硅片表面形貌

表面形貌仪配件又称为光学形貌仪或三维形貌仪，它除了用于测量物件的表面形貌或表面轮廓外，具有测量晶圆翘曲度的功能,非常适合晶圆,太阳能电池和玻璃面板的翘曲度测量，应变测量以及表面形貌测量。 三维形貌仪主要配件应用 用于太阳能电池测量 用于半导体晶圆测量 用于镀膜玻璃的平整度（Flatness)测量 用于机械部件的计量 用于塑料,金属和其他复合型材料工件的测量 表面形貌仪配件特色 *除了表面形貌的测量，还可以测量张量和应力（简单）； *可测量晶圆的尺寸为0.5' ' 到12' ' , 最高可达45x45cm的尺寸，对于小于0.5' ' 的晶圆或样品，可配备微距镜头。 *测量晶圆或其他样品的表面形貌,粗糙度和翘曲度； *克服常见干涉仪在粗糙表面（油漆）表现不足的问题； *非接触式测量

三维表面形貌仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学表面形貌仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面形貌仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对二维形貌或三维形貌表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面形貌仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维形貌仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面形貌仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积 分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析 磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

硅片TTV厚度测试仪配件是采用红外干涉技术的测量仪，能够精确给出衬底厚度和厚度变化 （TTV)，也能实时给出超薄晶圆的厚度（掩膜过程中的晶圆），非常适合晶圆的研磨、蚀刻、沉淀等应用。 硅片厚度测量仪配件采用的这种红外干涉技术具有独特优势，诸 多材料例如，Si, GaAs, InP, SiC, 玻璃，石英以及其他聚合物在红外光束下都是透明的，非常容易测量，标准的测量空间分辨率可达50微米，更小的测量点也可以做到。硅片厚度测量仪配件采用非接触式测量方法，对晶圆的厚度和表面形貌进行测量，可广泛用于：MEMS， 晶圆，电子器件，膜厚，激光打标雕刻等工序或器件的测量，专业为掩膜，划线的晶圆，粘到蓝宝石或玻璃衬底上的晶圆等各种晶圆的厚度测量而设计，同时，硅片厚度测试仪还适合50-300mm 直径的晶圆的表面形貌测量。硅片厚度测试仪配件具有探针系统配件，使用该探针系统后，硅片TTV厚度测试仪可以高精度地测量图案化晶圆,带保护膜的晶圆, 键合晶圆和带凸点晶圆（植球晶圆），wafers with patterns, wafer tapes,wafer bump or bonded wafers 。 硅片TTV厚度测试仪配件直接而精确地测量晶圆衬底厚度和厚度变化TTV，同时该硅片厚度测量仪能够测量晶圆薄膜厚度，硅膜厚度（membrane thickness) 和凸点厚度（wafer pump height).，沟槽深度 （trench depth)。

三维表面轮廓仪配件是德国进口的高精度多功能表面轮廓测量仪器，也是一款光学轮廓仪,非常适合对表面几何形状和表面纹理分析。 三维表面轮廓仪配件根据国际标准计算2D和3D参数，使用最新的ISO 25178 标准表面纹理分析，依靠最新的 ISO 16610 滤除技术进行计算，从而保证了国际公信力，以标准方案或定制性方案对2D轮廓或三维轮廓表面形貌和表面纹理，微米和纳米形状，圆盘，圆度，球度，台阶高度，距离，面积，角度和体积进行多范围测量，创造性地采用接触式和非接触式测量合并技术，一套表面轮廓仪可同时具有接触式和非接触式测量的选择。 三维轮廓仪配件参数： 定位台行程范围：X: 200 mm Y: 200 mm Z: 200 mm (电动) 接触式测量范围： 范围0.1mm, 分辨率2nm, 速度 3mm/s 范围：2.5mm 分辨率40nm, 速度3mm/s 非接触式测量范围： 范围：300um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：480um, 分辨率2nm, 速度30mm/s 范围：1mm, 分辨率5nm, 速度30mm/s 范围：3.9mm , 分辨率15nm, 速度30mm/s 表面轮廓仪配件应用：测量轮廓，台阶高度，表面形貌，距离，面积，体积分析形态，粗糙度，波纹度，平整度，颗粒度 摩擦学研究，光谱分析磨料磨具，航天，汽车，化妆品，能源，医疗，微机电系统，冶金，造纸和塑料等领域。

