氨曲南杂质例

制备多晶硅时，用液氨法在低温下产生的硅烷，除主成份Sil 外，尚台H 、微 NH。、sizH B、cH 、Hzo、oz、N：、PH。，以及痕量的B H 和A sH。等杂质，而其中有些杂质，如CH．、H zO、Nz等，主要由液氨带入。因此，要加强原材料的分析，严格监控 艺过程中硅烷气内的有害杂质，采取必要的纯化措施。这样，将大大提高由分解炉中析出的多晶硅质量。采用气相色谱法分析硅烷及其杂质，由于它具有快速 灵敏、准确、进样量少等优点，正逐步被人们采用。本文主要介绍我们工作中用来分析SIH 及其CH

本文采用 iCAP PRO系列 ICP-OES，通过对样品前处理方法、等离子体参数、分析谱线选择、Fe、Li、P基体效应对杂质元素所产生的信号抑制作用的影响等内容进行了研究和优化，详细地介绍了磷酸铁锂电池材料中的主量元素磷铁锂及多种杂质元素的方法研究报告。

机械杂质是指存在于润滑油中不溶于汽油、乙醇和苯等溶剂的沉淀物或胶状悬浮物。这些杂质大部分是砂石和铁屑之类，以及由添加剂带来的一些难溶于溶剂的有机金属盐。

厄他培南为美国默克制药公司开发的新型碳青霉烯类抗生素，它具有强效的抗菌活性，广泛适用于敏感菌所致的中、重度感染。近年来，国内已准备开发其仿制药。但如今基于药品安全的考虑，仿制药中的有关物质的检测越发引起注意。本文采用沃特世ACQUITY UPLC/Xevo G2-S QTOF系统，对药物厄他培南样品有关物质进行结构鉴定，通过强大的软件功能，将复杂的结构鉴定过程变得智能而快速。大大节省人力物力及时间成本，对于药物的有关物质研究工作起到积极的推动作用。

本文采用 iCAP PRO系列 ICP-OES，通过对样品前处理方法、等离子体参数、分析谱线选择、Fe、Li、P基体效应对杂质元素所产生的信号抑制作用的影响等内容进行了研究和优化，详细地介绍了磷酸铁锂电池材料中的主量元素磷铁锂及多种杂质元素的方法研究报告。

离子色谱法对于测定常规阴离子具有很高的灵敏度和较低的检出限，其在化工试剂中杂质成份分析的应用研究已有较多报道。离子色谱法直接测定氟化盐中杂质阴离子，因为待测物的色谱峰会被样品基体的F-峰所干扰，难以达到有效的分离分析。本研究利用HF为弱酸的特点，将氟化盐样品通过磺酸型离子排斥柱ICE-AS6（其固定相表面附着的一层带负电荷水合层，称为Donnan膜），金属阳离子（如Li＋、Na＋、K＋等）与H＋交换，F-与H＋形成弱电离的HF不受Donnan排斥，能进入树脂的内微孔，而待测离子因排斥效应首先通过色谱柱，从而将待测离子从浓的氟化盐溶液中分离出来；将分离出的待测离子富集于 IonPac TAC-ULP1阴离子浓缩柱上；经柱切换，淋洗液将待测组分从浓缩柱上洗脱下来，待测离子经过 IonPac AS23阴离子交换色谱柱分离，以抑制型电导检测器检测。本方法所建立的离子色谱柱切换方法，用于测定氟化盐（如LiF、NaF和KF）试剂中的杂质阴离子（Cl-、NO3-、PO43-和SO42-）的含量，解决了测定氟化物的高基体干扰问题。

仲钨酸铵（APT）是其他钨化合物和钨合金制备的原料， 作为添加剂常用于石油化工行业，其杂质元素含量直接影响产品的质量。APT中杂质元素含量极低（0.001%），不同APT牌号对杂质含量要求不同（GB10116-2007），其中Bi、Pb等元素要求处于痕量级，因此，在高钨的基体下杂质元素的检测存在很大的困难。目前，国标GB/T 4324中已经使用ICP-OES测量仲钨酸铵中Co等杂质元素的含量。ICP-5000垂直观测模式，具有检出限低、灵敏度高、抗基体干扰的优点，本文采用氨水和双氧水溶解样品，并用盐酸除去基体中钨，随后用ICP-5000检测仲钨酸铵中Co等15种杂志元素含量。

