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公司动态

北京正通远恒邀请您参加UDE2021国际显示博览会

2021年7月30日-8月1日,UDE2021国际显示博览会将在上海新国际博览中心举行,UDE由中国电子视像行业协会指导,由上海舜联会展有限公司主办。UDE2021国际显示博览会与UDE国际消费电子博览会共同组成UDE国际消费电子及未来生活博览会。以"开启变局下的大显示时代"为主题,聚焦最新显示终端应用、面板、芯片、材料、设备等领域新产品新技术,凸显变局下大显示时代的中国力量。北京正通远恒作为紧跟科技发展潮流的公司,将携公司优质产品同数千万专业消费者、科技发烧友、行业大咖共同参与此次行业这次年度盛会。在这炎炎盛夏热情如火的日子里,正通远恒在W3-B132展位诚挚欢迎您的到来!

企业动态

2021.06.09

北京正通远恒邀请您参加 2021 中国物理学秋季学术会议

中国物理学会2021年秋季学术会议由兰州大学承办,将于2021年9月16日(报道)-19日在兰州大学城关校区举行。北京正通远恒科技有限公司作为推动中国物理学发展的企业参与者,也就一如既往地加入到此次会议中来,并现场设立展台,和与会来宾共瞻科技新风尚。展位号:B37。 ▼▼▼ 中国物理学会秋季学术会议(CPS Fall Meeting)是由中国物理学会主办的年度学术会议,已成为中国物理学界规模最大、综合性最强的品牌学术盛会,引起了国际物理学界的关注。今年的会议主题包括:A: 粒子物理、场论与宇宙学;B: 核物理与加速器物理;C: 原子分子物理;D: 光物理;E: 等离子体物理;F: 纳米与介观物理;G: 表面与低维物理;H: 半导体物理;I : 强关联与超导物理;J : 磁学;K: 软凝聚态物理与生物物理;L : 量子信息(中国物理学会与英国物理学会联合举办);M: 计算物理;N: 统计物理与复杂体系;O: 电介质物理;P: 液晶;Q: 超快物理;R: 高能量密度物理;S: 拓扑材料、物理与器件;T: 物理教育;U: 能源与可持续发展(中国物理学会与美国物理学会联合举办)。  ▼▼ 展会现场,我公司将主要为您介绍:阴极荧光分析系统,脉冲激光沉积系统,纳米力学测试系统等公司优势产品。我们的阴极荧光分析系统是来自世界品牌-瑞士 Attolight,Attolight阴极发光电子扫描电镜目前已成为世界该领域的领头雁,Attolight更是新推出了Säntis 300全晶圆工业机台,更能满足工业更高要求的客户。更多更详细的技术介绍及更多产品,您可以前往我公司网站进行了解,更多需求您也可以直接拨打我们的客服电话,我们会安排最专业的工程师为您服务! ▼   我们再次诚邀您出席此次会议,与我们共话物理科技新动态,远瞻中国物理新风向。金色九月,在这硕果累累之际,正通远恒在兰州静候您的到来!

企业动态

2021.06.09

Attolight 参与升级Titan Holo电子显微镜!

在与包括瑞士公司Attolight AG在内的科学及工业伙伴的合作下,为恩斯特鲁斯卡电子显微和光谱学中心(ER-C)中的Titan Holo电子显微镜安装突破性升级的项目正在进行。升级的概念在Forschungszentrum Jülich开发,此次升级将使光物质相互作用的研究具有前所未有的空间分辨率,这将对3D磁孤子的研究产生重大影响,3D磁孤子是一个极其令人困惑和具有挑战性的研究对象,大小从几纳米到几百纳米,只有在某些磁性材料中才会出现,并为所谓的神经形态计算即以人脑为模型的节能计算提供了新型信息存储的前景。Jülich已经与Attolight AG公司签署了合同,为其Titan Holo显微镜的独特升级定制组件。该组件的核心是由Attolight制造的光喷射系统(Mönch)。通过将激光束聚焦到一个非常小的光斑尺寸(直径小于2µm)的样品上,这个附加装置可以将光注入电子显微镜。该系统提供光注入和收集波长范围从紫外线到红外。在这个项目中,将利用光源在sub-µm范围内对材料的磁性进行动态测量。ER-C的科学家是世界上为数不多的能够成像只有几纳米大小的磁性结构的专家之一。能够参与Jülich的Titan Holo显微镜的升级,为磁成像领域的新突破做出贡献,对Attolight所有人来说都是值得自豪的。 

企业动态

2021.06.09

热烈祝贺Attolight 在 ICDT 2021的邀请演讲圆满结束!

Attolight于2021年5月30日至6月2日应邀参加2021年ICDT(国际显示技术会议)。众所周知,ICDT 是 SID在美国以外唯一单独举办的显示技术会议。该活动聚集了显示行业的顶尖科学家、工程师、企业研究人员和商业人士,在行业内有举足轻重的影响力。Attolight工业应用主管Matthew Davies应邀在“micro LED应用”的会议上发表了主题为“低成本的micro LED探测方法”的演讲。该演讲取得行业内人士的极大认同,充分证明了 Attolight在显示行业内应用研究上的专业性及影响力。

