硅基上超薄薄膜

超薄碳膜，也是支持膜的一种，本公司自主产品，客户可以在此基础上根据实验条件提方案，对产品改进；是在微栅的基础上，叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5nm。这层超薄碳膜的目的，是用薄碳膜把微孔挡住。这主要是针对那些分散性很好的纳米材料，如：10nm以下的样品，分散性极好，如果用微栅就有可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。所以，用超薄碳膜，就会得到很好的效果。材料：有铜、镍、钼、铝、钨、不锈钢、尼龙等金属及非金属材料。

是在微栅膜的基础上又镀了一层超薄纯碳膜，覆盖在微孔上面，这层膜大约5nm,电子束长时间照射不会产生黑斑，适合粒径较小、分散性较好、衬度较低的样品做较高分辨的实验。 产品编号名称规格YL-6037-C/Cu200超薄碳膜20目YL-6037-C/Ge100超薄锗膜100目YL-6037-C/Cu200坐标超薄膜200目

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TEM用纯Si薄膜窗 纯硅薄膜窗特点 纳米级厚度：薄膜厚度为5-15nm，比目前无定形碳薄膜窗口还薄，为高倍成像减少了背景干扰； 清洗：采用等离子清洗，无有机物残留，改善成像质量； 均匀性：减少了不同区域的不均匀性； 稳定性：高电子束电流和退火温度下具有很好的稳定性(600℃ for non-porous, 1000℃ for nanoporous)； 减少污染：彩色污染仅为C膜的一半； 纳米孔：为纳米尺寸材料提供稳定的成像，无背景干扰； Si成分：溅镀沉积、纯的Si； 最小的背景信号：可对含Ni或C样品进行元素分析； 纯硅薄膜窗规格 单窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm25x25μmΦ3mm100μm30nm500x500μm纳米孔10-60nmΦ3mm100μm多窗口系列窗口类型薄膜厚度窗口尺寸框架尺寸框架厚度5nm2x1阵列，50X1500μmΦ3mm100μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm100μm5nm2x1阵列，100X100μmΦ3mm200μm9nm/15nm2x1阵列，100X1500μmΦ3mm200μm5nm3x3阵列，8个窗口50X50μm，1个窗口50X100μmΦ3mm100μm5nm/9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm9nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm200μm15nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μmΦ3mm100μm30nm3x3阵列，8个窗口100X100μm，1个窗口100X350μm；纳米孔10-60nmΦ3mm100μm15nm3x3阵列，窗口100X100μmΦ3mm200μm详细资料请咨询：021-35359028/ admin@instsun.com

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超薄纯碳膜是在碳支持膜的基础上，将有机层用特殊方法去除后得到的纯碳膜（金属网上直接被覆一层纯碳膜）。纯碳膜在各种电子显微镜下观察均十分稳定，特别适合于需要在有机溶剂或高温下处理的样品，更小的背景干扰。碳膜厚度在3-4nm。产品描述货号规格纯碳膜，200目，铜网（方形孔）CF200-Cu-UL50个/盒纯碳膜，300目，铜网（方形孔）CF300-Cu-UL50个/盒纯碳膜，400目，铜网（方形孔）CF400-Cu-UL50个/盒纯碳膜，200目，镍网（方形孔）CF200-Ni-UL50个/盒纯碳膜，200目，镍网（方形孔）CF300-Ni-UL50个/盒纯碳膜，200目，金网（方形孔）CF200-Au-UL50个/盒纯碳膜，400目，铜网（方形孔）国产100个

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薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪介绍：LQJ211万能材料试验机有着超大数显控制系统-为主机曲线、力值、速度和变形动态显示，加上电脑可实现微机操作，参数随意设定，可以做不同材料30KN以内的拉伸、压缩、弯曲、剥离、撕裂、剪切、刺破、低调疲劳等多项力学试验.可根据国际标准ISO.JIS.ASTM.DIN等国际标准和国外标准进行试验和提供数据.以windows操作系统使试验数据曲线动态显示,试验数据可以任意删加,对曲线操作更加简便.轻松.随时随地都可以进行曲线遍历.叠加.分离.缩放.打印等全电子显示监控. 薄膜拉力测试仪、塑料薄膜拉伸强度检测、塑料薄膜剥离测试仪技术参数 Main specifications 1、最大负荷Load Accuracy： 30KN（任意选） 2、荷重元精度Load Accuracy： 0.01% 3、测试精度Measuring accuracy： ± 0.5% 4、操作方式Control： 全电脑控制,windows模式操作 5、有效试验宽度Valid width： 约420mm 6、有效拉伸空间Stroke： 约800mm 7、试验速度Tetxing speed : 0.001~500mm/min 8、速度精度 Speed Accuracy：: ± 0.5%以内； 9、位移测量精度Stroke Accuracy： ± 0.5%以内； 10、变形测量精度Displacement Accuracy： ± 0.5%以内 11、安全装置 Safety device： 电子限位保护，紧急停止键 Safeguard stroke 12、机台重量Main Unit Weight ： 约140kg

