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全反射X射线荧光(TXRF)前处理方式的考量
2024/02/21 10:21
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方案摘要：
产品配置单：
TX 2000 全反射X荧光光谱仪
型号： TX 2000
产地： 意大利
品牌： GNR
¥150万 - 200万
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方案详情：
TXRF受自身原理限制，样品于玻片上必须满足薄层的要求，以消除普遍存在于EDXRF中的基体影响。因此，其样品量明显减少，且前处理方式也有着明显不同。
通常，可根据样品形态选择合适的前处理方式，且可能需要考虑如下的几点要求：
a. 于样品玻片上形成均匀的薄层；
b. 待测元素及内标元素均匀分布；
c. 待测元素的富集；
d. 待测元素与干扰元素的分离；
e. 阻止样品溶液扩散；
基于以上因素，TXRF所采用的前处理既继承了部分常见无机元素检测中的方法，又发展出了具有自身特色的前处理方式，如下图：
下载本篇解决方案：
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