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第三届中国太阳能技术与投资高峰论坛
我公司将参加2011年3月24日-25日在江苏·常州举行的第三届中国太阳能技术与投资高峰论坛。
届时我们将委派最早从事ALD研究的华人之一的黎微明博士给大家做专题报告，另外我公司也会设立展台，期待您的光临指导！
我公司从2008年开始代理世界一流的芬兰Picosun公司生产的ALD原子层沉积系统。
关于Picosun Oy
Picosun是一家致力于开发和生产原子层沉积系统(ALD)的公司。ALD主要应用于微米和纳米技术方面。在芬兰，Picosun公司连续拥有ALD反应器生产的专有技术已经长达三十多年。Picosun公司坐落于芬兰的Espoo，其美国总部在底特律。使用SUNALE型ALD系统的用户遍布全球，包括顶级高校与科研机构。
ALD技术背景介绍
ALD技术于1974年由芬兰PICOSUN公司的董事Tuomo Suntola博士发明，国外已经实现产业化，比如英特尔公司研发的45/32纳米芯片中的高介电薄膜。由于该发明及其在ALD研究方面的杰出贡献，Tuomo Suntola博士2004年荣获欧洲SEMI奖。
ALD技术的应用
太阳能电池、光电子、半导体材料、防静电涂层 光滤波材料、气体传感器、催化剂材料、介电及绝缘层 微电子绝缘体、改性的催化器载体、扩散势垒层和钝化层、纳米结构、透明导电层和金属层体、半导体激光二极管LED、电致发光显示其中的发光层。
如需更多详情,请联系xmli@honoprof.com
电话：010-64415767,64448295
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