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400目蕾丝超薄连续碳膜没有方华膜（Formvar）支撑，在蕾丝碳膜上镀一层更薄的碳膜（厚度小于3nm），是可用的最薄纯碳支持膜。由400目铜网支撑的蕾丝碳膜，是不规则碳膜，碳膜上的孔洞花样不一，真正的“镂空”透视设计。碳支持层覆在蕾丝碳膜上，可以得到支撑，而且几乎不干扰TEM成像。非常适合观察纳米管，病毒颗粒和其他小颗粒物质，是高分辨率显微镜及透射电子显微镜的理想选择。订购信息：货号产品名称规格01824Ultrathin Carbon Film on Lacey Carbon Support Film, 400 mesh, Copper25个/盒

Smart SAGA 亚微米薄膜进行掠入射分析附件Thermo Scientific Smart SAGA 适用于对金属基上的亚微米薄膜进行掠入射分析。Smart SAGA（高光带孔掠射角）极易操作，性能优异，样品区辨识能力极高。 只需将样品平放在水平采样台上，用激光雕刻隔栅进行定位，如需要则转动转轮以设置孔尺寸，然后扫描。掠射角反射系数是用以分析薄涂层或沉淀物的选择性方法，因为高入射角可以增大穿过感兴趣材料的红外光束的光程长度，从而大大改善灵敏度。 由于高入射角和选择性偏极化，因此可获取单层灵敏度。描述80° 固定入射角全金反射光学器件可以分析 10 埃 至 0.5 微米的薄膜永久性固定的偏光镜可以大大减小无益于表面光谱数据的‘S’偏光，从而可以改善灵敏度和采样速度独特的内部滑孔组件可快速调节至四种不同的样品定义形状与尺寸，无需设置孔径。采样板上的激光雕刻隔栅便于在进行定量分析时，重复进行样品定位和遮盖。SpecificationsAngle of Incidence: 80° 平均固定角度Sampling Area两个圆形活动区域： 5mm和 8mm一个椭圆形活动区域： 16 × 8mm开束Optics: 金反射器件Sample Positioning: 样品台上的激光雕刻测量隔栅Polarizer: 锗超薄涂层金属基上的被吸附物润滑剂表面污染物残留物分子单层订货信息：货号类型0033-197For Nicolet Avatar0033-199Specular Reflectance00331XXSmart SAGA

薄膜溶解测量仪用于实时监测薄膜在液体过程中的薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化，是全球领先的薄膜溶解测量仪和薄膜溶解测试仪。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意为薄膜溶解测量仪研发了Teflon样品池用于测量薄膜样品，使用一种岔头探针水平安装在Teflon 样品池的外部，距离玻璃窗口非常接近，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据。另外，根据需要，我们还能够在测量区域下安装搅拌装置stirrer，提供力学激励振动。孚光精仪还特意为薄膜溶解测量仪提供垂直的样品夹具，以固定小尺寸的硅样品或3' ' ，4' ' 直径的Si 晶圆。根据溶解过程的不同，如溶解速度的不同，它能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。还能够测量几十个纳米厚度的光致抗蚀剂和聚合物薄膜堆的溶解过程，而且还可以测量薄膜的膨胀等特殊现象。对于薄膜厚度的测量，薄膜溶解测厚仪需要光滑，具有反射性的衬底，对于光学常数测量，平整的反射衬底即可满足测量需要。如果衬底是透明的，衬底的背面不能具有反射性。能够给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量，已经成功应用于测量反射衬底（Si晶圆）上各种光滑，透明或轻度吸收薄膜的溶解过程，可研究的薄膜包括SiO2薄膜,SiNx薄膜,光致抗蚀剂薄膜，聚合物薄膜层等。薄膜溶解测量仪参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5% 分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：15kg 电力要求：110/230VAC薄膜溶解测量仪应用：聚合物薄膜光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 在线测量光学镀膜测量 能够以实时或离线的方式测量，反射率数据都能够存储下来以便后续处理使用。

