产地类别： 进口
看了null的用户又看了
PHI X-tool是一款操作简单，同时具备高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS独有的扫描聚焦X-ray系统，可通过单色化石英晶体叫X-ray直接聚焦至20μm。和传统的XPS相比，不采用光阑进行选区，极大的提高了XPS在200μm以下空间尺度的灵敏度。同时，不需要增加磁透镜，即可得到卓越的灵敏度及优秀的信噪比，即使磁性样品，也可轻松应对。
1. 卓越的操作性
PHI X-tool软件支持直观的触摸屏操作，所有XPS测定过程都可在触摸屏上完成。用户可以自由选择手动操作模式和自动操作模式（自动定性、定量、分析及完成报告），操作者无论是否具有丰富的XPS操作经验，均能轻松应对。
2. 自动参数设定、自动完成报告
PHI X-tool具备自动对焦功能（Auto-Z），使分析位置处于X射线的焦平面上，得到最优的分析条件。其可实现中和参数的自动匹配，无论样品的导电性如何，均可轻松应对。
l 自动定性：实现谱峰自动识别
l 自动定量：自动选定谱峰定量范围
l 自动曲线拟合：可自动实现预定条件的曲线拟合
l 自动生成实验报告
3. 多方式样品观察
在XPS分析中，样品观察，特别是微区定位至关重要。PHI X-tool可通过以下三种方式进行样品观察：a. 进样室高空间分辨率图像；b. 实时CCD成像；c. 二次电子像（SXI）。利用这几种方法观察样品，不论样品大小，表面形貌如何均可轻松确定测试位置。
4. 详细的条件设定和直观的操作
结合材料和目的，可详细设定分析的条件。通过内置元素周期表，可设定各光电子峰和俄歇峰。通过更改通过能、步长、积分时间设定窄谱扫描参数。对每个样品可设置习惯的文件名和样品名称。
5. 快速化学成像
采用扫描X射线和高灵敏度检测器及非扫描模式，可实现快速成像分析。每个点都可以直接调取全部的谱数据。化学态成像的空间分辨率、灵敏度、能量分辨率与仪器主指标一致。
6. 采用PHI独有的最先进硬件设计
l 微聚焦扫描X-ray源；
l 双束中和系统，低能离子束及低能电子束自动配合；
l 浮动离子枪，离子加速电压条件范围可达0~5kV
石油/化工 2014-06-24
石油/化工 2014-06-24
| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 华南理工大学 | 2013-12-19 |
当用XPS仪器分析绝缘样品时，样品表面必须保持电中性，即样品表面无静电荷分布。假设样品表面分布有静电荷，就会导致光电子飞出的动能发生变化。通常表面荷电会导致光电子动能减小，即结合能向高端偏移。 为了很好的解决这个问题，ULVAC-PHI公司的XPS设备增加了双束中和枪的功能，中和枪为绝缘样品荷电区域提供了稳定的荷电补偿。
样品自制备后到放入分析室，确定分析位置需要经过几个步骤，各个步骤的精确定位以及样品导航，在ULVAC-PHI的XPS光電子能譜儀儀器上均经过精心设计，以满足用户不同层次的需求。本文将分别以PHI Quantera II（简称QII） 与PHI-5000 VersaProbeII (简称VP II)样品导航和定位为例，深入介绍ULVAC-PHI的XPS在该方面的设计理念及实际操作。
作为通用的能量分析器，半球形能量分析器（SCA/CHA）见图1，既可以用于光电子能谱仪（XPS），也可以用于俄歇电子能谱仪（AES）。考虑到俄歇电子发射效率低，为了将俄歇电子从背景信号中分离出来，提高俄歇电子检测灵敏度，SCA/CHA用于俄歇电子能谱仪时，首要的是提高俄歇电子传输效率，而不是提高谱仪的能量分辨率。本文将着重介绍SCA/CHA在俄歇电子分析中的应用。
