts 元素周期表117号卤素). 许多保形涂料, 包括对二甲苯, 都含有这些危险的化学物质. 全球范围内, 消除电子产品中的卤素是一种趋势, 通过使用 Europlasma 无卤素涂层技术 PlasmaGuard® 使这一点变得更容易.上海伯东 Europlasma 根据您产品的实际应用选择合适的机型和涂覆材料！ 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士,分机109

Europlasma 公司介绍 上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 是基于低压等离子技术的创新超薄纳米涂层设备. 专利等离子体涂层技术 Nanofics@ 和无卤素涂层技术 PlasmaGuard®. Europlasma 凭借超过25年的低压等离子体技术经验, 设计和生产真空等离子处理设备, 实现涂覆产品 IPX5 - IPX8 防水等级！Europlasma 提供各种规格的涂层设备, 等离子体室从 50升 到 2000升不等. 满足工业生产需要, Europlasma 还提供独特的卷绕涂层设备, 用于处理复杂电路, 薄膜, 织物和非织造布. 不论是非常小的特殊材料卷到大型织物卷 (宽度可达 2500毫米) 上海伯东 Europlasma 根据您产品的实际应用选择合适的机型和涂覆材料！CD 1000 ( 等离子体室 1000 x 700 x 700 mm )                         CD 2400 ( 卷绕式 2400毫米 )Europlasma 纳米涂层设备特点: 真空条件下, Europlasma 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆.产品一致性强, 循环周期最短 可灵活集成到生产工艺中 穿透复杂的结构, 并覆盖所有表面, 包括锐利的边缘 所有表面都覆盖, 包括液体涂层无法触及的区域, 如深空腔和其他难以触及的区域 超薄涂层不会损坏被涂层的易碎物品, 如声学元件推出世界第一台 PlasmaGuard® 无卤素涂层设备, 更加安全, 环保！Europlasma 拥有先进的技术和不断增长的各项专利申请, 提高纳米涂层设备工艺技术!Europlasma 纳米涂层设备适用于涂覆如下产品:1. 可穿戴电子设备: 无线耳机, 手环, 手表等2. 薄膜: 锂电池行业, 精密仪器等3. 无纺布和功能性纺织物: 运动户外产品4. PCB 元器件5. 医用器材: 医用导管, 口罩, 其他防护设备等.Europlasma 拥有各种类型的化学原料, 包括氟化学产品( Nanofics 120 含 PFOA, Nanofics 110 不含 PFOA ) 和无卤素化学产品 ( Nanofics 10 以及 PlasmaGuard® 无卤素涂层技术), 提供定制设计. 同时姐妹公司 CPI 是基于薄膜基板的大气条件下, 提供高速等离子体卷绕解决方案的公司.若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请联络上海伯东叶女士,分机109上海伯东版权所有, 翻拷必究！

WS2 作为一种固体润滑材料, 有着类似“三明治”层状的六方晶体结构, 由于通过微弱范德华力结合的S—W—S层间距较大, 在发生摩擦行为时易于滑动而达到优异的润滑效果. WS2对金属表面吸附力强, 且摩擦系数较低, 在高温高压、高真空、高辐射等严苛环境也能保持润滑, 不易失效, 在航空航天领域有着良好的发展前景. 河南某大学研究室采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380  辅助磁控溅射 WS2 薄膜, 目的研究不同沉积压力对磁控溅射 WS2 薄膜微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响. KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:射频离子源型号RFICP380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000 在磁控溅射沉积薄膜的实验中, 工艺参数（如沉积压力、沉积温度、溅射功率等）对 WS2 薄膜的结构和性能影响很大. 为制备摩擦磨损性能优良的 WS2 薄膜, 需要系统研究磁控溅射沉积 WS2 薄膜的工艺方法.磁控溅射 WS2 薄膜的原理是利用稀薄气体在低压真空环境中发生辉光放电, 如果薄膜沉积时工作气压过低（10 Pa）, 真空室内等离子体密度高, 溅射粒子向基体运动中发生碰撞多, 平均自由程减小, 以致无法到达基体表面进行沉积.因此, 合适的沉积压力是磁控溅射沉积 WS2 薄膜的一个重要工艺参数. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,  翻拷必究!