试验机薄膜穿刺夹具 特点： 适用范围：薄膜穿刺试验

产品详情 XRF荧光光谱仪专用测试薄膜英飞思提供不同材料和厚度的专用测试薄膜，以满足应用中的测试需求样品杯的底部覆盖有X 射线透明薄膜。耐化学性取决于薄膜的材料和厚度：下表展示了不同厚度和材质的薄膜对测试不同元素的影响原则上，使用两种材料：聚酯（聚酯薄膜）和聚丙烯（商标名称包含名称片段的薄膜“丙烯”，例如以“lene”结尾的，通常与便宜得多的材料相同聚丙烯薄膜）。薄膜材料的耐化学性不同。虽然聚酯是稳定的对于溶剂、脂肪族化合物和燃料，聚丙烯提供更高的稳定性富含氧气的流体（例如水、聚乙二醇和高沸点油）。聚丙烯特别适用于固体样品的痕量分析，因为它没有主要成分其中的污染。相比之下，聚酯薄膜含有不需要的磷和钙（3.5 µmMylar 对应于纯油（例如清洁白油）中的 50 ppm Ca 和 250 ppm P。薄膜，例如Hostaphan（带有硅污染的聚酯）或聚碳酸酯（不含污染，首选用于燃料分析）受到限制或不再可用。Kapton 对轻元素的荧光辐射不是很透明，因此仅可用于分析具有更高原子序数的元素。

使用BEEM的包埋管或者明胶胶囊等制作出包埋好的样本树脂块之后，在得到合适的超薄切片之前，上修块器进行粗切修整，是电镜制样工作中必不可少的一道程序。电镜超薄切片修块器专为电镜超薄切片前期制样修块之用，切刀导向柱可旋转，可与显微镜一起使用。配套一个标准卡盘（00#号树脂块），平板包埋模适配器可以选购。 货号产品名称规格69945-01电镜超薄切片修块器个

薄膜厚度测量系统配件是一种模块化设计的薄膜厚度测量仪，可灵活扩展成精密的薄膜测量仪器，可在此基础上衍生出多种基于白光反射光谱技术的薄膜厚度测试仪，比如标准吸收/透过率，反射率的测量，薄膜的测量，薄膜温度和厚度的测量。薄膜厚度测量系统配件：核心模块----光谱仪；外壳模块----各种精密精美的仪器外壳；工作面积模块----测量工作区域；光纤模块----根据不同测量任务配备各种光纤附件；测量室-/环境罩---给测量带去超净工作区域。薄膜厚度测量仪核心模块---光谱仪孚光精仪提供多种光谱仪类型，不同光谱范围和光源，满足各种测量应用

- 太阳能电池薄膜测试.- 太阳能电池I-V测试.- 太阳能电池EL成像.Product Example联系方式：025-84615783

薄膜偏振片英文名Thin film polarizer，薄膜偏振片是一种介质镀膜偏振片把s光和p光分开，适合高功率激光或高能量激光应用，适合内腔和外腔应用。布儒斯特型薄膜偏振片又叫Thin film polarizer,布儒斯特角偏振片，是一种适合高能激光应用的偏振片，损伤阈值高达10J/cm2 @1064nm 8ns. 薄膜偏振片常常作为格兰泰勒棱镜和偏振立方分束器（偏振立方体）的替代用品使用。常用的基质材料是BK7和紫外熔炉石英。56度入射角（布儒斯特角）情况下的 偏振比值Tp/Ts=200：1.特点：1）薄膜偏振片,Thin film polarizer有效地分开s光和p光 2）薄膜偏振片,Thin film polarizer配备有库存，可以立刻发货。薄膜偏振片标准参数 材料：BK7, UVFS直径公差：+0.0/-0.12mm厚度公差：+/-0.2mm净孔径：90%表面质量： 20-10 scratch&dig表面平整度：Lambda/10 @633nm平行度：30arec sec 消光比Tp/Ts：200:1典型透过率： Tp90%典型反射率：Ts99.5%激光损伤阈值： 5J/cm2 10ns 1064nm现有产品：266nm,343nm, 355nm, 400nm, 515nm, 532nm,780nm, 780-820nm, 795-805nm,940nm980nm, 1020-1040nm, 1064nm, 1550nm偏振片中国领先的进口精密激光光学器件旗舰型服务商--孚光精仪！