企业动态

2021.06.08

Attolight 定量阴极荧光技术助力氮化镓 HEMT研究

通过定量阴极射线荧光技术进行无损检测,详查氮化镓 HEMT 的穿透位错,组分和掺杂,有助于氮化镓 HEMT 的开发和生产。 MATTHEW DAVIES 和 CHRISTIAN MONACHON ,ATTOLIGHT 化合物半导体具有硅的很多特性,但也有一些显著差异,这导致一些针对硅的表征技术无法为化合物半导体提供准确信息,对于氮化镓来说尤其明显。为了保持有竞争力的价格,氮化镓晶体管和 LED 生长在异质衬底上,因此外延层的缺陷密度非常高,但这从来不会发生在硅基器件上。一种被称为定量阴极荧光光谱法的无损技术,可以帮助阐明各类化合物半导体器件的特性,其中包括由氮化镓制成的器件。位于瑞士洛桑的Attoligh 团队是这一领域的开拓者,已经推出了支持这种计量方式的工具。之前,我们的团队发表过有关定量阴极射线荧光技术协助太阳能电池,照明和显示技术领域的制造商的文章(具体可参考《化合物发光技术的阴极射线管发光》,2018 年 7 月版的《化合物半导体》)。本文将探讨,对于硅上氮化镓 HEMT器件,该技术是如何监测其异质结构的质量(如果您不熟悉该器件,请查看“氮化镓 HEMT 的基础知识”部分)。GaN HEMT 的基础结型常关 HEMT[1] 的核心是在宽带隙 AlxGa1-xN(x 通常为 10 %至20%)和常规氮化镓之间的界面上形成的二维电子气(2DEG)。为了确保常关操作,p 型掺杂的氮化镓层被插入在铝镓氮层和栅极触点之间。对于采用这种设计的器件,性能会受到以下因素的极大影响 :• 位错密度 :位错最终与泄漏电流有关 [2]• p 型氮化镓中的镁浓度 :这会影响栅极下方氮化镓的费米能级,并最终影响器件的阻断能力• 铝镓氮中的铝浓度 :这直接影响 2DEG 浓度 [3] 这是结型常关 HEMT 的一般设计,通常用于功率转换应用。整个样品中均存在穿透位错。 对于这类晶体管,定量阴极射线荧光技术帮助工程师通过关注以下三个关键指标来优化生产线的成品率 :穿透位错密度、沟道上方铝镓氮层的铝含量和 p 型氮化镓栅极的镁掺杂量,这是实现常关型 HEMT 的关键。为了确保最优流程管理,工程师需要在流程中的每个步骤采用来自测量工具的快速无损反馈。对于试生产线,以及专用研发设施和大容量晶圆厂中的生产线来说,都是如此。对于从事研发的生产线来说,更快的反馈速度带来更快的开发速度和开发效率,同时降低成本。在大批量生产的晶圆厂中,更快的无损反馈减少了在制品,在理想情况下有助于快速的工艺控制,对于给定的工艺步骤,有效在制品为零。在工序间隔的停机时间中,在后续过程之间有来自计量工具的反馈,例如在清洁 Epi 反应器时就会发生这种情况。使用在外延片生长之后的 Säntis 平台,可针对各类指标提供快速,可靠,非破坏性的反馈,在此之前,这些反馈只能通过破坏性而且耗时的方法来获得。有了这种新型高分辨率的外延晶片检测平台,晶圆厂的负责人和工程师可以很好地做出关键性决策,包括对关键性能指标的即时反馈,确定某些晶圆是否应进行前端处理以及是否需要调整生长配方。在后面的段落,我们将介绍使用 Säntis300 全晶片定量阴极荧光平台对氮化镓 HEMT 进行研究的成果,包括为功率 HEMT 开发的专有测量和分析方法,代表了在氮化镓制造中用于外延工艺控制技术的发展现状。确定位错氮化镓 HEMT 性能降低的原因是穿透位错。如果它们与二维费米气体形成的通道相交,或将衬底连接到栅极触点,则可能会导致器件泄漏电流 [2],并可能损害器件的长期耐用性。氮化镓HEMT 的开发人员设计出几种解决方案,以减少通过这些通道的泄漏电流。但是,相关工作人员仍需对此问题进行全面了解,他们并不完全了解位错电流泄漏的原因或有效控制泄漏的方法,而且并不知晓影响位错对器件性能和耐用性的影响。因此,有必要分析外延层中的穿透错位,有助于我们更加了解此问题及控制过程,从而获得更好的器件。阴极荧光已经存在了几十年,因此人们通常认为使用这种技术计算穿透位错是微不足道的。但事实并非如此 :阴极荧光要比最初看起来要复杂得多,以确保穿透位错密度符合过程控制度量标准。但是,定量阴极荧光非常有洞察力的,结合了简单的穿透位错计数和许多新指标来确定其密度。包括穿透错位的局部空间分布、伯格斯矢量和大小,以及区分这种缺陷和其他结构缺陷(例如 V 形凹坑)的能力。定量阴极荧光光谱法具有广泛功能,更是用于氮化镓 HEMT 开发和生产的强大工具。机器视觉是一种可能有助于定量阴极荧光的技术。近年来,该技术得到了改善,因此广泛应用在各行业中。但是,将机器视觉应用于小而密集的特征时会遇到一些麻烦,例如在硅基氮化镓HEMT 外延层中发现的穿透位错簇。在这些异质结构中,平均每平方微米大约有十个穿透位错,传统的特征检测算法可能会降低精度。我们采用一种创新的图像重建方法解决了这一问题,该方法利用了蒙特卡洛和数值模拟的结果以及特定材料知识和假设。在研究了不同图像上的数百次迭代之后,我们确定了重建的可再现性,以 3σ 的方式评估为 ±1.05%(见图 1)。此外,与基准特征检测解决方案相比,我们的技术可解决多达 40%的缺陷。                                       图1.(a)带有突出显示的Attolight图像重建解决方案识别出具有穿透位错的阴极发光图像。(b )基于图像重构算法的数百次迭代后的归一化穿透位错密度的直方图。将通过定量阴极荧光得到的穿透位错成像用于过程控制,其功能不仅限于对单个图像的缺陷进行精确计数。为了使检测精度最大化,工程师应该记录较少的高分辨率图像,每个图像具有较少的特征。但这可能无法同时保证准确性和采样误差的。这对于使定量阴极荧光在过程控制中发挥重要作用至关重要。 如图 2 所示,当使用较小的图像确定穿透位错密度时,更少的特征被展示 - 并且图像更容易受到随机统计波动的影响。尽管单个图像可以对穿透位错提供更精确检测,但在某些情况下,采样误差会覆盖此增益,从而导致结果的准确性较低。              图 2 . ( a ) 当 在 单 个10×10μ m2图像中考虑恒定图像区域(FOV)时,变化的穿透位错密度的不确定性(表示为期望值的百分比)。(b )对于恒定的穿透位错密度为1×109  cm-2的不确定性(表示为期望值的百分比),针对具有变化的FOV的单个图像进行评估。 解决方案是将高采样率与优化的视野结合起来。尽管这种方案可以最小化采样误差,但无法以高精度处理无限大视场的图像。为了实现采样率,保证过程控制度量工具有足够的可重复性和可再现性,需要具有出色可靠的自动化功能和可重复的检测算法。我们将以下功能结合在一起 :Säntis300 平台的自动化,并适当考虑了采样误差和可重复性 ;通过创新的方法,采用专有的图像重建方法来检测特征。 外延层成分无论是常开还是常关,每个 HEMT 的核心都位于铝镓氮层,该层与二维电子气通道的形成密不可分。通过仔细控制铝镓氮层的生长,工程师可以设置电子气浓度并最终确定关键特性,例如阈值电压和导通状态串联电阻。氮化镓 HEMT 异质结构的生长从未完美。由于外延反应器的设计,衬底的弯曲以及生长过程的动力学,出现了与外延层的成分和厚度相关的径向晶圆级依赖性。它们在关键层上产生的变化 – 对于 HEMT 来说,关键层是铝镓氮层,在 LED 中是有源区 - 会降低晶圆级的均匀性和器件良率。尽管无法对关键外延层进行计量和监控,但它们在最大程度地提高均匀一致性和生产良率方面起着至关重要的作用。图3.Säntis300平台能够生成氮化镓HEMT结构中埋入式铝镓氮层的铝成分的晶圆图(模拟数据)。 一种被非常广泛采用的可以快速确定外延层组分的方法是测量光致发光的峰值。但是,这并不适用于所有外延结构,包括被氮化镓包层包围的铝镓氮层埋层。当埋入铝镓氮层时,其相对于相邻氮化镓层的能量状态在光激发下会导致极低的发射速率。更为复杂的是,铝镓氮层的激发过程效率低下,尤其是在其上方的层吸收最多(即使不是全部)入射激光的情况下。由于这两个因素,无法测量掩埋的铝镓氮层的光致发光。想要克服这问题,要么在沉积铝镓氮层之后中断生长,要么通过蚀刻其上方的材料来暴露铝镓氮层。两种选择都是破坏性过程,因此都不是理想方案。无论是蚀刻晶片还是中断生长,用于光致发光测量的材料都不能加工成器件。由于测量是在陪片上执行的,因此这个方法的另一个限制是涉及间接反馈。我们的方法提供了一种更好的替代方案,即调整电子束的穿透深度,精确有效地激发掩埋的铝镓氮层。通过使用嵌套量具对比研究,具有和不具有顶部 p 型氮化镓层的等效晶片,证明了我们技术的准确性和可重复性(参见图 4)。100 多次的重复测量,归一化标准偏差低于 ±0.25%,说明这项研究有很强的测量可重复性。当假设规格极限为 14%(目标为 ±7%)时,记录的每个样本的量具方差低于 10%。           图4.嵌套量具可重复性和可靠性研究的代表性结果,用于确定以下条件的铝镓氮层中的铝成分:(a )完整的常关氮化镓HEMT结构(埋层);(b)去除了p型GaN盖层的等效HEMT结构(表层)。掺杂控制在常关氮化镓 HEMT 中,镁掺杂会影响多种元器件特性,包括鲁棒性,截止态泄漏和阈值电压。研究氮化镓的先驱者投入了很多精力来开发实现镁掺杂的工艺,并在 1990 年代取得了成功,使氮化镓可以取代 ZnSe 并成为制造蓝色和绿色LED 和激光器的最佳材料。在随后的几十年中,从事氮化镓技术的人们在了解镁掺杂方面取得了长足的进步,其自补偿机制已被研究群体探究和讨论[5]。尽管取得了这些进步,但氮化镓 HEMT 中的镁掺杂特性仍然是一个复杂性问题。这些问题包括源于镁受体和穿透位错之间的相互作用导致的增强的泄漏路径 [6]。测量氮化镓中镁掺杂的传统技术是二次离子质谱(SIMS)。与霍尔效应测量一起使用,它使工程师能够发现所结合的镁与电活性镁的比率。不幸的是,SIMS 和霍尔效应测量都具有破坏性,前者有时甚至需要将样品送到专业实验室进行测试。但是,由于我们通过定量阴极荧光法测定镁参杂量的专有技术,原地和异地 SIMS 测量不再需要漫长的等待时间。我们的方法基于详细的光谱分析,对电子物质相互作用和阴极荧光技术以及材料特定的专业知识有深入的了解。为了证明定量阴极荧光光谱法测定镁掺杂量的可靠性,我们将测定结果与 SIMS 提供的结果进行了比较。在对多个样品进行测量后,SIMS和定量阴极荧光测定的镁参杂量的均方根误差为3.8%。为了确定技术的可重复性,我们进行了嵌套量具的可重复性和可靠性研究(见图 5)。这项研究证实了定量阴极荧光测定法良好的可重复性,当假设 60%的规格极限(目标 ±30%)和量具偏差低于 10%时,在 100 次重复测量中标准方差低于 ±1%。  图5.嵌套量具可重复性和可靠性研究的代表性结果,用于确定完全常关氮化镓HEM 结构的p 型氮化镓层中的镁浓度。 三大优点我们方法的优点之一是测量过程不破坏材料。因此本技术可以避免晶片的定期破坏性的性能测试 - 考虑到其他所有替代技术都具有材料破坏性,本技术将成为氮化镓 HEMT 中镁参杂量测定技术中的佼佼者。第二个突出的优点是该技术测量过程相对较快,可以从每个晶片的数十个位置进行采集,因此可以测试片内均匀性。第三个突出优点是该方法具有多功能性,可测量穿透位错密度,铝镓氮成分和镁掺杂量等。尽管该技术由于需要在真空下更换晶圆,使得更换待测样品耗费时间,但此技术为晶圆厂节省的空间与降低的反馈周期复杂性依然使其充满竞争力。(表 1 罗列了使用该技术的优势,同时概述了其他技术的优缺点)。由于 Säntis300 平台的诸多优点,使它非常适合于研发实验室和生产工厂中的过程控制与无损反馈。考虑到该技术可提供其他技术无法提供的深入分析,以及对现有指标的更快的测定,该技术将推动实验室提高效率、缩短开发周期,同时也可助力现有商业化产品提升产能。  