某机构采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380  辅助磁控溅射在柔性基材表面沉积多层 NSN70 隔热膜, 制备出的 NSN70 隔热膜具有阳光控制功能, 很好的解决了普通窗帘或百叶窗隔热效果不明显的问题. KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:射频离子源型号RFICP380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000  在柔性基材 PET 上沉积 AgCu 合金制备的 NSN 系列隔热膜, 继承了单 Ag 隔热膜良好的光谱选择性, 同时能有效的解决 Ag 易硫化的难题, 还具有抗氧化功能, 以防止隔热膜长期放置透射率指标变化过大. NSN70 隔热膜是沉积 AgCu 合金的金属膜系结构产品, 它生产效率高、隔热性好. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,  翻拷必究!

国内某大学采用双 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140  作为溅射源分别溅射沉积铌和锡, 再经过高温退火后获得 Nb3Sn 超导薄膜. 用这种方法所获得的超导薄膜的原子组分的调整比较方便,对于 Nb3Sn 的研究较为有利. 实验测量了样品的超导参数和晶格参数. 伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:型号RFICP140DischargeRFICP 射频离子束流>600 mA离子动能100-1200 V栅极直径14 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度24.6 cm直径24.6 cm中和器LFN 2000 Nb3Sn 超导薄膜样品的实验研究是在 Al2O3(Sapphire) 上进行的, 采用铌溅射源和锡溅射源交替对样品进行溅射沉积,其中铌溅射源在上部, 锡溅射源在下部, 因为锡的熔点低. 退火采用电炉丝. 溅射沉积的过程是, 首先在基片上溅射沉积一层铌附着膜, 然后以固定速度旋转样品固定板,使得样品交替面对铌溅射源和锡溅射源, 形成多层膜结构, 后再溅射沉积一层铌覆盖膜. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. KRI 离子源是领域公认的, 已获得许多专利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

云南某实验室采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220  射频磁控溅射沉积方法在不同温度的 Si（100）衬底和石英衬底上制备了富硅 SiNx 薄膜, 用于研究硅量子点 SiN 薄膜的光谱特性. 该实验目的是优化含硅量子点的 SiNx 薄膜的制备参数, 在硅基光电子器件的应用方面有重要意义. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦,   平行,   散射流量10-40 sccm通气Ar,   Kr,   Xe,   O2,   N2,   H2,   其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量实验室采用 Fourier 变换红外光谱、Raman 光谱、掠入射 X 射线衍射和光致发光光谱对退火后的薄膜样品进行了表征. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 因此,  该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,   请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,   翻拷必究!

上海某大学实验室采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 , 通入氩气和氮气, 在流量比分别为 25/10、25/20、25/25、25/30 ((mL/min)/(mL/min))条件下制备 NGZO 薄膜. 伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:型号RFICP140DischargeRFICP 射频离子束流>600 mA离子动能100-1200 V栅极直径14 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度24.6 cm直径24.6 cm中和器LFN 2000 实验室通过 XRD 和 SEM 对薄膜的物相结构和表面形貌进行分析,通过紫外可见分光光度计和霍尔效应测试仪对薄膜透过率和载流子浓度、迁移率及薄膜电阻率进行研究. 实验结果:通过与未掺入 N 的 Ga 掺杂氧化锌 (GZO) 薄膜相比, 在可见光区, 尤其是 600~800 nm 范围内, NGZO 薄膜平均透过率在80%以上,符合透明导电薄膜透过率的要求.在 N-Ga 共掺杂薄膜中, N 的掺杂主要占据 O 空位, 并吸引空位周围的电子, 这减小了薄膜晶格畸变, 并产生电子空穴, 最终使得薄膜中电子载流子浓度降低, 空穴载流子浓度增加, 电阻率有所增加.随着氮气流量的变化, 发现在 25 mL/min 时, 薄膜具有较佳的综合性能. 这种薄膜可用于紫外光探测器等需较大电阻率的应用中, 并有望实现 n-p 型转化.  KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. KRI 离子源是领域公认, 已获得许多专利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

某科研机构在 IFBA 芯块 ZrB2 涂层研究中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380  辅助镀膜设备溅射沉积 ZrB2 涂层. KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:射频离子源型号RFICP380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000  研究利用金相显微镜、扫描电子显微镜、X射线衍射仪、电感耦合等离子体发射光谱仪、胶带粘附性剥离等方法测定了沉积 ZrB2 涂层的厚度、形貌、物相结构、成分、附着力以及沉积速率等性能参数, 研究了各溅射工艺条件如芯块表面清洁度、溅射气体压力、溅射功率密度和转鼓转速对ZrB 涂层沉积率和附着力的影响. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,  翻拷必究!

