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通过密度和粘度在线监测进行半导体 CMP（化学机械抛光）浆料质量控制
2022/05/27 14:13
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方案摘要：
产品配置单：
LISICO 乐思科 在线粘度计
型号： SRV/SRD/DVP/DVM
产地： 上海
品牌： 乐思科
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方案详情：
CMP浆料的粘度和密度在抛光操作中的重要性
浆料的粘度和密度用于评估颗粒在CMP浆料中的分散，因为颗粒大小和粘度存在关联。浆料的粘度取决于化学和机械成分。浆料应具有窄且均匀的粒度分布和均匀的密度。密度变化表明浆料不均匀，这会影响抛光效果。团聚和大颗粒可以通过搅拌机中的过滤器去除，但密度变化难以发现。比如，浆料颗粒符合规格并通过过滤器，经浓缩后运输，然后在晶圆厂用水或过氧化氢稀释。由于混合不充分，浆料桶底部的密度可能更高，这会导致缺陷。CMP的进料质量取决于工厂操作以及现场混合和存储，在线监测浆料密度可确保均匀的混合物输送到抛光垫。
LISICO用于半导体 CMP 浆料质量控制的解决方案
在线粘度/密度测量和控制，对于在制造过程中控制粘度/密度并确保关键特性完全符合多批次的要求至关重要，而不必依赖离线测量方法和取样技术。LISICO为过程控制和优化提供以下解决方案。
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