Atlas™ 标准薄膜制样机与高温薄膜制样系统Specac的等厚度薄膜制样工具主要用于高分子材料的光谱测定，根据热压制膜原理，所得到的样品是纯样品，谱图中只出现样品信息。Specac公司为满足客户的不同需求，提供三种等厚度薄膜制样工具，不仅可以将较厚的聚合物变成更薄的薄膜，还能将粒状，块状或板材，如药包材料，包装材料，特殊包裹材料等不规则的聚合物变成可以检测的薄膜。 GS15800高温薄膜制样系统技术参数： 最高操作温度高达400℃ 满足高端科研的要求 一周期40分钟 通过CE安全认证 集成的供热制冷设备? 2T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 压力范围0-2吨 一体式加热盘系统 双数字显示，精度1度 安全切换装置：70℃ 切断加热希同/55℃ 重启加热系统 一体式冷却盘高温薄膜制样机P/N GS15800有一组加热板是嵌入到薄膜制样机中的，所以当P/N GS15800装载在压 片机上时， 是不需要额外的Atlas 加热压盘P/NGS15515的。订购信息GS15640标准薄膜制样机特点：独立加热压盘，满足不同直径薄膜需要独立冷却盘，可缩短制膜周期重现性哈，制备过程简单 制膜过程无需化学品，成本低6种不同厚度的垫圈，适合各种高分子材料技术参数： 操作温度高达300℃ 一周期30分钟 4T的载荷极限 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250, 0.500mm 薄膜直径29mm 双数字显示，精度℃ 可配套加热板P/N GS15515使用 冷却系统停止时切断加热系统 冷却水流速大于0.2/min时重启加热系统 独立冷却盒订购信息GS15640 Atlas™ 标准薄膜制样机包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250和0.500 mm 垫圈铝膜 直径40mm(200 片)Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统包括: 0.015, 0.025, 0.050, 0.100, 0.250and 0.500 mm 垫圈铝膜直径40mm(200 片)制作铝膜样品杯的工具Specacards 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架(20张)不锈钢镊子高稳定性及高精度的温度控制器(400℃) 薄膜制样套装GS15631 Atlas™ 标准型薄膜制样套装1包括: 薄膜制样系统(GS15640) 加热板和加热压盘以及数字全自动温控器(300°C) (GS15515)GS15633 Atlas™ 标准型薄膜制样套装2包括: 薄膜制样系统(GS15640)加热板和加热压盘以及数字温控器(300oC) (GS15515)15T手动液压机(GS15011)(对于GS15800,GS15631和GS15633，请指定220V或110V电压和使用的国家。)GS15800 Atlas™ 高温薄膜制样系统套装 包括: 高温薄膜制样系统(GS15800) 15T手动液压机(GS15011)(请指定220V或110V电压和使用的国家。)备件及耗材GS03800 卡夹式，圆形通光孔直径10mm，样品架 (100张/盒)GS03805 用于固定易伸缩薄膜样品的尼龙卡簧(20)GS03810 10mm x 25mm 矩形通光孔Specacards (100)GS03820 磁性薄膜样品架 圆形通光孔直径25mmGS15627 直径为40mm的铝膜(200)GS15641 冷却盒 用于标准薄膜制样系统 替换GS15642 标准薄膜制样压盘套装GS15629 标准薄膜制样机可替换的垫圈组件GS15805 高温薄膜制样机可替换的垫圈组件

FEP薄膜：也叫特氟龙薄膜，聚全氟乙丙烯薄膜；其特征主要有：1、耐高低温:-200～205℃ ，外观透明如保鲜膜，使用方便，环保；2、具有不粘性,拼水,拼油:水接触角θ=114о 电可靠性，高绝缘，不漏电；3、高透明度:透明度参考家用保鲜膜，对紫外线、可见光有很好的穿透性；4、耐强酸强碱，耐各种有机及无机化学溶剂，丙酮、醇类等各种腐蚀性溶剂；5、多作为封口膜，用于密封一些强腐蚀型瓶口；隔离实验室的一些腐蚀性溶剂；6、典型用途实例：中科院地化所常用来野外考察收集样品时，接收雨水用，通常会配套我公司同系列的FEP 透明管使用；品名宽度（mm）厚度mmFEP薄膜 200-2500.02-0.0150.03-0.040.05-0.150.15-0.2可按照客户要求生产250-280250-300300-35050060080010001200 FEP材质其他产品FEP取样瓶、容量瓶、洗瓶、滴瓶、消解瓶、消解管、离心管、薄膜、移液管、透明管、烧杯、分液漏斗，其他实验室常用器皿耗材等等。