沈阳某大学课题组采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 射频磁控溅射沉积方法制备了不同成分的 ZnNi 合金薄膜, 并研究了真空热处理对其成分及表面形貌的影响. 采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 磁控溅射沉积的 ZnNi 合金薄膜, 使合金成分均匀, 使薄膜致密, 并且附着性好. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦,   平行,   散射流量10-40 sccm通气Ar,   Kr,   Xe,   O2,   N2,   H2,   其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量实验室材料:实验采用 55mm x 3mm 的高纯度锌靶 (含量wt%>99.99) 和纯镍片 (含量wt%>99.95) 组成的镶嵌靶. 调整镶嵌靶 Zn 与 Ni 的面积比, 以获得不同成分的 ZnNi 合金膜. 溅射基底采用石英玻璃片. 研究结果表明：在单靶溅射沉积ZnNi合金薄膜中, 通过调节靶材锌镍面积比可以获得不同成分且分布均匀的ZnNi薄膜. 经过600℃、60 min、真空度为4×10-3Pa, 真空热处理之后的薄膜中的锌完全蒸发, 剩下的镍薄膜呈多孔结构, 微孔尺寸在100 nm至500 nm之间. 随着薄膜锌含量的增加, 真空热处理后薄膜表面孔隙率增大. 随着真空热处理温度的升高, 微孔尺寸增大. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 因此,  该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,   检漏仪,   质谱仪,   真空计,   美国 KRI 考夫曼离子源,   美国HVA 真空阀门,   美国 inTEST 高低温冲击测试机,   美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,   请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,   翻拷必究!

河北某大学实验室在研究 IGZO 薄膜的特性试验中采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 作为溅射源, 溅射沉积半导体 IGZO 薄膜. 伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:型号RFICP140DischargeRFICP 射频离子束流>600 mA离子动能100-1200 V栅极直径14 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量5-30 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度24.6 cm直径24.6 cm中和器LFN 2000 试验采用射频（RF）磁控溅射沉积方法, 在室温不同压强下在石英玻璃衬底上制备出高透光率与较好电学性质的透明氧化物半导体 InGaZnO4（IGZO）薄膜, 并对薄膜进行X线衍射（XRD）、生长速率、电阻率和透光率的测试与表征. 结果表明:实验所获样品 IGZO 薄膜为非晶态, 薄膜最小电阻率为1.3×10^-3Ω·cm, 根据光学性能测试结果, IGZO 薄膜在 200～350nm 的紫外光区有较强吸收, 在 400～900nm 的可见光波段的透过率为75％～97％. 相比传统的有以下优点：更小的晶体尺寸, 设备更轻薄；全透明, 对可见光不敏感, 能够大大增加元件的开口率, 提高亮度, 降低功耗的电子迁移率大约为, 比传统材料进步非常明显, 面板比传统面板有了全面的提升. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. KRI 离子源是领域公认的, 已获得许多专利. KRI 离子源已应用于许多已成为行业标准的过程中. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

某半导体厂商为了提高红外器件 ZnS 薄膜厚度均匀性, 采用  KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380  辅助磁控溅射沉积设备镀制红外器件 ZnS 薄膜, 并采用动态沉积的方法--样品台离心旋转的方式, 补偿或改善圆形磁控靶在正对的基片上沿径向的溅射沉积不均匀分布. KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:射频离子源型号RFICP380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000  红外器件金属膜需要高均匀性的原因: 红外器件几乎都要进行表面钝化和镀制金属膜, 在红外焦平面和读出电路的互连工艺中, 金属膜的厚度均匀性对于互连工艺的可靠性起着至关重要的作用, 而在背照式红外探测器的光接收面, 往往都要涂镀一层或数层介质膜, 以起到对器件进行保护和对红外辐射减反射的作用, 介质膜的厚度均匀性同样会影响探测器的滤光和接收带宽 KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,  翻拷必究!