多功能翘曲度测量仪配件是孚光精仪公司进口的全球领先的翘曲度检测仪器，一套翘曲度测试仪器可以测量：热沉,晶圆(wafer),太阳能电池和硅片翘曲度,应力以及表面形貌。多功能翘曲度测量仪配件是特别为半导体晶圆（wafer)和太阳能电池（solar cell)的翘曲度（warp) 和弯曲度(bow)以及表面形貌(topography)的测量而设计，可以测量晶圆翘曲度（wafer warpage) 和晶圆表面形貌, 晶圆应力,硅片张力,太阳能电池量子效率，既适合科研单位使用，也适合工业客户大产品、高效率的晶圆翘曲度和表面形貌的检测的需要。 我们还根据不同晶圆类型提供如下两种硅片翘曲度测量仪： 1. 非反射型：适合晶圆表面覆盖晶圆保护膜/胶带（wafer tape)，图案化晶圆 /图样化晶圆（patterned wafer)，粗糙的晶圆的应用； 2. 高反射型： 适合晶圆表面光滑 / 镜反射的应用。 多功能翘曲度测量仪配件特点： × 适合不同尺寸的晶圆检测，从0.5’‘到12' ' 的直径； * 标准检测能力为： 每小时可检测2000个晶圆或更多太阳能电池； × 同时测量多个晶圆或太阳能电池； × 测量镀膜后的晶圆或solar cell * 分析太阳能电池或晶圆应力和张力； * 对晶圆表面进行图像分析； * 测量图案化晶圆或非图案化的晶圆； * 具有太阳能电池的量子效率测量选项供选择 多功能翘曲度测量仪配件参数： × 翘曲度测量范围：1-20微米； * 重复精度： 百分之0.5 （1 sigma) * 给出结果：曲率半径,晶圆弯曲高度，翘曲度，测量日期和时间； * RMS粗糙度mapping: 0.5-20A （可选项）； * 光源：根据用户的应用而配备不同光源； * 探测器：高分辨率探测器阵列并配备亚像素软件；

Pelcotec™ SFG12 坐标硅片Pelcotec™ SFG12坐标硅片最近推出的新品，主要用于电子显微镜领域。硅片12.5X12.5mm大小，平整、导电；在1x1mm面积上分割成144个区域，每个区域都有字母数字标记。采用激光刻蚀工艺，保证了产品的精确度，是目前样本承载和SEM定位实验的理想选择。 特征：l 表面平整，而与之相似用途的铜网是有高度差的l 较低的背景信号l 大区域上精细刻度-带刻度的SEM样品台不可与之比拟l 可用于EDX分析l 图案肉眼可见l 低倍放大下可得到大概尺寸l 适合安装到大部分样品台l 适合SEM、FIB、XPS/ESCA、Auger 和LM领域订购信息：货号产品描述规格TP21480Pelcotec™ SFG12 Finder Grid Substrate坐标硅片个