成卷的或预先切成方形或圆形的Prolene，超聚酯，聚丙烯，Mylar，聚碳酸脂和聚酰亚胺样品支撑薄膜。 成卷的薄膜(7.6cm×15.2m） 正方形薄膜（63.5mm×63.5mm） 圆形薄膜（直径63.5mm） 多孔聚丙烯薄膜（6.4cm×5.1m）

超薄切片玻璃条:25mm宽x200mm长x6mm厚

1，适用于测试玻璃，薄膜等透明固体样品2，适用于本公司所有常规型号光度计

迷你薄膜制样套装一款5分钟就能实现红外透射分析专用的聚合物薄膜制样机特点：液压机与加热压盘以及温控器一体化的设计体积小巧，方便存储，携带薄膜重现性好，使用快捷 无需化学品，成本低,6种不同的垫圈这种设计允许加热板先进行预加热，温度升高至样品所需的熔点，并保持这个温度。样品在被引入到预加热板之前，薄膜制样机就可以独立的为几克的样品准备好相应的载荷和合适的定型圈。当薄膜制样机达到预设温度并稳定后，通常使用0.5T负载转动丝杆来热压薄膜。一旦从热压机上移走，低温块体薄膜制备制样机可以在冷却板上快速冷却到室温，压制成型的薄膜可以移除。薄膜样品可被镶嵌在一个3×2英寸的自粘帖卡片(Specacard) 上以用于红外透射光谱分析使用。与传统方法相比，这个过程可缩短薄膜制备的周期，实际上，制作一个薄膜样品的周期可小于5分钟。如何制备薄膜样品放置好隔热板, 选择好定型圈和较小的铝膜，放到下方组件上。1) 将样品放到铝膜的中央位置，然后在上面覆盖上较大的铝膜和上方组件2) 将准备好的以上组件整体放置到预加热板平面间，再施加1T位的载荷。3) 一旦样品完成压缩从压片机取出，分开组件，小心的将铝膜从样品上剥离。4) 制成的薄膜放入Specacard，然后一同放置到光谱仪器中进行分析。 技术参数： 快速，可重复的制备薄膜样品 样品熔点范围从室温到260℃ 标准薄膜厚度15,25，50, 100,250和500μm 直径15mm 压力范围0-2吨 制样包包括液压机和集成的加热板 周期5分钟 加热压盘直径25mm 加热压盘最大功率：35W 温度控制器：双数字显示，精度1℃ 加热压盘可调距离0-20mm 独立冷却盘 重量5.7kg 订购信息 迷你薄膜制样套装 GS03970 迷你薄膜制样套装 备件及耗材 GS03971 迷你薄膜制样组件 (包括压板组件，隔热板， 下压板组件，定型圈组件) GS03972 定型圈(15, 25, 50, 100, 250 和500 μm GS03973 铝膜(200 对) GS03974 迷你薄膜制样机冷却板 GS03975 迷你薄膜制样机压板(包括上压板，隔热板，下压板) GS03800 Specacards (100包) 直径10mm的圆形通光孔 GS15628 不锈钢镊子

X-ray应用薄膜窗口（X-Ray Windows）有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™ 氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。G-FLAT™ 氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310μm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320μm，200 MP 低应力无孔氮化硅。产品信息：货号产品描述窗口(Sq.)膜厚规格76042-10G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-11G-FLAT™ SiO X-Ray Window500μm300nm20/pk76042-12Silicon Nitride X-Ray Window500μm50nm20/pk76042-13Silicon Nitride X-Ray Window1000μm50nm20/pk76042-14Silicon Nitride X-Ray Window500μm100nm20/pk76042-15Silicon Nitride X-Ray Window1000μm100nm20/pk76042-16Silicon Nitride X-Ray Window 1500μm200nm20/pk76042-17Silicon Nitride X-Ray Window2500μm200nm20/pk

