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感恩有您-正通远恒在SEMICON CHINA2017取得圆满成功

北京正通远恒

2017/03/22 13:29

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     2017年3月16日为期三天的semicon china在上海新国际博览中心落下帷幕,展会规模庞大、人气爆棚。我公司携ald全球领先品牌picosun共同参展此次会议,并取得圆满成功。在当下日新月异,百舸争流的产业发展大潮中,正通远恒坚持不懈,突破万难并取得突出成绩,积极推动ALD在中国半导体行业的发展。

     展会现场,我公司集中展示了Picosun™ ALD原子层沉积系统不同尺寸的wafers demo,吸引众多观众的驻足欣赏,展台现场门庭若市、人来人往、络绎不绝。

 

     我们此次展出的产品主要是芬兰Picosun™公司的原子层沉积ALD,Picosun ALD历经四十多年的世界考验,现已成为ALD全球的领先品牌 。Picosun ALD主要作用领域包括:LED/OLED、MEMS/集成电路、半导体、3D封装/IC、医疗、  光学、防变色涂层、 装饰涂层、燃料电池等。产品详细参数您可以来电咨询或者前往我司网站了解。

     正通远恒感恩您的陪伴,您的咨询与支持是对我们工作的最大肯定。展会在不舍中结束,但是正通远恒与您的缘分才刚刚开始,2017我们继往开来,继续竭诚为您服务!

    我司网站:www.honoprof.com.cn

 

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