仲钨酸铵（APT）是其他钨化合物和钨合金制备的原料， 作为添加剂常用于石油化工行业，其杂质元素含量直接影响产品的质量。APT中杂质元素含量极低（0.001%），不同APT牌号对杂质含量要求不同（GB10116-2007），其中Bi、Pb等元素要求处于痕量级，因此，在高钨的基体下杂质元素的检测存在很大的困难。目前，国标GB/T 4324中已经使用ICP-OES测量仲钨酸铵中Cr等杂质元素的含量。ICP-5000垂直观测模式，具有检出限低、灵敏度高、抗基体干扰的优点，本文采用氨水和双氧水溶解样品，并用盐酸除去基体中钨，随后用ICP-5000检测仲钨酸铵中Cr等15种杂志元素含量。

仲钨酸铵（APT）是其他钨化合物和钨合金制备的原料， 作为添加剂常用于石油化工行业，其杂质元素含量直接影响产品的质量。APT中杂质元素含量极低（0.001%），不同APT牌号对杂质含量要求不同（GB10116-2007），其中Bi、Pb等元素要求处于痕量级，因此，在高钨的基体下杂质元素的检测存在很大的困难。目前，国标GB/T 4324中已经使用ICP-OES测量仲钨酸铵中Al、等杂质元素的含量。ICP-5000垂直观测模式，具有检出限低、灵敏度高、抗基体干扰的优点，本文采用氨水和双氧水溶解样品，并用盐酸除去基体中钨，随后用ICP-5000检测仲钨酸铵中Al等15种杂志元素含量。

仲钨酸铵（APT）是其他钨化合物和钨合金制备的原料， 作为添加剂常用于石油化工行业，其杂质元素含量直接影响产品的质量。APT中杂质元素含量极低（0.001%），不同APT牌号对杂质含量要求不同（GB10116-2007），其中Bi、Pb等元素要求处于痕量级，因此，在高钨的基体下杂质元素的检测存在很大的困难。目前，国标GB/T 4324中已经使用ICP-OES测量仲钨酸铵中Ca等杂质元素的含量。ICP-5000垂直观测模式，具有检出限低、灵敏度高、抗基体干扰的优点，本文采用氨水和双氧水溶解样品，并用盐酸除去基体中钨，随后用ICP-5000检测仲钨酸铵中Ca等15种杂志元素含量。

仲钨酸铵（APT）是其他钨化合物和钨合金制备的原料， 作为添加剂常用于石油化工行业，其杂质元素含量直接影响产品的质量。APT中杂质元素含量极低（0.001%），不同APT牌号对杂质含量要求不同（GB10116-2007），其中Bi、Pb等元素要求处于痕量级，因此，在高钨的基体下杂质元素的检测存在很大的困难。目前，国标GB/T 4324中已经使用ICP-OES测量仲钨酸铵中Cd等杂质元素的含量。ICP-5000垂直观测模式，具有检出限低、灵敏度高、抗基体干扰的优点，本文采用氨水和双氧水溶解样品，并用盐酸除去基体中钨，随后用ICP-5000检测仲钨酸铵中Cd等15种杂志元素含量。

仲钨酸铵（APT）是其他钨化合物和钨合金制备的原料， 作为添加剂常用于石油化工行业，其杂质元素含量直接影响产品的质量。APT中杂质元素含量极低（0.001%），不同APT牌号对杂质含量要求不同（GB10116-2007），其中Bi、Pb等元素要求处于痕量级，因此，在高钨的基体下杂质元素的检测存在很大的困难。目前，国标GB/T 4324中已经使用ICP-OES测量仲钨酸铵中Co、Ni、Cr、Al、Ca、V、Cd、Mn等杂质元素的含量。ICP-5000垂直观测模式，具有检出限低、灵敏度高、抗基体干扰的优点，本文采用氨水和双氧水溶解样品，并用盐酸除去基体中钨，随后用ICP-5000检测仲钨酸铵中Al、Ca、Cd等15种杂志元素含量。