硅晶圆片随着半导体、微电子行业的发展，硅片的用途越来越广泛。比如半导体芯片领域、X射线晶体分析、磁控溅射样品生长、原子力、红外光谱测试分析、PVD/CVD镀膜衬底等。我们提供各种不同直径、厚度、电阻、级别和应用场景的硅片，请将您的参数要求发给我们，如有疑难，也请联系我们。哪里可以快速买到硅片作为基片，当然是这里！我们主要为国内的科研院所、高校提供高品质的硅片衬底，高纯抛光的硅基底也能够提供。选型指导：特性产品描述常规硅片直径1"、2"、3"、4"、5"、6"、8"、10"、12"厚度50um至10000um超薄硅片直径5mm、10mm、25mm、50mm、75mm、100mm超薄硅片厚度2um至50um，公差±0.5μm、±1.0μm、±1.5μm表面粗糙度Prime Grade wafer Ra5? .掺杂类型P型、N型、无掺杂晶向〈100〉± 0.5° 〈110〉±0.5° 〈111〉± 0.5°，〈100〉± 1°，〈110〉±1°表面处理抛光、刻蚀、ASCUT；单面/双面处理电阻率0~至 20000 (Ωcm)级别Mechanical Grade、Test Grade、Prime Grade、SEMI Prime Grade 产品举例：产品描述尺寸举例规格多孔硅晶圆，Porous silicon wafer76.2mm10片无掺杂硅晶圆，undoped silicon wafer100mm10片氮化硅膜硅晶圆，Silicon Nitride Wafer LPCVD PECVD100mm10片FZ区硅晶圆片，Float Zone Silicon Wafer25.4mm10片热氧化处理硅晶圆片Thermal Oxide Wafer76.2mm25片超平硅片Ultra-Flat or MEMS wafers6″5片太阳能硅晶片，Solar Silicon Cells6″，5″25片外延硅片，Epitaxial Silicon Wafer100mm10片N型硅晶圆片，N-Type Silicon Substrates100mm100片各种硅晶片 我们致力于为客户提供全面的硅片（Silicon Wafer）解决方案，从测试级硅片（Test Wafer）到产品级硅片（Prime Wafer），以及特殊硅片氧化硅片（Oxide）、氮化硅片(Si3N4)、镀铝硅片、镀铜硅片、SOI Wafer、MEMS Glass、定制超厚、超平硅片等，尺寸覆盖50mm-300mm。对于2D材料的研究，软光刻硅片，直接放射性核电实验，等离子体刻蚀硅片，以及微流控芯片平台的建立，我们均有成功的经验。 小常识：将某一特定晶向的硅种子(种子,通常为一小的晶棒)棒插入熔融液态硅,并慢慢向上拉起晶棒,一根和种子相同晶向的晶柱就被生产出来。将晶柱切割成多个一定厚度的圆片片,通常称呼的wafer就被制造出来了。初步切割出来的wafer表面，通常比较粗糙,无法用作晶圆生产，因而通常都在后续工艺中进行抛光，抛光片的名词就由此而来。针对不同晶圆制造要求，通常需要向粗制晶圆内掺杂一些杂质，如P、B等，以改变其电阻值,因而就有了低阻、高阻、重掺等名词。镀膜片可以理解为外延片Epi，是针对特定要求的半导体装置而制定的wafer,通常是在高端IC和特殊IC上使用，如绝缘体上Si(SOI)等。用Czochralski(CZ)晶体生长法或浮区（floatzone）（FZ）生长法生成单晶硅。超大规模集成电路应用更多采用Czochmlski硅，因为它比FZ材料有更多的耐热应力能力，而且它能提供一种内部吸杂的机械装置，该装置能从硅片表面上的器件结构中去除不需要的杂质。因为是在不与任何容器或坩埚接触的情况下制成，所以FZ硅比CZ硅有更高的纯度（从而有更高的电阻率）。器件和电路所需的高纯起始材料（如高压，高功率器件）一般都用FZ硅。我们的低应力PECVD氮化是一个单面膜，已优化为晶圆需要最小的热处理。因为低应力PECVD氮化物是在低温下沉积的，它提供了更大的灵活性，可以沉积在任何其他薄膜上。我们提供独立式超薄超平硅片，厚度从5μm到100μm不等，直径从5毫米到6英寸。薄硅片是真正的镜面光洁度DSP，良好的表面平整度，无雾，无空洞，表面RMS低(典型1-2 nm)，超低值TTV通常小于+/-1μm。我们的单晶太阳能硅片的效率高达19.5%。什么是太阳能效率，阳光光子击中太阳能晶片在一个特定的空间的百分比。更高的效率意味着发电所需的比表面积更小。因此，小型屋顶将希望使用更高的效率面板，以弥补较小的表面积。

太阳能电池硅片清洗花篮 品牌：瑞尼克型号：RNKHL加工定制：是用途：清洗别名：花篮、承载篮用于半导体硅片,晶片,玻璃,液晶屏等清洗、腐蚀设备的承载花篮，太阳能电池片花蓝、太阳能硅片花蓝_太阳能硅片承载器、光伏电池片花蓝、光伏硅片花蓝，用于太阳能电池硅片清洗设备中,用于承载方形太阳能电池硅片，材质为PTFE，本产品即在100℃以下的NaOH溶液、HCl溶液、HF等溶液中对硅片进行清洗、转换，且长期使用不变形、不污染硅片.特点：1.外观纯白色。2.耐高低温：可使用温度-200℃～＋250℃。3.耐腐蚀：耐强酸、强碱、王水和有机溶剂，且无溶出、吸附和析出现象。 4.防污染：金属元素空白值低。5.绝缘性：不受环境及频率的影响，介质损耗小，击穿电压高。6.耐大气老化，耐辐照和较低的渗透性。7.自润滑性：具有塑料中小的摩擦系数。8.表面不粘性：是一种表面能小的固体材料。9.机械性质较软，具有非常低的表面能。聚四氟乙烯（PTFE）系列产品：培养皿、坩埚、试剂瓶、试管、镊子、药匙、烧瓶、烧杯、漏斗、容量瓶、蒸发皿、表面皿、阀门、接头、离心管等。

