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低温恒温槽的应用领域及使用方法介绍
低温恒温槽可适用于生物工程、医*、食品、化工、冶金、化学分析、石油等领域，为用户提供一个受控的、温度均匀的恒定场源，是研究所、高等院校、工厂实验室、质检部门,为用户工作时提供一个冷热受控，温度均匀恒定的液体环境，对试验样品或生产的产品在槽内直接进行恒定温度试验或测试，可用于直接加热或制冷，作为辅助加热或制冷的温度来源, 如对反应釜、全自动合成仪器、萃取以及冷凝装置的控温。
应用领域：
恒温领域：传感器检测、恒温生化反应、恒温材料老化等。
生化领域：旋转蒸发仪、阿贝折光仪、旋光仪、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物发酵罐、化学反应器（合成器）等。
材料领域：电镜、X射线衍射、X荧光、真空溅射电镀、真空镀膜机、ICP刻蚀、半导体设备、疲劳试验机、化学沉积系统、原子沉积系统等。
*领域：超导磁共振、直线加速器、CT、低磁场核磁共振、X光机、*、*冷帽、降温毯等等。
物化领域：激光器、磁场、分子泵、扩散泵、离子泵以及包括材料领域。
使用方法：
当要在水槽内做恒温测试时，将温度切换开关拨至内部温度处即可。
当需要建立第二温度场使用时，将本机配备的外部温度传感器连接至机器后，先将温度切换开关拨至内部温度处，将水槽温度设定至所需温度，待仪表显示温度稳定10~20分钟后，降温度切换开关拨至外部温度处，此时恒温槽可通过PID温控仪表控制第二温场温度。
注意：切不可直接将温度设定开关直接拨至外部温度处，以免因外部温度升温较慢导致恒温槽內温度过高，引发意外事故。
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