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现场,半导体设备巨头ASML展出了可用于7纳米以上先进制程的深紫外曝光机DUV。有报道指出,虽然目前极紫外曝光机,俗称...用在10纳米制程,但这几乎已是极限。DUV的深紫外光波长近193纳米,虽然透过液体浸润多重曝光后,的确...
2020-11-09 10:03:39
参赛产品。今年,评审团的规模再一次扩大,邀请了全球近50名行业内资深专家,其中还包括了来自澳大利亚,尼日利亚和英国等地新的评审专家。本次公布的...
2020-11-05 11:15:52
有限公司已量产的最先进的SSA600/20型号前道光刻机采用了ArF准分子光源,即深紫外DUV光刻机,光刻分辨率只有90 nm。有消息称上海微电子即将于2021年,...
2020-10-30 18:35:28