Leica全新的EM ACE系列镀膜仪

Leica EM ACE200 真空镀膜仪

样品进行扫描电镜观察前，通常需要对其表面镀一层金属膜，以便减少观察时产生的荷电，并增强二次电子或背散射电子信号，获得更好的信噪比。
Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪，可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。能够满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下非常流行的触摸屏控制，简单方便。

主要技术参数：
1 可任选离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）
2 专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度
3 可选石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm
4 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程
5触摸屏控制，简单方便
6 真空度?7×10-3mbar
7溅射电流：0-150mA可调
8方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）
9工作距离调节范围：30mm-100mm

Leica EM ACE600 高真空镀膜仪

Leica EM ACE600 是一款高真空镀膜仪，真空泵采用隔膜泵和涡轮分子泵，无油真空系统，真空度可达2×10-6mbar。镀膜细腻均匀。内置石英膜厚检测器，可精确控制镀膜厚度。全自动电脑控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等全过程，一键操作。采用当下最流行的触摸屏控制，简单方便。
仪器可选离子溅射镀金属膜，满足高分辨场发射扫描电镜（FESEM）需求。可选碳丝蒸发镀碳膜，用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。还可以选择电子束蒸发方式镀膜，获得极其细腻的金属膜与碳膜，可用于DNA投影等特殊用途。
主要技术参数：
1 可任选离子溅射模式，碳丝蒸发镀碳模式，碳棒（热阻）蒸发模式，电子束蒸发模式，双溅射模式，溅射-碳丝模式，溅射-碳棒模式，溅射-电子束模式，双电子束模式，可兼容EM VCT100冷冻传输系统，可选辉光放电（用于网格表面亲水化）
2专利设计脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度
3 内置石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm
4 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程
5 触摸屏控制，简单方便
6 采用隔膜泵+涡轮分子泵，无油真空系统，真空度?2×10-6mbar
7 溅射电流：0-150mA可调
8方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：200mm（宽）×150mm（深）×195mm（高）
9样品台内置旋转，工作距离调节范围：30mm-100mm