应用实例

2021.05.20

瑞典Insplorion公司LSPR用户脂类在线研讨会

       瑞典Insplorion公司将在五月份与三位顶级LSPR用户举办一场在线研讨会,并在三个不同场合展示他们的工作。会议日期分别为5月7日,18日和26日。其中两位演讲者位于亚洲,一位位于美国。此次在线研讨会的重点为脂类,但正如您所知,这项技术用途非常广泛,因此希望它能够给其他领域的科研工作者带来启发和灵感。快来注册报名吧! 注册地址:https://insplorion_webinars.funneljoy.com/webinar-sign-up。

企业动态

2021.05.17

Insplorion传感器涂层、蛋白质表面形貌、纳米颗粒与支持的脂质双层相互作用的影响

       支持的脂质双层(SLBs)已被证明是研究蛋白质、肽和纳米颗粒与生物膜相互作用的有价值的模型系统。固体衬底的物理化学性质(例如,形貌、涂层)可能会影响负载型磷脂双层的形成和性质,从而影响随后与生物分子或纳米粒子的相互作用。       这里,我们用具有耗散监测和NPS技术石英晶体微量天平分析支持涂料(SiO2 vs Si3N4)和表层[用于(纳米等离子体传感(NPS),嵌入式传感器vs凸式金纳米盘传感器]在负载型磷脂双分子层的形成和与模型蛋白细胞色素c、阳离子聚合裹着的量子点随后的交互的影响。之所以选择特定的蛋白质和纳米颗粒,是因为它们穿透双层膜的程度不同。       我们发现,双分子层的形成以及随后与细胞色素c的非穿透性关联不受基质成分或形貌的显著影响。相反,纳米颗粒与支持的脂质双层的相互作用取决于基质的组成。纳米颗粒吸附的基质依赖性归因于由二氧化硅支撑的双层膜相对于氮化硅衬底具有更大的负zeta电位,以及包裹纳米颗粒的阳离子聚合物穿透到双层膜。我们的结果表明,纳米级分析物与的支持的脂质双层相互作用程度可能受到底层衬底材料的影响。原文(英文):Influence of Sensor Coating andTopography on Protein and Nanoparticle Interaction with Supported LipidBilayersSupported lipid bilayers (SLBs) haveproven to be valuable model systems for studying the interactions of proteins,peptides, and nanoparticles with biological membranes. The physicochemicalproperties (e.g., topography, coating) of the solid substrate may affectthe formation and properties of supported phospholipid bilayers, and thus,subsequent interactions with biomolecules or nanoparticles.Here, we examine the influence ofsupport coating (SiO2vs Si3N4) andtopography [sensors with embedded vs protruding gold nanodisksfor nano plasmonic sensing (NPS)] on the formation and subsequent interactionsof supported phospholipid bilayers with the model protein cytochrome c andwith cationic polymer-wrapped quantum dots using quartz crystal microbalancewith dissipation monitoring and NPS techniques.The specific protein andnanoparticle were chosen because they differ in the degree to which theypenetrate the bilayer.We find that bilayer formation andsubsequent non-penetrative association with cytochrome c werenot significantly influenced by substrate composition or topography. Incontrast, the interactions of nanoparticles with SLBs depended on the substratecomposition. The substrate-dependence of nanoparticle adsorption is attributedto the more negative zeta-potential of the bilayers supported by thesilica vs the silicon nitride substrate and to the penetrationof the cationic polymer wrapping the nanoparticles into the bilayer. Ourresults indicate that the degree to which nanoscale analytes interact with SLBsmay be influenced by the underlying substrate material.