伯东客户湖北某汽车外资大型企业采用伯东 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM340 给东风日产做的汽车空调蒸发器做检漏. 氦质谱检漏仪 ASM340 技术参数:型号ASM340ASM340 DASM340 I对氦气的最小检检漏率5E-13 Pa m3/s5E-13 Pa m3/s5E-13 Pa m3/s检测模式真空模式和吸枪模式真空模式和吸枪模式真空模式和吸枪模式检测气体4He, 3He, H24He, 3He, H24He, 3He, H2启动时间 min333对氦气的抽气速度 l/s2.52.52.5进气口压力 hPa25255前级泵抽速 m3/h油泵 15隔膜泵 3.4不含前级泵重量 kg564532 汽车空调蒸发器需要氦质谱检漏原因蒸发器是汽车空调制冷系统中极其重要的一个部件, 一旦发生泄漏, 最直接的后果就是汽车空调不制冷, 制冷剂泄露, 进而造成对环境的污染和人力、物力、财力的浪费, 增加企业生产运营成本, 因此汽车空调蒸发器在生产、检修、保养都必须进行氦质谱检漏。 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

国内激光焊接供应商-某新能源行业领军企业采用伯东 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM340 用于锂电池检漏系统, 对锂电池外壳进行检漏. 氦质谱检漏仪 ASM340 技术参数:型号ASM340ASM340 DASM340 I对氦气的最小检检漏率5E-13 Pa m3/s5E-13 Pa m3/s5E-13 Pa m3/s检测模式真空模式和吸枪模式真空模式和吸枪模式真空模式和吸枪模式检测气体4He, 3He, H24He, 3He, H24He, 3He, H2启动时间 min333对氦气的抽气速度 l/s2.52.52.5进气口压力 hPa25255前级泵抽速 m3/h油泵 15隔膜泵 3.4不含前级泵重量 kg564532 氦质谱检漏仪 ASM 340 优点:1. 前级泵配备旋片泵（油泵）Adixen Pascal 1015 I 抽速高达15 m3/h2. 分流式分子泵 Pfeiffer Splitflow 50 对氦气抽速 2.5 l/s3. 氦质谱检漏仪 ASM 340 对氦气的最小检检漏率：   真空模式：5E-13 Pa m3/s   吸枪模式：5E-10 Pa m3/s 目前业界公认最小漏率4. 移动式操作面板（有线、无线）5. 集成SD卡, 方便资料处理6. 抗破大气、抗震动, 降低由操作失误带来的风险性7. 丰富的可选配件, 如吸枪、遥控器、小推车、旁路装置、标准漏孔等8. 检测时间短 客户现场使用图: 锂电池需要检漏原因:一般的锂离子电池单元由一个正极, 一个负极和一个隔膜以及电解质构成. 这些单元在包装内排列. 由于锂金属的化学特性非常活泼, 使得锂金属的加工, 保存, 使用对环境要求非常高. 锂电池主要是外壳焊接处需要检漏, 如果锂电池里面的电解液因为外壳的不密封性而泄露出来可与潮湿环境产生剧烈反应, 不仅对环境和人员造成严重的危害, 同时影响设备使用寿命, 所以锂电池在组装和密封 ( 圆柱形及棱柱形单元通过焊接）环节, 需要进行泄漏测试. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

某汽车厂商对变速器的漏率规格要求检漏仪 Dan-100 用于汽车变速器检漏 零件检漏系统-检漏仪 Hakuto-Dan-100 技术参数:产品型号:Hakuto-Dan-100检漏灵敏度:>= 1E-5 mbar.l/s工作电压:110VAC / 220VAC测试时间:40 秒 (依工件大小而有所差别)三色警示灯及蜂鸣器触控屏幕或条形码扫描尺寸:长55x 宽 80 x 高 101 cm检漏仪 Hakuto-Dan-100 优势:1. 干式检漏, 无须后段干燥制程, 节省测试流程.2. 机器自动判断, 避免人为疏失.3. 无须使用氦气, 节省成本.4. 无须充气, 减少复杂的密封夹治具, 降低夹治具成本.5. 无快速接头, 避免快速接头漏气造成误判.6. 检漏灵敏度：>= 1E-5 mbar l/s, 大幅超越气泡检漏及充气检漏.7. 选定工件型号即自动带入测试条件, 避免人为疏失.8. 测试不合格品, 需主管同意才能取出, 避免人为疏失混入合格品. 检漏仪 Hakuto-Dan-100 检漏原理:将待测物抽真空, 使用侦测器量测进入待测物的空气量.  所需机具: 侦测器/ 真空 pump优点：1. 不须仰赖人工判断, 减少人为疏失.  2. 检漏灵敏度高3. 不须使用氦气检漏灵敏度:>= 1E-6 mbar.l/s or 1E-6 Pa m3/s or 1E-5 std cc/s 随着汽车工业的高速发展, 对汽车各个部件的密封性能, 测试效率, 检测可靠性提出越来越高的要求,  检漏仪 Hakuto-Dan-100 作为一种无损干式检漏, 高效的全新泄漏检测手段, 广泛应用于汽车制造业! 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