基于SiO2/Si晶片的双层CVD石墨烯薄膜将两层单层CVD石墨烯膜转移 到285nm p掺杂的SiO 2 / Si晶片上 尺寸：1cmx1cm 4片将每个石墨烯膜连续转移到晶片上我们的石墨烯薄膜的厚度和质量由拉曼光谱控制该产品的石墨烯覆盖率约为98％石墨烯薄膜是连续的，具有小孔和有机残留物每个石墨烯薄膜主要是单层（超过95％），偶尔有少量多层（低于5％的双层）由于没有A-B堆叠顺序。石墨烯薄膜彼此随机取向。薄层电阻：215-700Ω/平方硅/二氧化硅晶圆的特性：氧化层厚度：285nm颜色：紫罗兰色晶圆厚度：525微米电阻率：0.001-0.005欧姆 - 厘米型号/掺杂剂：P /硼方向：100 前表面：抛光背面：蚀刻应用：石墨烯电子和晶体管导电涂料航空航天工业应用支持金属催化剂微执行器MEMS和NEMS化学和生物传感器基于石墨烯的多功能材料石墨烯研究

产品名称：氮化铝(AlN)薄膜 产品简介：AllN Epitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延（HVPE）的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法，用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚欢迎您的垂询！技术参数：尺寸 dia50.8mm±1mm蓝宝石衬底取向 c轴（0001)±1.0deg衬底： Al2O3 SiC GaN薄膜厚度：10-5000nm导电类型： 半绝缘型位错密度：XRD FWHM of 0002500arcsec XRD FWHM of 10-121500arcsec 有效面积：80%抛光：单抛光 产品规格： 氮化铝(蓝宝石衬底)：dia2"*1500nm±10% 注：可根据客户需求定制特殊的方向和尺寸。标准包装：1000级超净室，100级超净袋或单片盒封装

聚合物薄膜测厚仪配件用于测量聚合物薄膜、有机薄膜、高分子薄膜和 光致抗蚀剂薄膜, 光刻胶膜,光刻薄膜,光阻膜在加热或制冷情况下薄膜厚度和光学常量（n, k)的变化。为了这种特色的测量，孚光精仪公司特意研发了专业的软件和算法，使得该聚合物薄膜测厚仪能够给出薄膜的物理化学指标：例如玻璃化转变温度 glass transition temperature (Tg)，热分解温度，薄膜的厚度测量范围也高达10nm--100微米。聚合物薄膜测厚仪配件在传统薄膜测厚仪的基础上添加了加热/制冷的温度控制单元，使用白光反射光谱技术（WLRS)，实时测量薄膜厚度和折射率，并通过专业软件记录下这些数据，能够快速实时给出薄膜厚度和薄膜光学常量等物理化学性能数据，并且能够控制薄膜加热和制冷的速度，是聚合物薄膜特性深入研究的理想工具。干膜测厚仪所使用的软件也适合薄膜的其他热性能研究，例如：薄膜的热消融/热剥蚀thermal ablation研究，薄膜光学性质随温度的变化，薄膜预烘烤Post Apply Bake，光刻过程后烘烤 Post Exposure Bake对薄膜厚度的损失等诸多研究。对于薄膜的厚度测量，这款聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪要求薄膜衬底是透明的，背面是不反射的。它能够处理最高4层薄膜的膜堆layer stacks，给出两个参数：例如两个薄膜的厚度或一个薄膜的厚度和光学常量。这套聚合物薄膜测厚仪,薄膜热特性测厚仪已经成功应用于测量不同聚合物薄膜的热性能，光刻薄膜的热处理影响分析，Si晶圆wafer上的光致抗蚀剂薄膜分析等。聚合物薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚： 5nm-150微米；波长范围：200-1100nm 精度：0.5%分辨率：0.02nm 测量点光斑大小：0.5mm可测样品大小：10-100mm计算机要求：Windows XP, vista, Win7均可，USB接口；尺寸：360x400x180mm重量：13.5kg 电力要求：110/230VAC聚合物薄膜测厚仪配件应用聚合物薄膜测量光致抗蚀剂薄膜测量化学和生物薄膜测量，传感测量光电子薄膜结构测量 半导体薄膜厚度测量在线测量光学镀膜测量聚合物薄膜厚度测量polymer films测量测量有机薄膜厚度测量光致抗蚀剂薄膜测光刻胶膜测厚测量光刻薄膜厚度测量光阻薄膜测厚测量光阻膜厚度