参数原理

2021.04.07

BioNavis橙色家族再添新成员- MP-SPR Navi™410A kauri !

2020年10月,MP-SPR大家族再次迎来功能优越的新成员,4通道结合7种样品的自动化测量使得新品MP-SPR Navi™410A KAURIS成为研究相互作用和层特征的强大工具。该仪器可兼容如血清类的复杂基质,为您的研究提供特殊的通用性。新品核心特点:高通量的4流控通道;无人值守下自动液体可同时运行处理多达7种不同的样品;动力学滴定为更快的相互作用亲和及动力学;从每个通道测量两个独立的波长,以检测厚度和折射率,构象变化和细胞相互作用。想了解更多,欢迎登陆BioNavis官网

企业动态

2021.04.07

Attolight受邀在Display Week 2021演讲

Attolight作为生产高科技设备-阴极荧光扫描电镜的世界顶尖公司,应邀参加国际显示盛会Display Week 2021 (2021年5月17日至21日)。本届显示行业的会议聚集了OLED、MicroLED、AR/VR/MR、打印显示器等领域的国际专家及在此行业最有影响力的公司。在此情形下,Attolight行业应用主管Matthew Davies将应邀在“Micro LED DisplayMetrology”会议期间做一个精彩演讲。以下为他的演讲摘要:演讲主题:大量生产µled的成本效益探测演讲人:Mattheu Davies, Attolight AG-Switzerland 主要内容:大量生产的µled带来了一系列新的挑战,这些挑战与每个晶圆器件数量和密度的大幅增加有关,特别是在测量时间、空间分辨率和晶圆吞吐量方面。在这里,我们为µled的晶圆电平测量提供了一种成本适当的探测解决方案,专门设计用于解决后前端设备验证的需求。欢迎感兴趣的同仁参加他在5月20日(周四)下午的演讲。想了解更多,请登录会议网站(http://www.displayweek.org/)

参数原理

2021.04.07

BioNavis MP-SPR用户 2021线上春季培训报名活动

让您的MP-SPR水平更进一步!BioNavis诚邀您参加于2021年4月14日和15日在线安排的MP-SPR用户会议。此次活动不仅向所有MP-SPR仪器用户开放,而且会议时间对于我们的亚洲和大洋洲客户来说非常理想适宜的!我们旨在汇聚MP-SPR新老用户共创令人振奋的学习交流平台,并为MP-SPR用户团体搭建一个网络社区。我们邀请您聆听MP-SPR领域知识最渊博的专家的演讲,以帮助您的研究取得进展和充分利用您的MP-SPR仪器。我们的专家们在MP-SPR技术表征、分析开发和相互作用评估方面的专业知识培训您。您将有机会:加深对MP-SPR技术的了解讨论实验挑战,交换意见与其他用户分享好的体验熟悉各种应用和了解新的研究趋势(生物传感器,生物材料,制药,活细胞,表征)时间安排:2021年4月14日:上午8点-中午12点(芬兰首都赫尔辛基),对应北京时间下午1-5点(CST),东京时间下午2-6点(JST),悉尼时间下午3-7点(AEDT)2021年4月15日:上午8时至中午12时(芬兰首都赫尔辛基),北京时间下午1-5时(CST),东京时间下午2-6时(JST),悉尼时间下午3-7时(AEDT)确认演讲嘉宾:Dr. Andreas Dahlin, Assoc.Prof.at Chalmers University of Technology, SwedenDr. Tapani Viitala, Adj.Prof. at University of Helsinki, FinlandDr. Arnoud Marquart, Sr. Researcher at Sanquin, SPRpages.nl, NetherlandsDr. Junlong Song, Prof. at Nanjing Forestry University, ChinaDr. Janusz Sadowski, BioNavis Ltd, FinlandDr. Yuzuru Shimazaki, Sr. Researcher at Hitachi, JapanMSc. Dominik Soeder, PhD candidate at DWI - Leibnitz Institute for InteractiveMaterials, Germany本次线上培训免费!!欢迎注册报名!详细的议程和网络研讨会的链接将在注册结束后发送给所有与会者。注册请点击以下链接:https://www.bionavis.com/en/news/registration-online-user-training-asia/

参数原理

2021.04.06

Insplorion——成功开发多路电池传感器项目

The project “Amultiplex plasmonic battery sensor for improved battery control”, funded by theSwedish Energy Agency’s Battery Fund Program, has been finalized with positiveresults. Insplorion’s battery sensor and the underlying measurement technologyNanoPlasmonic Sensing (NPS) have been improved within the project. Among otherthings, the sensor’s long-term stability and reproducibility have beenenhanced.The developmentwork has led to an improved integration of the sensor in coin cells, which hasmade it possible to obtain data with high statistics and reproducibility. Thechemical stability of the sensor, and thus its service life, has been improvedby coating the sensor with an ultra-thin, approximately 50 nm thick, layer of achemically stable polymer. Commercial electrodes and electrolytes have beenused to further increase the reproducibility of the data obtained. Within theframework of the project, the sensor signal has also been correlated withchemical processes, such as the loss of capacity and the state of charge of thecells. Measurements have mainly been performed on lithium ion whole and halfcells with graphite anodes and lithium iron phosphate (LFP) cathodes.In this project,the first steps have been taken to develop a multiplex sensor for simultaneousmeasurements of chemical / structural changes and temperature changes, insidebattery cells, with a single fiber probe. Work on developing a multiplex sensorwill now continue at Insplorion.“Now we have shown that we can measure the temperature inside the batterycell at the same time as chemical changes, which the market has demanded sincewe introduced our battery sensor. The greater accuracy achieved by measuringthe temperature inside the cell further strengthens our sensor’s contributionto optimizing the entire battery pack”, saysPatrik Dahlqvist, CEO of Insplorion.The project wasfinanced by the Swedish Energy Agency’s Battery Fund Program and was acollaboration between Insplorion AB and Chalmers University of Technology. CEVTAB has conducted a market research within the project. The project has beensupported by a reference group consisting of representatives from AMTE PowerLtd (UK), CEVT AB (Sweden), Dukosi Ltd (UK) and SAFT Batteries (France).