某车用传感器生产商, 经过伯东推荐, 采购德国 Pfeiffer 氦质谱检漏仪 ASM340 用于胎压传感器的泄漏检测. 氦质谱检漏仪 ASM340 技术参数:型号ASM340ASM340 DASM340 I对氦气的最小检检漏率5E-13 Pa m3/s5E-13 Pa m3/s5E-13 Pa m3/s检测模式真空模式和吸枪模式真空模式和吸枪模式真空模式和吸枪模式检测气体4He, 3He, H24He, 3He, H24He, 3He, H2启动时间 min333对氦气的抽气速度 l/s2.52.52.5进气口压力 hPa25255前级泵抽速 m3/h油泵 15隔膜泵 3.4不含前级泵重量 kg564532 氦质谱检漏仪 ASM 340 优点:1. 前级泵配备旋片泵（油泵）Adixen Pascal 1015 I 抽速高达15 m3/h2. 分流式分子泵 Pfeiffer Splitflow 50 对氦气抽速 2.5 l/s3. 氦质谱检漏仪 ASM 340 对氦气的最小检检漏率：   真空模式：5E-13 Pa m3/s   吸枪模式：5E-10 Pa m3/s 目前业界公认最小漏率4. 移动式操作面板（有线、无线）5. 集成SD卡, 方便资料处理6. 抗破大气、抗震动, 降低由操作失误带来的风险性7. 丰富的可选配件, 如吸枪、遥控器、小推车、旁路装置、标准漏孔等8. 检测时间短 汽车胎压传感器检漏方法:胎压传感器本身是一个密封的电子元件, 既没有充氦气接口, 也没有抽真空的接口. 同时需要进行无损泄漏检测, 上海伯东针对检漏产品特点, 设计和制作了两个腔体, 一个是保压罐, 一个是真空测试罐. 检漏时, 先将胎压传感器放入保压罐, 再充入 0.2Mpa 的氦气, 保压 30min; 然后将胎压传感器取出放入真空测试罐, 连接检漏仪, 如果传感器有漏, 检漏仪可以及时报警并显示漏率值, 完成测试 随着汽车工业的高速发展, 对汽车各个部件的密封性能, 测试效率, 检测可靠性提出越来越高的要求, 氦质谱检漏法, 利用氦气作为示踪气体, 作为一种无损, 高效的全新泄漏检测手段, 广泛应用于汽车制造业! 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

某汽车制造商采用伯东 Pfeiffer 检漏仪 ASI 35 应用于汽车燃油箱检漏, 该套定制检漏系统单次可检漏 2个汽车油箱. 模块化氦质谱检漏仪 ASI 35 主要技术参数：检漏模式（氦气）高灵敏度模式常规模式大漏模式吸枪检漏测量范围 mbar l/s5X10-121X10-103.5X10-81.5X10-8初检压力mbar0.2118--氦气抽速 l/s61.8依据前级泵抽速--进气法兰DN 16 KF/DN 25 KF电压 V90 - 240重量 kg真空模块 14.5，电子模块 4.5 控制面板 1.5 汽车燃油箱检漏系统功能1. 真空箱式检漏系统, 单次检测2个汽车油箱, 测试油箱的整体漏率值, 漏率要求 -6mbar l/s.2. 内部集成检漏模块 ASI 35, 选用检漏仪精检口, 即可达到漏率要求 汽车燃油箱需要检漏原因:汽车油箱泄漏不仅能够造成宝贵燃油的浪费,环境污染,而且由于燃油是易燃, 易爆物品, 从而产生安全事故, 造成人员伤亡和财产损失. 因此在汽车生产中对汽车油箱密封性的检测是十分必要, 且对检测速度和精度性能指标提出了很高的要求. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生                               台湾伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究!