聚四氟乙烯表面皿聚四氟乙烯（PTFE）表面皿：圆形状，中间稍凹，与蒸发皿相似。用途：1）可以用来做一些蒸发液体的工作,它可以让液体的表面积加大,从而加快蒸发.但是不能像蒸发皿那样加热；2）可以作盖子，盖在蒸发皿或烧杯上，防止灰尘落入蒸发皿或烧杯；3）可以作容器，暂时呈放固体或液体试剂，方便取用；4）可以作承载器，用来承载 pH试纸，使滴在试纸上的酸液或碱液不腐蚀实验台。 品名规格(mm)材质聚四氟乙烯（PTFE）表面皿45PTFE6090 特点：1.外观纯白色；2.耐高低温：可使用温度-200℃～＋250℃；3.耐腐蚀：耐强酸、强碱、王水和有机溶剂，且无溶出、吸附和析出现象；4.防污染：金属元素空白值低；5.绝缘性：不受环境及频率的影响，介质损耗小，击穿电压高；6.耐大气老化，耐辐照和较低的渗透性；7.自润滑性：具有塑料中小的摩擦系数；8.表面不粘性：是一种表面能小的固体材料； 9.机械性质较软，具有非常低的表面能； 广泛应用在国防军工、原子能、石油、无线电、电力机械、化学工业等重要部门。聚四氟乙烯（PTFE）系列产品：培养皿、坩埚、试剂瓶、试管、镊子、药匙、烧瓶、烧杯、漏斗、容量瓶、蒸发皿、表面皿、阀门、接头、离心管等。

聚四氟乙烯表面皿聚四氟乙烯（PTFE）表面皿：圆形状，中间稍凹，与蒸发皿相似。用途：1）可以用来做一些蒸发液体的工作的,它可以让液体的表面积加大,从而加快蒸发.但是不能像蒸发皿那样加热；2）可以作盖子，盖在蒸发皿或烧杯上，防止灰尘落入蒸发皿或烧杯；3）可以作容器，暂时呈放固体或液体试剂，方便取用；4）可以作承载器，用来承载 pH试纸，使滴在试纸上的酸液或碱液不腐蚀实验台。 图片中矮的是表面皿，带嘴的是蒸发皿品名规格(mm)材质聚四氟乙烯（PTFE）表面皿45PTFE6090 特点：1.外观纯白色；2.耐高低温性：可使用温度-200℃～＋250℃；3.耐腐蚀：耐强酸、强碱、王水和各种有机溶剂，且无溶出、吸附和析出现象；4.防污染：金属元素空白值低；5.绝缘性：不受环境及频率的影响，介质损耗小，击穿电压高；6.耐大气老化，耐辐照和较低的渗透性；7.自润滑性：具有塑料中最小的摩擦系数；8.表面不粘性：是一种表面能最小的固体材料； 9.机械性质较软，具有非常低的表面能；10.无毒害：具有生理惰性。 广泛应用在国防军工、原子能、石油、无线电、电力机械、化学工业等重要部门。聚四氟乙烯（PTFE）系列产品：培养皿、坩埚、试剂瓶、试管、镊子、药匙、烧瓶、烧杯、漏斗、容量瓶、蒸发皿、表面皿、阀门、接头、离心管等。

太阳能电池硅片清洗花篮 品牌：瑞尼克型号：RNKHL加工定制：是 用途：清洗 别名：花篮、承载篮 用于半导体硅片,晶片,玻璃,液晶屏等清洗、腐蚀设备的承载花篮，太阳能电池片花蓝、太阳能硅片花蓝_太阳能硅片承载器、光伏电池片花蓝、光伏硅片花蓝，用于太阳能电池硅片清洗设备中,用于承载方形太阳能电池硅片，材质为PTFE，本产品即在100℃以下的NaOH溶液、HCl溶液、HF等溶液中对硅片进行清洗、转换，且长期使用不变形、不污染硅片.特点：1.外观纯白色。2.耐高低温：可使用温度-200℃～＋250℃。3.耐腐蚀：耐强酸、强碱、王水和有机溶剂，且无溶出、吸附和析出现象。4.防污染：金属元素空白值低。5.绝缘性：不受环境及频率的影响，介质损耗小，击穿电压高。6.耐大气老化，耐辐照和较低的渗透性。7.自润滑性：具有塑料中小的摩擦系数。8.表面不粘性：是一种表面能小的固体材料。 9.机械性质较软，具有非常低的表面能。聚四氟乙烯（PTFE）系列产品：培养皿、坩埚、试剂瓶、试管、镊子、药匙、烧瓶、烧杯、漏斗、容量瓶、蒸发皿、表面皿、阀门、接头、离心管等。

