RTP-1200小型快速退火炉(RTA)

RTP-1200小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为韩国进口的快速退火炉。

该仪器：尺寸小巧，使用风冷、无须水冷，电流要求不高(3安培)，性价比高，使用方便，非常适合科研院所的科研使用。

技术规格：

  - 加热方式：红外卤素钨灯，600W；
  - 卤素红外灯数量：4支；

  - 最快升温速率：100℃/秒；

  - 最快降温速率：50秒(1000℃ → 400℃)；

  - 最高温度：1200℃；

  - 温度精度：+/-0.3℃

  - 最大样品尺寸：20 x 20mm；

  - 退火环境：真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等)；

  - 真空泵及极限压力：机械泵，10-3Torr水平(选配)；

  - 电压：220 V，单相；

  - 仪器尺寸：400*300*450mm (W*D*H)；

  - 质量：净重30Kg；

仪器特点：

  - 可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；

  - 温控精度高；

  - 适合高校或研究所科研使用；

  - 无须额外的冷却系统；

  - 紧凑的台式设计；

  - 仪器操作方便，样片装取容易；

  - 价格合理，高性价比；

应用领域：

  - 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

 - 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

  - 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

  - 硅化 (Silicidation);

  - 扩散 (Diffusion);

  - 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

  - 离子注入后退火 (Implant Annealing);

  - 电极合金化 (Contact Alloying);

  - 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);

  - 合金熔点分析；

  - 薄膜沉积；

    等等…