您好，欢迎访问仪器信息网
注册
搜全站
搜展位
北京正通远恒科技有限公司

关注

已关注

银牌22年 银牌

已认证

粉丝量 0

400-860-5168转0338

仪器信息网认证电话，请放心拨打

全部分类
首页
最新动态
产品中心
解决方案
资料中心
访客留言
联系方式
视频中心
关于我们

公司简介

资质荣誉

诚聘英才
当前位置： 北京正通远恒 > 原子层沉积设备 > 芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV

芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV

品牌： Picosun
产地： 芬兰
型号： PICOSUN™ALD-P300
样本： 下载
报价： ¥100万 - 200万

核心参数

产地类别： 进口

产品介绍

400-860-5168转0338

芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV：


PICOSUN™ P-300系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有专利的热壁、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计，确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和卓越的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷，最大限度的减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有专利技术的Picoflow™使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效，并已在生产线上得到验证。


PICOSUN™ P-300BV系统代表了最尖端的工业化ALD工艺水平。这个系统是为半自动化的批量生产而设计。设备本身针对快速批量生产进行了优化，并允许通过SECS/GEM整合到自动化生产线上。拥有加热选项的真空加载系统可以对敏感的基底进行洁净加工并沉积金属氮化物薄膜。


薄膜沉积PICOSUN™ALD-P300B型 技术参数：


衬底尺寸和类型

200mm晶圆 25片/批次（标准间距）

150mm 晶圆 50片/批次（标准间距）

100mm 晶圆 75片/批次（标准间距）

非标准晶圆类基底（使用定制夹具）

高深宽比基底（最大深宽比1:2500）

工艺温度
50 – 500°C


标准工艺 

· 批量生产的平均工艺时间小于10秒/循环*

· Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN,TiN以及   各种金属

·  同一批次薄膜不均匀性<1% 1σ

   (Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**


基片加载

气动升降，手动装载

线性半自动装载


前驱体

液态，固态，气态，臭氧源

源瓶余量传感器，提供清洗和装源服务

4根独立的源管线，最多加载8个前驱体源


薄膜沉积PICOSUN™ALD-P300B 应用案例
集成电路组件
微机电系统
氧化物间隔层

间聚介质

高K栅介质

隧穿氧化物薄膜

氧化物阻挡层

钝化层

间隙填充层

覆盖层

铜阻挡层和种子层

粘附层

扩散阻挡层

电极

金属化

扩散阻挡层

耐磨涂层

电荷耗散层

导热层

导电种子层

刻蚀阻挡层

电绝缘层

防摩擦层

防粘着层

光学薄膜

生物兼容层

密封层

纳米孔封堵层

其它
显示

晶体管

电容器

存储器

读写磁头

钝化

透明导电薄膜

绝缘层


典型用户

用户单位

采购时间

采购数量

华东师范大学

2008/06/20

1

相关方案

更多

生物大分子相互作用分析仪SPR表征大面积的原子层石墨烯膜

芬兰BioNavis生物大分子相互作用分析仪又叫所参数表面等离子体共振分析仪，BioNavis的SPR是在传统领域的基础上将应用扩展到材料科学和生命科学等领域。本篇文章主要介绍的就是利用BioNavis MP-SPR表征大面积的原子层石墨烯膜。

材料

2016/09/05

相关资料

更多

picosun ald工业新工艺

ESPOO, Finland, 28th May, 2014 – Picosun Oy, the leading manufacturer of high quality Atomic Layer Deposition (ALD) equipment for global industries, now offers new industrial ALD processes for copper and niobium oxide. Ultra-thin copper films with the highest level of uniformity and conformality only ALD can offer as a thin film deposition method are a crucial element in today’s and future’s microelectronics and MEMS (microelectromechanical sensors) manufacturing. Copper metallization and seed layers are needed in e.g. microprocessors and 3D-integrated microelectronic components as interconnects. Niobium oxide (Nb2O5), on the other hand, is ideal for moisture and corrosion protection due to its hardness and chemical resistance.

49KB

2014/06/16
工商信息

企业名称

北京正通远恒科技有限公司

企业信息已认证

企业类型

信用代码

110105001988017

成立日期

2001-03-09

注册资本

30

经营范围

科技产品的技术开发、技术培训、技术服务、技术咨询;信息咨询(不含中介服务);市场调研;财务咨询;零售仪器仪表、机械设备、电器设备、化工产品(不含一类易制毒化学品)、建筑材料、五金交电、计算机及配件、百货;承办展览展示;组织文化艺术交流。(企业依法自主选择经营项目,开展经营活动;依法须经批准的项目,经相关部门批准后依批准的内容开展经营活动;不得从事本市产业政策禁止和限制类项目的经营活动。)

联系方式

北京正通远恒科技有限公司

公司地址

北京市朝阳区胜古中路2号院7号楼A座611室

客服电话

400-860-5168转0338
北京正通远恒科技有限公司为您提供Picosun芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BVPICOSUN™ALD-P300，PicosunPICOSUN™ALD-P300产地为芬兰，属于进口原子层沉积设备，除了芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多原子层沉积设备,北京正通远恒客服电话400-860-5168转0338，售前、售后均可联系。
推荐产品
供应产品

手机版:

芬兰原子层沉积技术PICOSUN™ALD-P300BV

北京正通远恒科技有限公司

查看电话

沟通底价

提交后，商家将派代表为您专人服务

获取验证码

{{maxedution}}s后重新发送

获取多家报价，选型效率提升30%
提交留言
点击提交代表您同意 《用户服务协议》 《隐私政策》 且同意关注厂商展位
联系方式：

公司名称： 北京正通远恒科技有限公司

公司地址： 北京市朝阳区胜古中路2号院7号楼A座611室 联系人： 邮编： 100029 联系电话： 400-860-5168转0338

主营产品：

分子互作分析仪 纳米压痕仪、划痕仪 其它电化学仪 外延系统 其它无损设备 扫描电镜（SEM） 激光拉曼光谱(RAMAN) 爆炸品检测专用仪器 离子检测仪 原子层沉积设备 物理气相沉积设备

友情链接：

北京正通远恒科技有限公司

仪器信息网APP

展位手机站