使用方法：先将表面皿洗净、烘干才能使用。表面皿的用途很广，但无论代替何种仪器使用，均要按照各种仪器的使用方法使用。如作气室鉴定时，将两片表面皿，利用磨成的平面合成气室，用一张试剂浸湿的试纸，帖附在上面的一片表面皿上，被鉴定的化合物放在下面的一片表面皿上，必要时加温，观察反应中生成气体，从试剂的颜色改变来鉴定气体。如观察白色沉淀或混浊物时，可把表面皿底壁放一张黑纸，则白色生成物便可清晰可见。如做各种仪器盖子，只要利用它的弧形放在仪器口上，放稳即可，但要注意按仪器的口径选择表面皿。一般表面皿直径应大于仪器口径1cm，这样使用较方便。如做烧杯盖子，按烧杯容量选用不同直径的表面皿。 用途：用硬料玻璃生产，适用于化验室做定量分析。如在生物化学分析上用两片表面皿合成培养室，做悬浮滴培养试验用。气室反应观察白色沉淀、微量溶解、蒸发等。 用窗玻璃生产的表面皿，仅能用于烧杯、蒸发皿、结晶皿、漏斗等仪器的盖子，防止灰尘落入，保持操作时物质的纯洁。在作升华打操作时用以防止物质的异化，使异化的物质停留在表面皿的底部。对有腐蚀性物质称量时，可代替天平的秤盘用。

等离子体表面清洗器是等离子体表面处理前对样品表面清洗、活化和净化的专用表面活化仪器和表面清洗仪器，非常适合对温度敏感材料的表面处理，如塑料。等离子体表面清洗器适合难以接触的样品表面清洁处理，如狭窄的裂缝，毛细血管或狭小孔洞。等离子体表面清洗器特点由氩供电。减少或氧化气体的混合物可以达到百分百。只要简单操作其电极头，就可以转换该装置处理分子气体，如空气或氮气。作为高新技术，广泛用于科学研究和工业应用，是材料表面处理中不可缺少的工具。等离子体表面清洗器特征 紧凑便携, 操作简单 等离子表面清洗器应用广泛 激活 精洗 去污 ?处理 温度敏感材料 复杂的几何图形 很难接触的位置 精确和逐点操作 由惰性气体和分子气体提供能源 轻松加工一体化等离子表面清洗器产品概述 描述 用于表面处理的紧凑型常压等离子体源装置 手持装置尺寸 180mm，?20mm（1.50m 电缆接头） 手持装置重量 170克 手持装置保护类型 IP30 基本单元尺寸 105x 180 x 330mm（高x宽x深）基本单元重量 4kg 基本单元保护类型 IP40 电源 110-230 VAC，50 / 60Hz 功耗＜50W 在230V，50赫Hz 运输和储存条件 温度-40°C - 70°C REL。湿度10% - 100% 工作条件温度15°C - 40°C相对湿度15% - 75% 气压 800 hPa -1060 hPa 资源 加工气体 氩* *根据要求，提供其他气体和混合物 气流 3-8升/分钟 *内置流指示器与安全关闭 引入压力2-3bar 绝对 气体温度 60°C 交付内容 kinpen® 基本单元包括手持装置 电极头（预装）线

红外叶表面温度传感器，红外叶表面温度传感器，试剂，操作，说 明：1、基本参数说明：（在使用本传感器前必须先了解以下参数） 1）RTD温度信号输出： Vt (Td为转换后数字量) 2）RTD环境温度： Ta (单位为℃) 3）红外信号输出电压： Vo (Vd为转换后数字量) 4）红外物体温度： To (单位为℃)2、传感器类型参数： 1）电压型红外叶表面温度传感器： 供电电压范围：5～12V（7～24V供电时需定制，另外功耗将增加4mA） 输出电压信号：0～2.5V 理论测温范围：0～100℃ 平均功耗电流：0.45mA 注意：在此，测温范围与电压信号范围不是线性对应关系！ 2）电流型红外叶表面温度传感器： 供电电压范围：7～24V 输出电流信号：0～25mA 理论测温范围：0～100℃ 平均功耗电流：4～25mA 注意：在此，测温范围与电压信号范围不是线性对应关系！ 红外叶表面温度传感器，红外叶表面温度传感器，试剂，操作，说 明，功能及特点： .具备环境温度信号采集、输出功能； .采用集成性红外热电堆温度传感器； .测量精度较高，重复性、一致性较好； .采用环氧树脂封装，防水抗震性好； .电压输出式传感器具备低功耗特点。4、适用范围： .可广泛用环境、温室、实验室等的红外温度测量。

