核心参数
仪器种类: 磁控溅射镀膜机
产地类别: 进口
应用领域: 其它
基片尺寸: 12寸
基片温度范围: 基板可加热到 1000°C
成膜厚度均匀性: ±3%
极限真空: 10-10 Torr
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准
磁控溅镀设备 FPD-PVD
随着 LCD 面板和制造所需玻璃的尺寸的增加, 制造设备也随着变得更大, 需要越来越大的设备投资. 上海伯东代理磁控溅镀设备 FPD-PVD 针对中小尺寸的需求开发串集的 PVD 设备, 拥有 4个单独的溅镀腔体, 让客户能任意搭配沉积的材料, 同时保有弹性和具有选择性的系统.
配置和优点
客制化基板尺寸最大为 550 x 650 mm2(玻璃)
薄膜均匀度小于±5%
稳定的温度控制, 可将基板加热到 400°C
选件
C assette 传送站
基材电浆清洁
OES, RGA 或制程监控的额外备用端口
应用领域
TFT-LCD
太阳能电池
触碰屏氧化物, 氮化物和金属材料的研究
若您需要进一步的了解上海伯东磁控溅射镀膜机, 请联络上海伯东叶女士
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企业名称
伯东企业(上海)有限公司
企业信息已认证
企业类型
信用代码
310115400032917
成立日期
1995-12-01
注册资本
800
经营范围
伯东企业(上海)有限公司
公司地址
上海市浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室
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