钛金属具有许多优异的性能, 例如低密度/ 高熔点/ 耐腐蚀/ 无磁性和硅基衬底结合力好/ 具有形状记忆和吸氢特性等, 因此对于磁控溅射沉积钛薄膜的研究有很多. 上海某大学研究室在多层钛膜做微观结构的研究中采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积钛薄膜做加热电路提高器件温度,从而提高光波导器件中硅材料的折射率. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦,  平行,  散射流量10-40 sccm通气Ar,  Kr,  Xe,  O2,  N2,  H2,  其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量 KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 因此, 该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪,  质谱仪,  真空计,  美国 KRI 考夫曼离子源,  美国HVA 真空阀门,  美国 inTEST 高低温冲击测试机,  美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,  翻拷必究!

上海伯东代理比利时 Europlasma 超薄等离子涂层设备 上海伯东代理比利时原装进口 Europlasma 低压超薄等离子涂层设备, 其独特环保技术可以在非织造布, 薄膜, 网状物或纳米纤维网等材料上沉积超薄涂层, 实现疏水或疏油的功能,纳米涂层提供 IPX7 等级甚至以上的防水, 可以用在产品表面, 比如电路板, 电子元件等. 满足 AR 眼镜, 耳机, 手机, 运动手表等消费电子的防水要求! Europlasma 提供消费电子产品和户外运动产品超薄等离子防水涂层解决方案!Nanofics@ 和 PlasmaGuard® 是由比利时 Europlasma 公司研发的纳米级 (涂层厚度小于 100纳米) 功能镀层技术, 真空条件下, 通过在材料浅表面实现低压等离子表面聚合或者原子层沉积, 从而赋予材料新的功能, 涂层不影响材料本身的性能, 对三维结构以及复杂形状的材料表面都可实现均匀性涂覆, 实现防水, 防油. Europlasma 涂层等级类型防水表面涂层Nanofics® 110/120防水表面涂层PlasmaGuard® S防水屏障涂层Nanofics® SE防水屏障涂层 PlasmaGuard® E特点防水等级 IPX 2-4结合良好的机械设计,可达到更高的IPX水平 单层涂层厚度 50- 500nm适用于单个组件, PCB, 子组件, 整个设备,或组合 对声学性能无影响无变色, 生物相容性(ISO 10993-5)和不过敏(ISO 10993-10)典型循环时间 10-30分钟防水等级 IPX 5-8 1-3µm 多层涂层,包含疏水表层 软硬件升级 典型循环时间为3-4小时 其他特点与 Nanofics® 110/120 一致Europlasma 涂层平台类型市场功能Nanofics® 110电子/医疗/过滤疏水 WCA > 110°Nanofics® 120电子/医疗/过滤疏水 WCA > 120°Nanofics® S电子带有疏水表层的防水屏障涂层Nanofics® SE电子带有疏水表层的防汗屏障涂层PlasmaGuard®运动 +户外耐久拒水Nanofics® 10医疗/过滤疏水 WCA Halogen Free Coating电子防护涂层无卤素Europlasma 超薄等离子涂层设备主要型号CD1000腔室 1000LCD1836腔室 1836LLCD1000 / 500卷绕设置,1000mm x Ø500mm rollsCD1800 / 800卷绕设置,1800mm x Ø800mm rollsCD 2400 / 1000卷绕设置,1800mm x Ø800mm rolls若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 叶女士                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-3511 ext 109         T: +886-03-567-9508 ext 161 F: +86-21-5046-1490                      F: +886-03-567-0049 M: +86 1391-883-7267                   M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                   ec@hakuto.com.twwww.hakuto-vacuum.cn                 www.hakuto-vacuum.com.tw现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 叶女士 1391-883-7267上海伯东版权所有, 翻拷必究！ 