玻璃表面皿/15cm 盖烧杯表面圆皿/表面圆皿/表面蒸发皿150mm由上海书培实验设备有限公司为您提供，产品规格齐全，量多从优，欢迎客户来电咨询选购。 产品介绍:材质：玻璃规格：150mm 边沿磨平、倒角的圆弧形玻璃皿。 产品用途： 产品可以作为盖子，盖在蒸发皿或烧杯上，防止灰尘落入蒸发皿或烧杯；也可作为容器，暂时呈放固体或液体试剂，方便取用； 适用于化验室做定量分析。如在生物化学分析上用两片表面皿合成培养室，做悬浮滴培养试验用，气室反应观察白色沉淀、微量溶解、蒸发等。

AFM探针基本都是由MEMS技术加工 Si 或者 Si3N4来制备. 探针针尖半径一般为10到几十 nm。微悬臂通常由一个一般100~500μm长和大约500nm~5μm厚的硅片或氮化硅片制成。典型的硅微悬臂大约100μm长、10μm宽、数微米厚。利用探针与样品之间各种不同的相互作用的力而开发了各种不同应用域的显微镜，如AFM(范德华力)，静电力显微镜EFM(静电力)磁力显微镜MFM(静磁力)侧向力显微镜LFM(探针侧向偏转力)等， 因此有对应不同种类显微镜的相应探针。原子力显微镜的探针主要有以下几种:(1)、 非接触/轻敲模式针尖以及接触模式探针:常用的产品，分辨率高，使用寿命一般。使用过程中探针不断磨损，分辨率很容易下降。主要应用与表面形貌观察。(2)、 导电探针:通过对普通探针镀20-40纳米厚的Pt(以及别的提高镀层结合力的金属，如Au、Cr、Ti和Pt与Ir的合金等)得到。导电探针应用于EFM，KFM，SCM等。导电探针分辨率比tapping和contact模式的探针差，使用时导电镀层容易脱落，导电性难以长期保持。导电针尖的新产品有碳纳米管针尖，金刚石镀层针尖，全金刚石针尖，全金属丝针尖，这些新技术克服了普通导电针尖的短寿命和分辨率不高的缺点。(3)、磁性探针:应用于MFM，通过在普通tapping和contact模式的探针上镀Co、Fe等铁磁性层制备，分辨率比普通探针差，使用时导电镀层容易脱落。(4)、大长径比探针:大长径比针尖是为测量深的沟槽以及近似铅垂的侧面而设计生产的。特点:不太常用的产品，分辨率很高，使用寿命一般。技术参数:针尖高度 9μm 长径比5:1 针尖半径 10 nm。(5)、类金刚石碳AFM探针/全金刚石探针:一种是在硅探针的针尖部分上加一层类金刚石碳膜，另外一种是全金刚石材料制备(价格很高)。这两种金刚石碳探针具有很大的耐久性，减少了针尖的磨损从而增加了使用寿命。还有生物探针(分子功能化)，力调制探针，压痕仪探针 Park四面体探针测微悬臂的特点，在于探针位于测微悬臂的Z端，由此易于清楚确认探针与样品的位置关系，从而迅速而准确地对准测定位置。为满足客户多种特殊需求，此产品备有标准型、铂膜型和四面刃型三种类型的硅探针可供选择。 具有高品质的解析度，共振频率在300 kHz与26 N/m的弹性系数, 大大的降低了破坏样品的机率； 外观设计：新产品的侧壁垂直面更便于探针的夹取； TipView设计：锋利的探头放置在后的悬臂。TipView设计便于精确探测定位； 测量环境：适用于空气中测量； 测量模式：AC（动态）模式； OMCL-AC160TS 10M的针尖适用于一般标准表面形貌量测，适用于以下sample: 1、pss蓝宝石基板的表面形貌量测； 2、太阳能板的表面形貌量测； 3、玻璃面板等各式有机材料、无机材料的表面形貌的量测 OMCL-AC160TS 10M均可直接代替以下品牌型号针尖： 1、Nanoworld 的NCHR/Arrow NCR 2、Appnano的ACTA 3、Bruker的TESPA/ORTESPA； 4、NT-MDT的NSG30 5、Budget Sensors的Tap300-G 详情请咨询：18994392037（同VX）李经理

玻璃表面皿/60mm 表面皿/玻璃蒸发皿由上海书培实验设备有限公司为您提供，产品规格齐全，量多从优，欢迎客户来电咨询选购。玻璃表面皿/60mm 表面皿产品介绍:材质：玻璃规格：60mm边沿磨平、倒角的圆弧形玻璃皿。 玻璃表面皿/60mm 表面皿产品用途：可以作为盖子，盖在蒸发皿或烧杯上，防止灰尘落入蒸发皿或烧杯；也可作为容器，暂时呈放固体或液体试剂，方便取用；