建立气相色谱法对聚山梨酯８０中的环氧乙烷、二氧六环、氯乙醇、乙二醇和二甘醇５种挥发性杂质进行同时检测。

控制硅基半导体器件中的杂质含量是至关重要的，因为即使是超痕量的杂质都可能会导致器件发生缺陷。出于质量控制的目的，常规分析的硅主要有两种类型：体硅和硅晶片表面。由于许多重要的待测元素在使用电感耦合等离子体质谱仪分析时会受到等离子产生的分子和同质异位素的干扰，因此对许多重要的待测元素的分析都很困难，这进一步增加了分析硅杂质的难度和复杂性。通过向通用池中通入适当的低流量反应气和使用独特的动态带通调谐（DBT）的功能，就能够在离子束进入四级杆质谱前用化学方法将干扰去除，而这两个功能都是NexION 300 ICP-MS所兼具的。本应用报告证明了NexION 300SICP-MS使用低流量雾化器对小体积体硅样品中的杂质元素进行测定的能力。

本文采用沃特世超高效液相色谱飞行时间质谱联用（ACQUITY UPLC/Xevo G2-S QTof）技术对市售头孢地尼样品杂质进行分析，开发与质谱兼容的UPLC方法，使整个分离时间缩短至14分钟，且杂质得到有效分离；应用UNIFI软件，自动得到包含各个杂质分子量、分子式及结构信息的杂质列表，使整个杂质鉴定过程高效快速、节省人力。

高纯次磷酸钠在电容器生产领域有着广泛的应用，本文讨论了高纯度次磷酸钠产品中Cl-和SO4-的离子色谱测定方法，获得了较低的检出限和良好的回收率，该方法能够满足纯度99％以上的次磷酸钠样品的杂质含量分析，解决了高纯度次磷酸钠产品杂质中阴离子含量分析困难的现状。

建立气相色谱法对聚山梨酯80中的环氧乙烷、二氧六环、氯乙醇、乙二醇和二甘醇5种挥发性杂质进行同时检测。方法 采用气相色谱法,色谱柱固定相为PEG20000(GsBP-INOWAX,30m× 0.53mm× 1.0μ m弹性石英毛细管柱)。采用程序升温,初温50℃,以5℃· min-1升温至200℃,保持10min,再以50℃· min-1升温至230℃,保持20min。进样口温度为200℃,检测器温度为250℃。结果 同时测定了聚山梨酯80中环氧乙烷、二氧六环、氯乙醇、乙二醇和二甘醇5种挥发性杂质,线性范围分别为2.7~176.8μ g· mL-1(r=0.999 8),2.8~140.7μ g· mL-1(r=0.999 8),3.4~167.5μ g· mL-1(r=0.999 9),4.7~2 345μ g· mL-1(r=0.999 8)和3.2~160.8μ g· mL-1(r=0.999 9) 平均加样回收率分别为104.3%,91.3%,105.2%,94.1%和105.7%,RSD分别为2.5%,2.8%,1.4%,3.0%和3.7%。结论 该方法灵敏、准确,可用于聚山梨酯80中挥发性杂质的检测。

