【Hitachi】日立超高分辨率扫描电子显微镜S-5500

超高分辨率的显微分析对设备有特殊的要求，以便可以得到新的信息及展现纳米世界的秘密。
最新的S-5500完全可以满足这些需要。

技术指标：
二次电子成像分辨率： 0.4nm (30kV) ；1.6nm (1kV)
加速电压： 0.5~30kV
放大倍率： 60X ~ 10,000X (低倍模式) ；
800~2,000,000X(高倍模式)
电子光学
电子枪： 冷场发射电子源
透镜系统： 3级电磁透镜系统
物镜光栏： 可变型 (4孔可选，在真空系统外进行微
调，100-50-50-30um)
消像散线圈： 八极电磁线圈系统
扫描线圈： 2级电磁偏转线圈(高倍模式) ；1级电磁
线圈(低倍模式)
电子束遮挡： 静电型(与扫描线圈同步)
样品台： 侧插式测角台
样品台移动： X：±3.5mm, Y: ±2.0mm; Z: ±0.3mm,
T: ±40°
样品尺寸： 最大5.0mmx9.5mmx3.5mmH (Bulk)
最大2.0mmx6.0mmx5.0mmH (Cross-section)
电子图像移动： ±5um (样品高度=0mm)
检测器： 二次电子检测器
上部背散射电子检测器(可选)
YAG型背散射电子检测器(可选)
BF/DF 双STEM检测器(可选)
STEM检测器(可选)
X射线能谱仪 (可选)
显示系统： 操作系统：Windows XP
显示器：19?LCD
图像显示模式：1,280x960 (全屏模式)

640x480 及320x320 (选区显示)

640x480x2 (双图像显示)

 S-5500的独特设计可以保证0.4nm的超高分辨率，从而获得新的信息并展现纳米世界的秘密。

1. 新型的物镜设计可以使其达到世界最高分辨率：0.4nm(30kV)。

2. 保证分辨率为0.4nm (30kV), 1.6nm (1kV)

3. Hitachi的专利技术ExB可以让操作者优化图像中SE和BSE信号的比例

4. 新开发的BF/DF双STEM检测器可以同时显示BF像及DF像。在DF STEM模式中还可以改变检测角度。(可选)

5. 电子光学系统的改进可以不用改变样品位置而同时进行EDS分析及形貌观察。

6. 可以使用与FIB兼容的样品杆。