单层二硫化钨-单层二硫化钨

参数：

制备方法：锂基插层法

组成：单层二硫化钨

外观：黑色粉末或分散体

直径：0.1-4um

厚度：1纳米

单分子层比例：95%

Parameter:

Preparation Method：Lithium-based Intercalation Method

Composition: Monolayer Tungsten disulfide

Appearance: Black Powder or dispersion

Diameter: 0.1-4 μm

Thickness: ～1 nm

Monolayer ratio: >=95%

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