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AccuSizer A9000 FX-Nano高浓度大颗粒计数器
为纳米级样本提供粒度技术方案
基本信息
仪器型号：AccuSizer A9000 FX-Nano
工作原理：基于光阻法的集聚光束技术（Focused Light Obscuration&SPOS）
检测范围： 0.6μm-20μm
AccuSizer系列使用单粒子光学定径SPOS的方法来快速计数和确定粒子的粒径，一次通过一个，构建一个真实的粒子大小分布。AccuSizer FX在更高的粒子浓度下使用这种原理进行测量。
AccuSizer FX利用集聚光束技术,准许传感器聚焦到一个特定的区域使得测试浓度达到106个/mL，测试范围为0.6μm-20μm。这些是数千倍的浓度水平高于传统传感器。尽管其他技术也尝试过这种方法来监视高浓度流程流，但它一直受到低分辨率和准确性的困扰。FX和FX Nano采用了砖利的光电混合技术，保持了与传统SPOS传感器相同的分辨率和精确度。AccuSizer FX监测散射信号大小下限0.7μm。传统的单粒子光学粒径尺寸下限的限制因素之一是需要找到足够干净的稀释剂，这样它们就不会添加或构成被分析样本的大部分背景计数。由于FX传感器能够在较小的尺寸范围内检测，背景计数级别不再是一个问题。在过去，几千个背景计数会引起较大的关注，但现在浓度超过100万，几千个背景计数不会影响整体分布。与其他仪器不同的是，FX在几分钟内可以计数和测量数十万个粒子。
技术优势
1、高浓度下检测范围广，0.6μm-20μm；
2、浓度测试上限高，1012#/ml；
3、高分辨率，高灵敏性，统计精度高；
4、粒子灵敏度 ≤10PPT
5、粒径准确度 ≥98%
6、粒子计数准确度 ≥90%
7、可自定义32个用户自定义检测通道；
8、数据结果以多种形式和格式呈现，并可以追溯历史数据；
9、模块化设计，便于升级及维护；
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| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 中芯国际 | 2010-01-01 |
| 宣泰制药 | 2013-01-01 |
| 百特制药 | 2015-01-01 |
| 药友制药 | 2016-01-01 |
| 力邦制药 | 2014-01-01 |
| 中国科学院药物研究所 | 2013-01-01 |
| 广东省药检所 | 2015-01-01 |
| 上海市药物所 | 2016-01-01 |
| 因特尔 | 2015-01-01 |
| 华瑞制药 | 2015-01-01 |
| 恒瑞制药 | 2015-01-01 |
| 正大天晴 | 2015-01-01 |
| 罗欣制药 | 2015-01-01 |
| 雅培眼力健 | 2014-01-01 |
| 小米科技 | 2016-01-01 |
| 美的集团 | 2016-01-01 |
FXNano 高浓度颗粒计数器
型号：AccuSizer FX&Nano 90万
AccuSizer FX 集束计数粒径检测仪
型号：AccuSizer FX 9万
FMS AccuSizer A7000 在线颗粒计数器
型号：FMS AccuSizer 7000 OL-ND 30万 - 50万半导体行业正在朝着更小的线宽和更多的层的方向发展。迈向这种高密度芯片技术的最重要的工艺考虑之一是对平面化步骤的更复杂的控制。抛光步骤受胶体分散金属氧化物浆料（CMP，化学机械平面化的简称）的影响，主要是二氧化硅和氧化铝，平均直径在10nm-200nm范围。这些浆料被用于放置晶圆片的旋转抛光垫上。在过去，激光衍射最常用来表征这些浆料的粒度分布。人们一直都知道，这些浆料中含有的体积百分比小于1微米的颗粒。这些颗粒会在晶圆片表面造成划伤和其他缺陷。本文将证明，由于测量的性质，激光衍射法不足以定量测定不合规格的浆料颗粒的浓度。另一方面，单粒子光学粒度（SPOS）可对颗粒进行计数，将被证明是表征CMP浆料的一个很好的工具。
在化学机械抛光过程中，各种研磨液用于晶圆平坦化处理。这些研磨液中颗粒浓度可达＞1015颗/ml。除了用于抛光的大量颗粒外，研磨液中还含有相对较少＞1.0um的颗粒（二氧化硅而言 104-106颗/ml；氧化铝而言109颗/ml）。这些颗粒可能会在晶圆表面平坦化处理的时候造成微划伤。 已开发出相应的技术用于评估研磨液中＞1.0um的不良颗粒以及这些颗粒的浓度。这些技术可以帮助我们确认系统中的颗粒污染源，以及帮助评估过滤的有效性以及减少这些不良颗粒。
污染是油品降解的唯一最大原因。如果不加以控制或预防，污染可能会导致系统严重故障。通常使用液体颗粒计数器（例如PSS AccuSizer）对流体清洁度进行量化。使用光学传感器分析样品。各种行业标准（1,2,3）提供了使用与选定颗粒尺寸上的浓度相关的代码（标度）值报告流体清洁度的方法。最常用的标准是ISO 4406液压动力液体方法，用于编码固体颗粒的污染程度。
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