参数原理

2021.03.22

Micro Material 纳米力学测试系统—纳米压痕

Thin films and coatings (from a few nm to about 1 µm thick) need to be optimised both in the mechanical properties and tribological performance.Typically, this is done with a combination of indentation and scratch tests.Conventional scratch test conditions are not appropriate for these types ofmaterials as they were developed for testing thicker coatings. Instead thenano-scratch & wear module can provide what is needed. Figure 1: Ramped scratches to 500 mN show brittle fracture of 1.5 µm TiFeN films on Si at high load.How it worksThe sample to be tested is moved perpendicular to the scratch probe whilstthe contact is either held constant or ramped at a user-defined rate.Throughout the test the probe penetration depth and tangential (frictional)load are continuously monitored. Single and multi-pass tests are possible. Multi-pass tests allow the investigation of nano-wear and micro-wear.The Nano-Scratch & Wear module has found many applications in sectorsas diverse as optical, microelectronics, polymer/biomaterial, and tribologicalcoatings.  It is available as a stand alone instrument (nano-scratchtester) or as an option for the NanoTest Vantage platform.Ramped scratch, corrected for baseline sampletopograp Figure 2 shows a scratch test with 3 µm end radius probe scanning over a 150 µm track at a scan speed of 2 µm/s.A pre-scratch scan was carried out using an ultra low contact force inorder to assess baseline sample topography.The red line shows the on-load probe depth, which represents elastic and plastic depth. After 20 µm the load is ramped at 2.5 mN/s.The black line shows the residual (plastic) depth once the scratch loadhas been removed. This has been corrected for initial sample topography.The frictional force on the indenter can be recorded throughout the experiment.Micro-scratch TestingThe 30 N high load head can be used across the full load range formicro-scratch and micro-wear testing. The frictional force on the indenter canalso be recorded throughout the entire load range.This high load scratch capability is available on NanoTest Vantage and NanoTest Xtreme instrumentsequipped with the high load head.Check out our high temperature micro-scratch and impact testing tech note whichdescribes case studies that combine the proven NanoTest high temperaturecapability with micro-scale scratch and impact tests on hard, wear-resistantcoatings.

参数原理

2021.03.18

表面工程工艺技术中心第九届技术交流会圆满落幕

 2020年11月4日到6日,表面工程工艺技术中心第九届技术交流会在中国贵州省遵义隆重举行。此次会议由中国航天科技集团有限公司主办,重庆表面工程协会承办、贵州航天精工制造有限公司协办。大会主题包括薄膜、 涂层、表面改性、表面分析、航天器、武器装备应用等相关领域。与会代表人数约200人,与会者来自中国航天科技集团有限公司的19家理事单位、高校的专家学者等等。大家齐聚遵义,共商基于航天器表面应用的表面工程技术的研究现状,推测行业发展趋势。我公司对此次会议极其重视,专门派出代表出席会议。在会议上,我方代表听取了北京卫星制造厂有限公司、兰州空间技术物理研究所等公司展示的各领域研究成果,并同其他与会者探讨行业动态,力求开拓思维和把握机遇。展位上,我公司为大家带来了多参数表面等离子体共振分析仪、NanoTest 系列、原子层沉积系统和脉冲激光沉积系统:多参数表面等离子体共振分析仪 适用于固体薄膜、纳米粒子等的强大功能;NanoTest 系列适用于卫星材料的低氧低温研究、航天航空器引擎组件的高温测试等等的强大功能;原子层沉积系统具备高质量的ALD薄膜的沉积技术;脉冲激光沉积系统的用途广泛的薄膜沉积技术。与会者表现出极大的兴趣。

企业动态

2020.12.02

远恒正通邀您领略2020国际显示技术大会(ICDT 2020)的风采

2020年10月11日-14日,2020国际显示技术大会(ICDT 2020) 在中国光谷科技会展中心盛大召开。此次会议吸引了数百名国内外院士,国家高端人才和企业精英参加,是每年一度的国际显示技术盛会。北京远恒正通有限公司也应邀出席和见证本次会议。国际显示技术大会(ICDT 2020)是国际信息显示学会(Society for Information Display, SID)在美国境外举办的仅有的独立品牌的极具影响力和号召力的显示技术会议,来自国内外的显示行业有影响力的专家学者、业内名企等齐聚一堂,共同探讨了显示产业现状及未来趋势。 ICDT 2020的Micro-LED领域共有4个Session:MicroLED Emerging Technology,Full Color Micro-LED,MicroLED Display,MicroLED Chip Technology,300篇左右的研讨会报告,聚焦显示器行业的崭新成果和动态。北京正通远恒参会人员认真聆听和记录各专家报告,积极与在场客户沟通交流,既宣传了本公司优势产品又深入了解了行业动态和客户需求。本次会议共历时4天,在10月14日圆满落下帷幕,这次会议提供了全球显示生产企业和学术界交流的良好契机,极大的推进了显示技术的研究和智能制造技术的发展。一直以来,北京远恒正通积极关注行业趋势发展,努力寻求发展新思路,思考发展新方向。

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2020.10.21

北京正通远恒邀您共睹第十六届全国MOCVD学术会议的风采

2020年8月4日,第十六届MOCVD会议在安徽黄山屯溪香茗酒店隆重召开,大会共有26家半导体相关企业参展,500余人参加。本次大会以“先进光电技术·智能绿色制造”为主题展开,大会主办方热烈欢迎来自全国的参展企业和参会人员,随后就半体的发展和成果做了详细的报告。北京正通远恒科技有限公司应邀携三类主要产品参展:Attolight 阴极荧光扫描电镜设备,脉冲激光沉积设备(PLD)及原子层沉积设备(ALD),尤其是Attolight 阴极荧光扫描电镜设备,是该公司最近引进的半导体相关的核心产品,引起参会者很大的兴趣和关注。    这场关于第三代半导体学术界和产业界的学术盛会在8月7日圆满落幕,该会议极大的推动了光电子器件和微电子器件与芯片的发展及产业化。

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2020.10.19

北京正通远恒科技有限公司邀您参加第十六届全国MOCVD学术会议

2020年8月4-7日,届时北京正通远恒科技有限公司将携公司主营产品参加第十六届全国MOCVD学术会议(THE 16TH NATIONAL MOCVD CONFERENCE OF CHINA)http://www.mocvd.org.cn/a/partner/,特在此诚挚的邀请您莅临我们的展台,与我们共话科技新风向。 作为MOCVD技术和化合物半导体材料器件研发交流的平台,自1989年会议举办以来,“全国MOCVD学术会议”已经成功举办了十五届,会议规模和影响力越来越大,成为全国学术界和产业界广泛参与的学术盛会。本次会议以“先进光电技术·智能绿色制造”为主题,选择在安徽屯溪举行,与来自祖国大陆和港澳台地区的与会专家学者、工程技术人员和企业家将在MOCVD生长机理与外延技术、MOCVD设备(整机/部件/配件/原材料)、材料结构与物性、光电子器件、电力电子器件、微波射频器件、LED智能照明与物联网、半导体激光器、光伏/光探测器、可见光通信技术等领域开展广泛交流,了解发展动态,促进相互合作。 金属有机化学气相淀积(MOCVD)技术自二十世纪六十年代提出以来,取得了飞速进步,已经广泛应用于制备III族氮化物、III-V族化合物、碲化物、氧化物等重要半导体材料及其量子结构,极大地推动了光电子器件和微电子器件与芯片的发展及产业化,也成为半导体超晶格、量子阱、量子线、量子点结构材料与器件研究的关键技术。未来MOCVD技术的发展将会给化合物半导体科学技术和产业发展带来更为广阔的前景。这次大会的主题内容包括以下:1)外延生长机理和生长动力学2)半导体材料结构与物性3)光电子材料与器件4)电子材料与器件5)超宽禁带半导体材料与器件6)低维半导体等新型材料与器件7)封装技术及封装材料8)装备与基础原材料  再次诚邀您能参加此次会议,并莅临我们展位,与我们共话发展新未来!

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2020.07.17

芬兰BioNavis为SPR客户提供暑期培训课程,让您成为操作专家!

