日本电子新型双束电镜JIB-4700F将上市

日本电子

2017/01/07 21:38

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　　1月5日，日本电子株式会社发布了一款新型双光束电镜JIB-4700F。全新的聚焦离子束扫描电子显微镜(FIB-SEM)系统上市后将用于纳米材料加工及分析，第一年预计销售20台。

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　　近年来，针对复杂结构纳米材料的研究开发取得了一系列新进展，也因此提高了对FIB-SEM仪器更高分辨率、精度和产量的需求。作为回应，日本电子开发了JIB-4700F多光束系统，一种用于形态观察，元素和晶体学各种标本分析的新型处理和观察系统。

　　JIB-4700F具有混合圆锥形物镜GENTLEBEAM™(GB模式)和一个可在1 kV低加速电压下提供1.6 nm保证分辨率的镜头内探测器系统。通过使用产生最大探头电流为300 nA电子束的“透镜肖特基发射电子枪”，JIB-4700F可以进行高分辨率观察和快速分析。对于FIB柱，采用高达90 nA的最大探针电流可快速实现离子铣削和加工样品。

　　在快速处理FIB横截面同时，JIB-4700F还可以利用能量色散X射线光谱仪(EDS)和电子背散射衍射(EBSD)来进行高分辨率的扫描电镜观察和快速分析。此外，在横截面处理中以特定间隔自动捕获SEM图像的三维分析功能也是JIB-4700F的标准特征之一。该多光束系统将提供给公共和私人研发场所和半导体制造商。

　　主要特点

　　高分辨率扫描电镜观察

　　由磁性/静电混合圆锥物镜，GB模式和镜头检测器保证在低加速电压为1千伏下到达1.6nm的分辨率。

　　快速分析

　　通过透镜肖特基发射电子枪和孔径角控制镜头的相结合可以分析大探针电流来保持高分辨率。

　　快速加工

　　高功率Ga离子束柱可快速处理试样。

　　增强探测系统

　　同步检测系统包括新近发展起来的镜头探测器，允许4个探测器实时观测图像。

　　多种可选附件

　　JIB-4700F包括多种可选附件EDS、EBSD兼容，低温输送系统、冷却和空气隔离传输系统等。

　　三维观测/分析

　　与高分辨率SEM和适当的可选的分析单元(S)的组合的图像和分析数据的三维可视化是可行的。

　　多级联动功能

　　随着大气拾取系统(可选)和阶段联动功能，透射电镜(TEM)标本可以轻松收回。

　　图片叠加系统

　　在大气提取系统中把光学显微镜图像覆盖在FIB图像上是的更容易识别FIB处理点。

　　主要技术参数：

SEM
加速电压	0.1至30伏
图像分辨率（最优WD）	1.2 nm（15 kV，GB模式）1.6 nm（1KV，GB模式）
放大倍数	X20-X 1000000
探头电流	1 pA至300 nA
样品台	6轴测角台电脑X：50mm，Y：50mm，Z：1.5-40mm，R：360°，T：5至70°，FZ：- 3 + 3mm
FIB
加速电压	1 to 30 kV
图像分辨率	4.0nm（30kV）
放大倍数	X50- 1000000（X50 -90倍可用于加速电压小于15 kV）
探针电流	1pA到90nA（13个步骤）
铣削加工形状	矩形，线，点，圆，位图