Name: UNIPOL-1220S型自动研磨工作站
Brand: 沈阳科晶
SKU: C553556

核心参数

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UNIPOL-1220S型自动研磨工作站，包含自动研磨抛光以及清洗单元，可以实现从研磨-清洗-抛光-清洗一体的全程序化自动流程，通过触摸屏操作可精确控制和设置磨抛、清洗的所有参数，参数可以存档，研磨抛光过程中可以自动更换研磨砂纸或抛光垫，一键启动程序，从而实现样品自动化操作的一致性。适用于金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。
1、全自动研磨拋光+清洗一次完成，节省人力
2、研磨盘片用真空吸附在下盘，研磨时，研磨盘下盘转速可任意调整。
3、研磨抛光过程中可自动更换不同粒度的研磨砂纸和抛光垫，可储存16组。
4、采用机械加压方式，且压力可调整，根据样品不同材质，任意调整所需压力，最大30kg。
5、配备3组蠕动泵进磨料，搭配使用，灵活性高。
6、整机外壳钢板烤漆，耐用安全性高，并带有防尘罩。
7、方便的触控式人机操作界面，具备可编程的软件系统。
8、包含多种材料数据库，可满足对金属、陶瓷、岩样、电子器件等材料的重复性和一致性实验。
9、通过超声实现对样品进行清洗，确保下一道工序不会被上一道工序残留物污染。

产品名称	UNIPOL-1220S型自动研磨工作站
产品型号	UNIPOL-1220S
主要参数	1、研磨抛光单元	-上盘直径：φ160mm -上盘转速：20-350rpm -最大加载压力：30kg -下研磨盘直径：300mm -下研磨盘转速：20-378rpm -下研磨盘采用真空吸附方式 -防水圈可升降
	2、清洗单元	-清洗方式：超声波+清水冲洗 -设置有水位检测开关。 -设置有电磁阀切换进水、排水。
	3、储料单元	-通过程序设置自动更换研磨砂纸和抛光垫 -最多可储存16组φ300mm磨片和抛光片，更换顺序可设定 -通过真空吸附固定在研磨抛光盘上 -通过程序可设置研磨/抛光时间和次数 -采用电动升降进给方式。
	4、研磨抛光液配备	-用蠕动泵驱动滴料系统。-标配3组滴料器，最多选配6组滴料器。-自动检测滴料瓶是否缺液。
	5、外形尺寸	长x宽x高 1600×1002×1688mm