SPR暑期班,2019年6月6日-11日暑期班主要面向学生和工业参与者,帮助他们成为熟练的SPR用户。暑期班将包括:1、 实际操作培训  2、基于问题的学习 3、 不同的实际操作案例时间:2019年6月6日-11日              地点:芬兰坦佩雷大学              学分:3个ECTS学分              主办单位:坦佩雷大学/MET和Bionavis公司              协办单位:赫尔辛基大学阿卡德米分校              观众:理学硕士和博士生以及工业参与者您将学到什么:精通生命科学SPR——从亲和力和动力学常数到构象变化,对预先选择的一组分子进行实践培训,SPR实验计划,分析开发,了解潜在的物理化学现象以解决问题,科学和工业中SPR的新应用。您将成为SPR的独立专家。演讲者:Prof. Richard O’Kennedy (Dublin City University/Biotechnology)Prof. Orlando Rojas (Aalto University/Bioproducts and Biosystems)       Prof. Vesa Hyt?nen (University of Tampere/Protein Dynamics)Dr. Tapani Viitala (University of Helsinki/Biopharmaceuticals)Dr. Arnoud Marquart (Sanquin Blood Supply Foundation, Founder of sprpages.nl)Prof. Jouko Peltonen (?bo Akademi/Physical Chemistry)As. Prof. Stefan Spirk (Graz University of Technology/Chemistry and Technology of Materials)Prof. Thomas Sch?fer (University of the Basque Country/Polymat)Dr. Hannes Orelma (VTT Technical Research Centre of Finland)Adj. Prof. Janusz Sadowski (BioNavis Ltd) 更多信息和注册:http://cofa.uta.fi/spr-summerschool2019/index.html  (注册截止期:2019年4月15日)                         

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2019.03.14

正通远恒邀您出席SEMICON CHINA 2019

      又是一年岁末伊始时,2019年SEMICON CHINA开始了紧锣密鼓的筹备。今年展会依然选择在上海新国际博览中心举行,展会从2019.03.20-2019.03.22,为期三天。北京正通远恒科技有限公司作为半导体行业的一份子,将携世界ALD引领品牌Picousn 一同参与到此次国内外半导体行业的大会中,并在此诚挚邀请您能拨冗莅临此次展会,与我们共襄盛举!我们在N2-2241静候您的到来!      SEMICON China  是中国首屈一指的半导体旗舰展览,是中国半导体界的"扛把子”。每年吸引全球高数量和高质量的观众到场参观,包括企业高层领导人、采购商和投资人、技术工程师、中央及产业发展热点地区政府官员,是业界公认的会见新老供应商,洽谈生意,获取新产品、技术和解决方案的首要平台。      Picosun是一家专注于ALD的全球化公司,致力于提供ALD薄膜方案。Picosun工业型ALD已经在多家IC、电力电子器件、TFT、LED、MEMS、生物医疗器件、OLED、光学部件等先进工厂中被使用。     灵活的设计确保沉积高质量的ALD薄膜,超灵活的系统配置也能满足用户未来的需求和应用。专利的热壁设计、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计,使得无颗粒沉积广泛应用于平面晶圆、3D基片和所有纳米尺度的材料。即使在具有挑战性的多孔材料、超高深宽比和纳米颗粒表面沉积,系统都能实现好的均匀性,这些都归功于Picosun专利技术Picoflow™       再次诚邀您莅临此次展会,届时Picosun亚洲CEO等领导都将出席此次会议,并在现场为您作最精彩的介绍。相约魔都,不见不散!

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2019.02.22

正通远恒邀您参加中国物理学2018秋季学术会议

      中国物理学会2018年秋季学术会议由大连理工大学承办,将于2018年9月13日(报到)- 16日在大连理工大学(辽宁省大连市高新园区凌工路2号)举行。北京正通远恒科技有限公司作为推动中国物理学发展的企业参与者,也就一如既往地加入到此次会议中来,并现场设立展台,与与会来宾共瞻科技新风尚。展位号:B33 ▼▼▼▼      中国物理学会秋季学术会议(CPS Fall Meeting)是由中国物理学会主办的年度学术会议,已成为中国物理学界规模最大、综合性最强的品牌学术盛会,引起了国际物理学界的关注。今年的会议主题包括:A:粒子物理、场论与宇宙学;B:核物理与加速器物理;C:原子分子物理;D:光物理;E:等离子体物理;F:纳米与介观物理;G:表面与低维物理;H:半导体物理;I:强关联与超导物理;J:磁学;K:软凝聚态物理与生物物理;L:量子信息;M:计算物理;N:统计物理与复杂体系;O:电介质物理;P:液晶;Q:超快物理;R:高能量密度物理;S:拓扑材料、物理与器件。 ▼▼▼▼    展会现场,我公司将主要为您介绍薄膜沉积制备技术:原子层沉积技术和脉冲激光沉积技术。我们的原子层沉积设备是来自世界品牌-芬兰PICOSUN,Picosun™ALD目前已成为世界原子层沉积技术的领头雁,PICOSUN更是新推出了P1200型号,更能满足更高要求的沉积技术。另外,我们的脉冲激光沉积技术一直是我们薄膜沉积领域的优势产品,该技术来自美国的Neocera品牌,面世以来,一直备受用户的高度好评。同时展会现场我们还会为您介绍我公司的另一优势产品—— 英国MicroMaterials公司的纳米压痕仪(纳米力学综合测试系统),MicroMaterials的纳米力学测试系列产品可以实现真空环境下的纳米力学测试,现在Micro Materials 公司的最新产品NanoTest Xtreme 可以实现真空环境下-100℃至850℃这一温度范围内的纳米级力学测试, 并且没有氧化和结霜的影响。       更多更详细的技术介绍,您可以前往我公司网站进行了解,更多需求您也可以直接拨打我们的客服电话,我们会安排最专业的工程师为您服务!▼▼        我们再次诚邀您出席此次会议,与我们共话物理科技新动态,远瞻中国物理新风向。金色九月,在这硕果累累之际,正通远恒在滨城静候您的到来!

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2018.07.23

北京正通远恒科技有限公司参加SWEDCS 2018研讨会

        SWEDCS 2018是一个汇集世界一流的新兴设备、电路和系统专家的论,它由上海科技大学信息科学技术学院(SIST)组织和主办。上海科技大学于2013年由上海市政府和中国科学院联合创办,旨在成为世界一流的学术研究机构。        SWEDCS 2018 将于2018.6.04在上海科技大学召开,届时北京正通远恒科技有限公司也将携公司主营产品亮相研讨会,特在此诚挚的邀请您莅临我们的展台,与我们共话科技新风向!        展会现场,我公司将主要为您介绍薄膜沉积制备技术:原子层沉积技术和脉冲激光沉积技术。我们的原子层沉积设备是来自芬兰的世界品牌-PICOSUN,Picosun™ALD目前已成为世界原子层沉积技术的领头雁,今年PICOSUN更是新推出了P1200型号,更能满足更高要求的沉积技术。另外,我们的脉冲激光沉积技术一直是我们薄膜沉积领域的优势产品,该技术是美国的Neocera品牌。面世以来,一直备受用户的高度好评。所有设备的详细技术介绍,您都可以前往我公司网站进行了解,更多需求您可以直接拨打我们的客服电话,我们会安排最专业的工程师为您服务。        再次诚邀您能参加此次会议,并莅临我们展位,与我们共话发展新未来!