四氟表面皿具有非凡的化学耐受性，几乎可耐受所有的化学溶剂。各种形状均可定制。品名规格四氟表面皿50mm70mm100mm180mm

砂型铸件铸造表面对比板英国铸钢研究及贸易协会(STEEL CASTINGS RESEARCH AND TRADE ASSOCIATION 缩写为：SCRATA)更名为英国CTI铸造协会(CTI，Castings Technology Intemational) 一个铸件的粗糙度程度取决于制造工序（铸造、打磨、精加工等）。所用的铸造材料（型砂、涂料等）、铸造设备和浇铸合金。铸件表面如无加工表面均匀的环状，就很难用机械仪器、光学仪器或传统的气动仪器来评估它的粗糙度，因而在这种情况下，采用显示比较器是合适的选择。 但考虑到铸造或其它精加工方法做出的毛坯表面的不均匀性，比较器的规格应相对增大（等于或大于15000mm2），以便检验更可靠，给出重复而适当的结果。 Steel Castings Research and Trade Association(48片）：SCRATA比较器（1988年出版），用于确定铸钢件的表面质量，SCRATA显示比较器的规格为100mm×150mm （其比较面积大致为15000mm2~15500mm2）。 SCRATA样板 ASTM A802 粗糙度对比试块 SCRATA图谱 适用于ASTM A802/A802M – 95 (2006)钢铸件表面目测验收标准规程的31个样块如下： Surface Roughness (A) 表面粗糙度(A) Surface Inclusions (B) 表面夹杂(B) Gas Porosity (C) 气孔(C) Laps and Cold Shuts (D) 皱褶和冷隔(D) Scabs (E) 铸疤(E) Chaplets (F) 型芯撑(F) Surface Finish – Thermal Dressing (G) 表面处理 - 热抛光(G) Surface Finish – Mechanical Dressing (H) 表面处理 - 机械抛光(H) Welds (J) 焊缝(J) Hot Tears 热裂纹 Mechanical Dressing - Chipping 机械抛光 - 切削 样块数量样板分类ABCDEFGHJ 热裂纹切削ASTM A802311-41,2,4,51-41,2,53,51,31,2,3,51,3,4,51,2,3,5-- 48个的样板集适用于 ISO 11971:2008 钢和铁铸件 – 表面质量的外观检验；BS EN 1370:1997 铸造 – 目视比较仪检查表面粗糙度； BS EN 12454:1998 砂型铸件铸造表面缺陷的目视检查。（如果已有ASTM A802样块集，可以购买17块的升级样块集）

产品特点：定子表面组件Stator Face Assembly订货号：26424适用于 Agilent HPLC Systems产品名称：定子表面组件 （Stator Face Assembly）类似于：Agilent 0100-1851型号＃：1100,1200仪器：Agilent

