贝拓科学BETOP全自动等离子清洗机VPC100A
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贝拓科学BETOP全自动等离子清洗机VPC100A

¥15万

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贝拓科学

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VPC100A

--

中国大陆

  • 白金
  • 第13年
  • 生产商
  • 营业执照已审核
400-668-1210
核心参数

仪器种类: 国产等离子清洗器

射频频率: 13.56MHZ

功率: 0-300W可调

样品腔容积: 10L

设备尺寸: 76*55*82cm

样品腔材质: 不锈钢

工作气体: 2路

控制方式: 自动

Microwave Plasma: 微波等离子体

underfill plasma: 欠填充等离子体

wafer plasma: 半导体硅片等离子处理

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仪器介绍

真空等离子清洗机是一种使用等离子体技术进行表面清洗和除污的专用设备。它利用气体放电产生的等离子体来处理工件表面,去除附着物、油污和有机物等。

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工作原理

在真空环境中产生等离子体,通常使用氩气等惰性气体作为工作气体。当气体通入真空室并产生电弧放电时,放电释放的电子与气体分子碰撞,形成等离子体。等离子体中的离子和电子具有剧烈的化学活性,能够有效分解并去除工件表面的有机污染物。


应用领域

等离子清洗机在科学研究各方面已经取得了广泛的运用,涉及材料学、光学、电子学、医药学、环境学、生物学等不同领域,

主要用于以下实验:

◆表面清洁             

◆表面活化               

◆去除表面有机物              

◆键合                     

◆疏水实验

◆去 胶           

◆器械的消毒    

◆金属还原         

◆简单刻蚀      

◆镀膜前处理


功能特点

● 不锈钢腔体,具有良好的耐用性

● 电极板上下可调,适应各种大小的样品

● 触摸按键,液晶显示屏+双浮子流量计精准控制,经济实用

● 结构稳定,密封性好

● 一键启停,人性化设计,简单易学

● 采用13.56MH射频电压,完成清洗去污的同时,还可以改善材料本身的表面性能

● 无材料二次污染和环境污染,效率大大提高


技术参数

腔体材质

316不锈钢

容积

10L

电极板

平板水浴电极

电极

专用铝电极,上下可调结构设计

单次处理时间

工艺不同,处理时间不同,表面活化改性5-10分钟内

工作真空度

20-60Pa

真空泵极限压力

0.5Pa(空载测试)

抽真空时间

≤40秒(空载测试)

破真空时间

≤20秒

等离子发生器

采用13.56MHz射频电源,功率0-300W可调,射频电源和阻抗器模块化设计

供气方式

电磁阀式

流量计控制两路MFC质量流量控制
流量计调节范围

0.3-3L/min

流量计精度1%

操作方式

人工取放工件,一键启动自动控制

额定功率

1kw

机台供电

AC 220V

机台总重

约130kg



相关方案

  • 实验一:清洗温度对晶片清洗后接触角的影响 实验步骤:晶片表面接触角大小是衡量晶片表面洁净程度的重要参考标准,晶片表面接触角小于10°时,则认为清洗合格。在晶片清洗的过程中,温度不仅直接影响油污和清洗剂性质,而且在超声清洗工艺中与空化强度有密切关系。因此,在清洗工艺中温度对晶片清洗效果有重要的影响。为了确定AFT101在AU清洗工艺中很好的清洗温度,降低能耗节约成本,本文针对AU工艺考查了AFT101不同温度参数对清洗后晶片平均表面接触角的影响。其中工艺温度分别为30°、40°、50°,60°和70°,时间为5min,浓度为5%,频率为40kHz,测试结果如图4.4所示。

    电子/电气 2020-05-07

  • 实验一:清洗温度对晶片清洗后接触角的影响 实验步骤:晶片表面接触角大小是衡量晶片表面洁净程度的重要参考标准,晶片表面接触角小于10°时,则认为清洗合格。在晶片清洗的过程中,温度不仅直接影响油污和清洗剂性质,而且在超声清洗工艺中与空化强度有密切关系。因此,在清洗工艺中温度对晶片清洗效果有重要的影响。为了确定AFT101在AU清洗工艺中很好的清洗温度,降低能耗节约成本,本文针对AU工艺考查了AFT101不同温度参数对清洗后晶片平均表面接触角的影响。其中工艺温度分别为30°、40°、50°,60°和70°,时间为5min,浓度为5%,频率为40kHz,测试结果如图4.4所示。

    电子/电气 2020-05-07

售后服务承诺

保修期: 1年

是否可延长保修期:

现场技术咨询:

免费培训: 首次安装调试免费

免费仪器保养:

保内维修承诺: 保修期内非人为引起的损坏,免费更换、维修零件

报修承诺: 1天内电话回应,到场解决按实际情况

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