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2018.05.22

助力中国化学腾飞,正通远恒受邀参加中国化学会第十三届全国分析化学年会

      由中国化学会和国家自然科学基金委主办,西北大学和南京大学承办的“第十三届全国分析化学年会”定于2018 年6 月14-17 日在古都西安曲江国际会议中心召开。这是我国分析化学领域三年一届的盛会,会议将就我国近年来分析化学学科的新成就、新进展进行学术交流和研讨。      北京正通远恒科技有限公司作为化学领域科研设备的一份子,也一如既往的支持着中国化学会,支持中国化学的腾飞与发展。我公司届时将携我们的生物大分子相互作用仪以及局域表面等离子体共振分析仪亮相展会,并在展台现场为您介绍芬兰BioNavis旗下的多参数表面等离子体共振分析仪MP-SPR的最新研究动向与应用。我们的展位号是 C8,恭候您的莅临!      芬兰BioNavis 多参数表面等离子体共振分析仪MP-SPR主要应用在材料、生命以及传感器领域,从分子相互作用研究到生物物理学和生物材料学研究,使用PureKinetics™提供优质的数据。它也实现了构象变化的测量。MP-SPR 与传统SPR 最大的区别在于光学方面。传统的SPR,光学测量仅仅集中于非常窄的θ 角范围,限制了仪器的功能。SPR Navi™ 扫描很宽的θ 角范围(几十度),从而可以获得完整的SPR 曲线。而且,配备额外的激光束后,SPR Navi™ 成为一个独一无二的研究工具,解决了许多之前属于开放式的研究课题。由于完整的SPR 曲线上可以反映并检测出界面层的所有变化,MP-SPR 能够研究许多种的样品、表界面和体系,而这是传统的SPR 所不能的。      更多的产品信息,敬请莅临我们展位,现场专业工程师将为您做更精彩的介绍!      再次诚邀您参加此次盛会,期待在西安与您相会!

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2018.05.22

正通远恒SemiconChina2018圆满结束

       3月14日-16日,由国际半导体产业协会(SEMI)中国委员会主办的SEMICON China 2017 国际半导体展在上海新国际博览中心成功举办。正通远恒携薄膜方案解决专家Picosun Oy亮相展会,出色的产品赢得了国内外业界人士的高度赞赏与青睐。           展会现场,以Picosun Oy 总裁为首的一众代表为现场客户做了详细的产品介绍,技术研发、设备制造以及我们产品的未来发展战略方向等。现场我们为客户展示了1、2、4、5、6、8、12英寸不同尺寸的晶圆,更是引得众多观众的驻足欣赏。       一年一度的SemiconChina盛事终于落下帷幕,而我们的服务却从未停歇。我们将继往开来,一直竭诚为您服务。

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2018.03.29

正通远恒邀您参加SEMICON CHINA 2018

又是一年岁末伊始时,2018年SEMICON CHINA开始了紧锣密鼓的筹备。今年展会依然选择在上海新国际博览中心举行,展会从2018.03.14-2018.03.16,为期三天。北京正通远恒科技有限公司作为半导体行业的一份子,正通远恒携世界ALD引领品牌Picousn Oy一同参与到国内外半导体行业的大潮中,并在此诚挚邀请您能拨冗莅临此次展会,与我们共襄盛举!我们在N1-1716 静候您的到来!SEMICON China  是中国首屈一指的半导体旗舰展览,是中国半导体界的"扛把子”。每年吸引全球高数量和高质量的观众到场参观,包括企业高层领导人、采购商和投资人、技术工程师、中央及产业发展热点地区政府官员,是业界公认的会见新老供应商,洽谈生意,获取最新产品、技术和解决方案的首要平台。Picosun是一家专注于ALD的全球化公司,致力于提供一流的ALD薄膜方案。Picosun工业型ALD已经在多家IC、电力电子器件、TFT、LED、MEMS、生物医疗器件、OLED、光学部件等先进工厂中被使用。ALD是一种表面自限制性的化学气相沉积技术。具备以下优势:● 具有极好的保形性(100%保形性:平面、深沟槽、3D样品表面等都可均匀镀膜)。●可以在几纳米至几十纳米的IC工艺中生长足够薄的薄膜。● 生长的薄膜致密无针孔,绝缘、钝化、防潮效果非常好。● 较低的沉积温度(100-500℃之间)。● 可沉积叠层薄膜,使薄膜具有更高的击穿电压、更好的漏电等性能。更多精彩内容您可以关注我们的微信公众号或者前往我司网站了解。我们的公众号是:HONOPROF;网址:www.honoprof.com.cn

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2018.01.05

WTC 2017来袭,正通远恒激情助力!

       世界摩擦学大会(简称WTC)每四年召开一次,是世界范围内摩擦学相关工作者的一次顶级学术盛会。WTC 2017 (第六届世界摩擦学大会)是世界摩擦学大会首次由中国主办召开,这也将是中国摩擦学领域最大的国际学术会议。大会共设有9个会场,预计将有来自世界各地800余个口头报告,包括大会报告,主题报告和邀请报告。正通远恒作为本次大会的参展商将参加第六届世界摩擦学大会,并在现场设立展台,展位号23!      正通远恒几年来一直致力于推动国内摩擦学的学术活动,并联合英国MicroMaterials品牌企业在中国推出NanoTest系列的摩擦学领域产品,将国外的技术持续引进国内,为中国摩擦学的发展贡献力量。MicroMaterials的纳米力学测试系列产品可以实现真空环境下的纳米力学测试,为了更加准确、可靠地预测材料的性质,研究学者们对测试条件模拟真实环境程度的要求越来越高。现在Micro Materials 公司的最新产品NanoTest Xtreme 可以实现真空环境下-100℃至850℃这一温度范围内的纳米级力学测试, 并且没有氧化和结霜的影响。       更多产品详细参数、应用,请您现场莅临我公司展位,我们的工程师会为您作更详细更专业的介绍。      在此,我们再次诚邀您参加此次学术大会,机会难得,我们期待您的莅临!

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2017.09.18

正通远恒即将参加中国物理学2017秋季学术会议

  一年一度的《中国物理学2017秋季学术会议》将于2017年9月7日(报到)至10日在四川省成都市四川大学(望江校区)举行。正通远恒每年都会参加此会议,为推动中国物理学发展出一份力。今年我们一如既往,并在现场设立展台,我们的展位号是15号,特在此诚挚的邀请您莅临我们的展台,与我们共话科技新风向!   中国物理学会秋季学术会议(CPS Fall Meeting)是由中国物理学会主办的年度学术会议,已成为中国物理学界规模最大、综合性最强的品牌学术盛会,引起了国际物理学界的关注。今年的会议主题包括:A:粒子物理、场论与宇宙学;B:核物理与加速器物理;C:原子分子物理;D:光物理;E:等离子体物理;F:纳米与介观物理;G:表面与低维物理;H:半导体物理;I:强关联与超导物理;J:磁学;K:软凝聚态物理与生物物理;L:量子信息;M:计算物理;N:统计物理与复杂体系;O:电介质物理;P:液晶;Q:超快物理;R:高能量密度物理;S:使役条件与极端条件物理。会议期间还将举行全国物理学院院长/系主任联席会、女物理学家圆桌会、IOP 专题报告会、APS 刊物报告会、仪器专题报告会等多个会议。   展会现场,我公司将主要为您介绍薄膜沉积制备技术:原子层沉积技术和脉冲激光沉积技术。我们的原子层沉积设备是来自芬兰的世界品牌-PICOSUN,Picosun™ALD目前已成为世界原子层沉积技术的领头雁,今年PICOSUN更是新推出了P1200型号,更能满足更高要求的沉积技术。另外,我们的脉冲激光沉积技术一直是我们薄膜沉积领域的优势产品,该技术是美国的Neocera品牌。面世以来,一直备受用户的高度好评。所有设备的详细技术介绍,您都可以前往我公司网站进行了解,更多需求您可以直接拨打我们的客服电话,我们会安排最专业的工程师为您服务。   再次诚邀您能参加此次会议,并莅临我们展位,与我们共话物理学发展新未来!