某 OEM 厂商为了提高镀膜机镀膜的品质, 其为客户搭建的多靶磁控溅射镀膜机的溅射源采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000, 真空腔体搭配的是伯东 Pfeiffer 涡轮分子泵 HiPace 2300. KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:射频离子源型号RFICP380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000 KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 技术参数:离子源型号eH3000eH3000LOeH3000MOCathode/NeutralizerHC电压50-250V50-300V50-250V电流20A10A15A散射角度>45可充气体Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others气体流量5-100sccm高度6.0“直径9.7“水冷可选F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current 涡轮分子泵 HiPace 2300 技术参数：型号接口 DN抽速 l/s压缩比zui高启动压强hPa极限压力全转速气体流量hPa l/s启动时间重量进气口排气口氮气N2氦气He氢气 H2氮气N2氮气N2hPa氮气N2minkgHiPace 2300250401,9002,0001,850> 1X1081.8–720434 – 47 镀膜机实际运用案例：采用多靶磁控溅射镀膜机在 UO_2 陶瓷 IFBA 芯块表面上溅射沉积 ZrB_2 涂层，与其他未引用 KRI 离子源和 Pfeiffer 分子泵的多靶磁控溅射镀膜机相比, 引进 KRI 离子源和 Pfeiffer 分子泵后, 其镀制的 ZrB_2 涂层附着力明显提高, 涂层厚度更加均匀, 晶粒更加细小, 沉积率更高. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,  翻拷必究!

MoN薄膜是一种具有潜在应用价值的薄膜材料, 但对于其结构和性能的研究还较少. 因此，广州某研究机构采用KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 在 304 不锈钢基体表面溅射沉积 MoN薄膜, 系统研究了 MoN 薄膜在不同摩擦条件下的摩擦磨损行为. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦,  平行,  散射流量10-40 sccm通气Ar,  Kr,  Xe,  O2,  N2,  H2,  其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量 结果表明:偏压显著影响直流磁控沉积的 MoN 薄膜的晶相结构、表面形貌、断面结构、硬度和摩擦磨损性能;随脉冲偏压的增大, MoN 薄膜的膜厚、硬度都先增大后减小, 而薄膜的磨损率却先减小后增大, 其中 -500 V 脉冲偏压下沉积的 MoN 薄膜具有高硬度为 7731 N/mm~2, 以及低的磨损率为 5.8×10~(-7)mm~3/(N·m).  此外, MoN 薄膜在不同载荷和转速的摩擦条件下表现出不同的摩擦学行为. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 因此, 该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪,  质谱仪,  真空计,  美国 KRI 考夫曼离子源,  美国HVA 真空阀门,  美国 inTEST 高低温冲击测试机,  美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,  翻拷必究!

纯 Ti 薄膜具有优异的力学性能、热稳定性、生物相容性和良好的抗摩擦磨损性, 被广泛应用于航空航天、医疗器械、光学和微电子器件等领域, 因此具有重要的研究价值. 西安某大学实验室在纳米纯 Ti 薄膜的研究中, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 溅射沉积纳米纯 Ti 薄膜, 制备出的纯Ti薄膜可集膜层致密光滑、沉积速率快和平均晶粒尺寸小于20nm等优点. 伯东 KRI 射频离子源 RFICP220 技术参数:离子源型号RFICP220DischargeRFICP 射频离子束流>800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦,  平行,  散射流量10-40 sccm通气Ar,  Kr,  Xe,  O2,  N2,  H2,  其他典型压力长度30 cm直径41 cm中和器LFN 2000* 可选: 灯丝中和器; 可变长度的增量该溅射沉积是在真空度为 9×10-5Pa—3×10-4Pa 的真空腔里, 通入气流量为 70ml/min 的氩气, 利用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 产生的氩离子轰击靶材, 溅射沉积 Ti 膜层, 镀膜持续时间30～90min; 完成镀膜的样品待冷却后, 取出. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 因此, 该研究项目才采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助溅射沉积工艺. 伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪,  质谱仪,  真空计,  美国 KRI 考夫曼离子源,  美国HVA 真空阀门,  美国 inTEST 高低温冲击测试机,  美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,  翻拷必究!

某传感器制造商为了制备出具有高结晶度、大比表面积、排列规则的纳米结构 WO3 薄膜, 经过对比选择, 采用  KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380  辅助磁控溅射沉积设备镀制 WO3 薄膜. KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:射频离子源型号RFICP380Discharge 阳极射频 RFICP离子束流>1500 mA离子动能100-1200 V栅极直径30 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量15-50 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力长度39 cm直径59 cm中和器LFN 2000  气体传感器可以将被检测气体的种类、浓度等信息转变为可测信号, 并将计算机与被检测到的信号连接口相连接, 构成自动的监控、检测和报警系统. 氧化钨薄膜可以吸附各种气体, 从而导致薄膜的电阻或光学参数的变化, 常常应用于气体传感器领域. KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能, 增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性, 而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的. 若您需要进一步的了解详细信息或讨论,  请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有,  翻拷必究!