摘要：目的　建立气相色谱法对聚山梨酯８０中的环氧乙烷、二氧六环、氯乙醇、乙二醇和二甘醇５种挥发性杂质进行同时检测。方法　采用气相色谱法，色谱柱固定相为ＰＥＧ２００００（ＧｓＢＰ－ＩＮＯＷＡＸ，３０ｍ×０．５３ｍｍ×１．０μｍ弹性石英毛细管柱）。采用程序升温，初温５０℃，以５℃ｍｉｎ－１升温至２００℃，保持１０ｍｉｎ，再以５０℃ｍｉｎ－１升温至２３０℃，保持２０ｍｉｎ。进样口温度为２００℃，检测器温度为２５０℃。结果　同时测定了聚山梨酯８０中环氧乙烷、二氧六环、氯乙醇、乙二醇和二甘醇５种挥发性杂质，线性范围分别为２．７～１７６．８μｇｍＬ－１（ｒ＝０．９９９　８），２．８～１４０．７μｇｍＬ－１（ｒ＝０．９９９　８），３．４～１６７．５μｇｍＬ－１（ｒ＝０．９９９　９），４．７～２　３４５μｇｍＬ－１（ｒ＝０．９９９　８）和３．２～１６０．８μｇｍＬ－１（ｒ＝０．９９９　９）；平均加样回收率分别为１０４．３％，９１．３％，１０５．２％，９４．１％和１０５．７％，ＲＳＤ分别为２．５％，２．８％，１．４％，３．０％和３．７％。结论　该方法灵敏、准确，可用于聚山梨酯８０中挥发性杂质的检测。

药物杂质是活性药物成分 (API) 或药品制剂中不希望存在的化学成分。原料药中的杂质可能源于合成过程或原料、中间体、试剂、溶剂、催化剂以及反应副产物等其他来源。在药品开发过程中，杂质可能：• 由于原料药固有的不稳定性而形成• 由于与加入的辅料不相容而产生，或• 与包装材料和容器密封系统 (CCS) 相互作用而产生原料药中各种杂质的含量决定了最终成品药物的安全性。因此，杂质的鉴定、定量、定性和控制已成为药物开发过程的关键组成部分。很多监管机构都在关注杂质的控制：• 国际协调会议 (ICH)• 美国食品药品监督管理局 (USFDA)• 欧洲药品管理局 (EMA)• 加拿大药品与健康管理局• 日本药物和医疗器械管理局 (PMDA)• 澳大利亚卫生和老龄治疗商品管理局此外，很多官方药典（如英国药典 (BP)、美国药典 (USP)、日本药典 (JP)、欧洲药典 (EP) 和中华人民共和国药典 (ChP)）也越来越多地加入了对 API 和药品制剂中杂质限量水平的规定。这些法规以暴露限值为依据，因此必须对施用时最终剂型中的污染物浓度进行控制。在实践中，这意味着药物制造商必须进行风险评估，考虑到制造后（如包装、运输和 CCS）的污染源以及来自原料和生产过程的污染。

本方法线性范围宽、重复性好、准确度高、前处理简单，适合用于遗传毒性杂质NDMA的定量检测。建立了一种使用岛津超高效液相色谱三重四极杆质谱联用仪检测美罗培南原料药中遗传毒性杂质NDMA的方法

分析与活性药物成分 (API) 有关的低浓度杂质对原料药的质量控制来说至关重要。当杂质与 API 的化学结构相似且浓度差异较大时，色谱分离与检测将变得困难。Agilent 1290 Infinity II 二维液相色谱解决方案可实现全二维液相色谱(LC × LC)、多中心切割二维液相色谱 (MHC) 以及高分辨率采样二维液相色谱 (HiRes 2D-LC) 之间的轻松切换。在本应用简报中，使用高分辨率采样二维液相色谱实现两种紧邻洗脱的化合物的分离，其中一种化合物浓度极低且隐藏在其他高浓度化合物峰下。以氯二氟苯甲酸和脱酰胺胰岛素分别作为标准物质和实际样品进行分析。

油品中的机械杂质是指存在与油品中所有不溶于溶剂（汽油，苯）的沉淀状或悬浮状物质。这些杂质多由砂子，粘土，铁屑粒子等组成。但现行方法测出的杂质也包括了一些不溶于熔剂的有机成分，如沥青质和碳化物。

ACQUITY UPC2系统联用MS为杂质分析提供了一个全面的解决方案UPC2/MS可为杂质F工作标准品的稀释剂选择提供指导，并可相应调整工作标准溶液的保质期。另外，通过杂质F的稳定性研究可深入了解药物样品中可能存在的其它潜在杂质。采用UPC2/MS系统增加了药物质量方面的知识储备，可改善实现分析目标的方法学步骤。