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2017.08.29

INVITATION ! 2nd International Conference on Applied Surface Science

The 2nd International Conference on Applied Surface Science will take place from the 12th - 15th June 2017 in Dalian. For all information on the conference, visit the 2nd International Conference on Applied Surface Science website (www.icassconference.com). As exhibitor,we will attend this conference and show our products :MP-SPR .TOPICSThe main topics of the conference are in line with the most popular areas of research reported in Applied Surface Science. ICASS will report on and discuss current research on the role and use of surfaces in chemical and physical processes, related to catalysis, electrochemistry, energy, new/functional materials and nanotechnology. Also the various techniques and characterization methods will be discussed.This is a significant opportunity for you to hear from leading scientists in the area and to network with colleagues in industry and academia to ensure you keep abreast of recent developments in this fast evolving field.Conference topics1. Surface science of catalysis, electrocatalysis and photocatalysis2. Surface engineering and functionalization3. Functional surfaces and coatings4. Surface science applied to energy conversion and storage5. Surface nanotechnology and devices6. Biointerfaces7. Electrochemistry at surfaces and corrosion protection strategies8. Advances in surface characterization tools9. Environmentally-friendly materials10. Semiconductors – surface and interface11. 2D layered materials and assemblingINVITIONBeijing Honoprof Sci.&Tech.Ltd sincerely invites you to our booth and communicate with us about new technologies and applications in Surface Science。What are you waiting for?  Come and join us! 

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2017.06.06

不负韶光丨正通远恒邀您参加国际机器视觉展

2017亚洲国际机器视觉工业及应用展览会将于2017.5.04在上海新国际博览中心拉开帷幕。为与您更好的畅聊视觉科技信息,我们公司也将出席此次会议并在现场设立展台,我们的展位号码:E5 - H29。 01// 展会主题· 机器视觉辅件图像处理系统:光学文字、识别系统、红外图像系统; 机器视觉集成:字符处理和识别系统、自动化/机器人技术、红外图像系统、质量检测、自动识别、表面检测、印刷、包装、光学检查等系统。 · 机器视觉核心部件智能相机:黑白智能相机、线扫描智能相机、彩色智能相机、CMOS智能相机、ID读码器等;板 卡:黑白采集卡、图像压缩、彩色采集卡等;软件包:图像处理软件、机器视 觉工具软件 ;工业镜头:FA镜头、高分辨率镜头、图像扫描镜头等;光 源:LED光源、紫外照明系统、光纤照明系统等; 02// 公司展品此次展会我们会带来我们最新的技术产品 - 线共焦传感器,并在现场用我们的设备演示3D玻璃曲边R角的轮廓检测。我们的线共焦传感器可以实现亚微米精度的在线3D测量,具体应用包括:透明/不透明材料三维形貌测量、厚度测量、尺寸及距离测量、粗糙度、平整度、缺陷检测等。 03// 邀约现场检测正通远恒欢迎您携带您的样品莅临我们展位,我们可以现场为您做样品检测。同时我们再次诚邀您出席此次会议,与我们共话视觉科技新动态,远瞻检测技术新风向。热情五月,春去夏至,正通远恒在申城静候您的到来!

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2017.04.27

正通远恒邀您参加SEMI中国HB-LED标准技术委员会会议

        SEMI中国HB-LED标准技术委员会会议将于2017.04.20日在安徽芜湖汉爵阳明大酒店开幕,SEMI中国HB-LED标准技术委员会从2014年4月成立以来,运行近3年,召开了6次委员会会议,有5条标准在研,并于2017年2月发布首条标准:单晶定向检测方法。北京正通远恒科技有限公司代表也将参加此次会议,与您共话Picosun™ALD在光学领域的新技术、新应用,展望原子层沉积系统在未来OLED、LED领域的新发展。 Picosun™ALD在LED领域的应用包含:可长的金属材料有:器件钝化Al2O3,SiO2寿命提升Al2O3效率提升Al2O3镜面保护、防变色及银迁移Al2O3发光荧光粉密封保护层Al2O3透明导电层TCOZnO:Al光学薄膜TiO2,SiO2 用于LED的Picosun™ALD系统:·  PICOPLATFORM™ 200 和 PICOPLATFORM™ 300 cluster tools:全自动,半自动兼容,高产量,ALD腔室间同时加工,生产过程中保持固定真空。最大可加工300mm样品。·  PICOSUN™ P-300 Advanced/PICOSUN™ P-300 Pro:高产量批量加工,半自动兼容,多种样品传送模式可选,最大可加工200mm、300mm样品。·  PICOSUN™ R-series:先进的R&D设备,独特的模快化设计及升级性。最大可加工样品200mm         北京正通远恒科技有限公司再次邀您一起参加此次会议,我们的参会代表将为您带来更多Picosun™ALD在光学领域的应用案例、产品介绍,更多产品资讯您也可以前往www.picosun.com了解。

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2017.04.14

感恩有您-正通远恒在SEMICON CHINA2017取得圆满成功

     2017年3月16日为期三天的semicon china在上海新国际博览中心落下帷幕,展会规模庞大、人气爆棚。我公司携ald全球领先品牌picosun共同参展此次会议,并取得圆满成功。在当下日新月异,百舸争流的产业发展大潮中,正通远恒坚持不懈,突破万难并取得突出成绩,积极推动ALD在中国半导体行业的发展。     展会现场,我公司集中展示了Picosun™ ALD原子层沉积系统不同尺寸的wafers demo,吸引众多观众的驻足欣赏,展台现场门庭若市、人来人往、络绎不绝。      我们此次展出的产品主要是芬兰Picosun™公司的原子层沉积ALD,Picosun ALD历经四十多年的世界考验,现已成为ALD全球的领先品牌 。Picosun ALD主要作用领域包括:LED/OLED、MEMS/集成电路、半导体、3D封装/IC、医疗、  光学、防变色涂层、 装饰涂层、燃料电池等。产品详细参数您可以来电咨询或者前往我司网站了解。     正通远恒感恩您的陪伴,您的咨询与支持是对我们工作的最大肯定。展会在不舍中结束,但是正通远恒与您的缘分才刚刚开始,2017我们继往开来,继续竭诚为您服务!    我司网站:www.honoprof.com.cn 

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2017.03.22

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