参考《玻璃纤维及原料化学元素分析方法 电感耦合等离子体发射光谱法（征求意见稿）》对玻璃纤维样品进行样品前处理，使用岛津电感耦合等离子体发射光谱仪ICPE-9820对玻璃纤维中的多种杂质元素进行测定，并进行方法学考察。

前言 空分塔液氧中烃类杂质、一氧化碳、二氧化碳含量是空分装置安全运行的关键控制指标。 液氧中乙炔含量超标会引起装置发生爆炸。在装置运行过程中，样品分析要求快速、准确，能够及时为装置安全操作提供依据。 目前实验室分析大多采用色谱法。我们在SP34系列色谱上设计了液氧中杂质专用分析系统。该系统乙炔检测限可达到0.05PPm、一氧化碳检测限可达到1PPm、二氧化碳检测限可达到0.5PPm。是用于空分装置监测的有利工具。

左卡尼汀和其2个中间体杂质均为带正电荷化合物，因此我们首先选择使用CAPCELL PAK SCX色谱柱对其进行保留，并使用PDA检测器检测。由左卡尼汀杂质结构式可知，两杂质紫外吸收非常弱，因此我们使用质谱对左卡尼汀及其两杂质进行检测，并使用CAPCELL PAK CR 1:4色谱柱对其进行了保留和分离。使用CAPCELL PAK CR 1:4柱进行LC-MS分析，左卡尼汀、杂质1、杂质2间得到了较好分离结果。 在进行LC-MS分析时，由于带正电荷化合物的静电吸引作用，我们发现左卡尼丁及杂质2均有一定程度的残留。因此建议客户在分析前对进样浓度进行考察，杂质浓度建议设置为定量限浓度，左卡尼汀浓度设置为杂质浓度100倍，以避免残留的发生。

由此可见，样品经SelectCore MCX固相萃取柱净化后，在ChromCore HILIC-CM环丙氨嗪专用柱可以实现样品基质杂质不干扰环丙氨嗪的检测，加标回收率满足检测要求。

控制硅基半导体器件中的杂质含量是至关重要的，因为即使是超痕量的杂质都可能会导致器件发生缺陷。出于质量控制的目的，常规分析的硅主要有两种类型：体硅和硅晶片表面。由于许多重要的待测元素在使用电感耦合等离子体质谱仪分析时会受到等离子产生的分子和同质异位素的干扰，因此对许多重要的待测元素的分析都很困难，这进一步增加了分析硅杂质的难度和复杂性。通过向通用池中通入适当的低流量反应气和使用独特的动态带通调谐（DBT）的功能，就能够在离子束进入四级杆质谱前用化学方法将干扰去除，而这两个功能都是NexION 300 ICP-MS所兼具的。本应用报告证明了NexION 300SICP-MS使用低流量雾化器对小体积体硅样品中的杂质元素进行测定的能力。

一般来说，分析镀金溶液样品主要是为了掌握主要成分的含量，但最近的趋势认为杂质含量也很重要，因此要对杂质进行分析。总共有31种元素需要进行分析以识别相关杂质。本文建立了利用ICP-OES分析金 (Au)、钯(Pd)镀金溶液中的杂质的解决办法。

摘要：灵敏地检测了高纯钨粉中的痕量金属杂质。钨粉用 02溶解后进入离子色谱的阳离子交换柱，经水淋洗后，用HN03洗脱，洗脱后的溶液经过膜去溶装置雾化去溶后进入电感耦合等离子体质谱检测。除B，V，Sb外，其它杂质元素如Mg，Al，Ti，Cr，Be，Fe，Mn，c0，Ni，cu，zn，Ga，Sr，Cd，Ba等的回收率均在90％ 一107％之间，检出限在0．0ol～0．5 gg／g之间。关键词：痕量元素；高纯钨粉；离子色谱；阳离子交换柱；膜去溶装置；电感耦合等离子体质谱