S-22表面粗糙度比较仪S-22 Microfinish Comparator S-22表面粗糙度比较仪　本产品可用于五金机械，家电设备，产线建设等相关行业　　品 牌：GAR　　型 号：S-22(多款型号供选)　　比较仪质量 比较仪尺寸 比较仪价格 基本描述　　GAR S-22 22型表面粗糙度比较仪（符合AS9000标准） 　　GAR22样品2至500微英寸范围表面粗糙度计 　　本项目规范 　　零件号S-22 　　品牌名称GAR 　　不锈钢材质 　　项目数量1 　　UNSPSC代码41110000。　　S-22传统加工MICROFINISH比较器的形状为矩形（2“x53/8”），是实际加工表面的耐腐蚀电铸镍复合物。 　　共有二十二个复制的机加工表面光洁度样品，其中包括六种不同的加工工艺：研磨，研磨，布兰德尔地面，形状翻转，铣削和成型-范围从2到500微英寸。 　　S-22MICROFINISHCOMPARATOR采用人造革外壳，提供工程数据和说明。 　　S-22也有公制，带有千分尺。　　比较仪质量 比较仪尺寸 比较仪价格 术语　　类型： 　　标本是原始edm' ed表面的电铸复制品。 　　材料： 　　这种微细比较器表面粗糙度标尺由镍制成。它不会腐蚀。 　　外观： 　　每个样品都具有转向金属材料的表面粗糙度特征。 　　表面粗糙度：表示 　　由工具边缘的切割作用，机床的进给和磨粒产生的细微间隔的表面不规则性。 　　统一性和准确性： 　　原始母版和电铸复制品制作母版均匀分布检查。进行足够的测量以确定代表性的平均值。列出的评级是这些读数的平均值。 　　LAY： 　　这是指定主要表面不规则方向的术语。 　　FLAWS： 　　这些是不规则的，可能会频繁出现。它们不是典型的转弯表面。 22个复制的机加工表面光洁度试样，包括六种不同的机加工工艺示例：搭接、研磨、硬研磨、成形车削、铣削和成型-范围为2至500微英寸。S-22微精比较仪表面粗糙度标尺由双电铸工艺制成，其中镍电沉积以提供复杂细节的**再现。GAR电铸公司可提供用于产生表面粗糙度标尺的相同电铸工艺，以满足您的产品需求。 该比例中使用的表面是**加工表面的复制品，测量单位为微英寸（百万英寸-0.000001”）。刻在每个表面旁边的数字是与平均表面的平均偏差，以微英寸表示。 将MICROFINISH比较仪表面粗糙度标尺放在工件旁边。滑动标尺，使具有所需表面粗糙度的矩形与正在检查的工件相邻。通过在每个表面上以与工具标记成直角绘制指甲尖进行比较。如果饰面相同，则指甲接触的感觉必须相同。 S-22微精比较仪表面粗糙度量表为工业界提供了已建立的平面粗糙度样本，用于视觉和触觉比较。当需要具有典型机加工表面外观的产品时，它用于指定和控制表面粗糙度。 S-22微精比较仪表面粗糙度标尺提供了一种经济的工具，允许在与线性测量相同的基础上指定粗糙度。呈现的表面是多年研究和工程的结果。有关该主题的详细信息现已发布在美国国家标准协会（ANSI）规范中，标题为：“表面纹理、表面粗糙度、波纹度和铺层”。ANSI/ASME B46.1 S-22常规加工微精比较仪为矩形（2“x 5 3/8”），是实际加工表面的耐腐蚀电铸镍复制品。 共有22个复制的加工表面光洁度试样，包括六种不同的加工工艺：研磨、研磨、硬研磨、成形车削、铣削和成型，范围为2至500微英寸。 S-22微精比较仪装在人造革箱中，附有工程数据和说明。 S-22也有公制和千分尺名称。 类型： 试样是原始电火花加工表面的电铸复制品。 材料： 该微精比较仪表面粗糙度标尺由镍制成。它不会腐蚀。 外观： 每个试样具有车削金属材料的表面粗糙度特征。 表面粗糙度： 指由刀具边缘的切削作用、机床进给和磨粒产生的精细间隔表面不规则。 一致性和准确性： 已按均匀分布的间隔检查原始母版和电铸副本生产母版。进行了充分的测量以确定代表性平均值。列出的额定值是这些读数的平均值。 铺设： 这是指主要表面不规则的方向。 缺陷： 这些是可能频繁出现的不规则情况。它们不是典型的回转面。 SCRATA粗糙度样块,SCRATA Comparators对比板铸钢表面SCRATA图谱SCRATA粗糙度对比试块ASTM A802粗糙度对比试块SCRATA比较器目视比较仪检测表面粗糙度SCRATA比较仪铸体表面粗糙度对比试块CTI粗糙度对比板钢和铁铸件表面质量检测仪铸造表面粗糙度对比板砂型铸件铸造表面对比板 Comparators for the definition of surface quality of steel castings 英国铸钢研究及贸易协会(STEEL CASTINGS RESEARCH AND TRADE ASSOCIATION 缩写为：SCRATA)更名为英国CTI铸造协会(CTI，Castings Technology Intemational) 一个铸件的粗糙度程度取决于制造工序（铸造、打磨、精加工等）。所用的铸造材料（型砂、涂料等）、铸造设备和浇铸合金。铸件表面如无加工表面均匀的环状，就很难用机械仪器、光学仪器或传统的气动仪器来评估它的粗糙度，因而在这种情况下，采用显示比较器是合适的选择。 但考虑到铸造或其它精加工方法做出的毛坯表面的不均匀性，比较器的规格应相对增大（等于或大于15000mm2），以便检验更可靠，给出重复而适当的结果。 Steel Castings Research and Trade Association(48片）：SCRATA比较器（1988年出版），用于确定铸钢件的表面质量，SCRATA显示比较器的规格为100mm×150mm （其比较面积大致为15000mm2~15500mm2）。 SCRATA样板 ASTM A802 粗糙度对比试块 SCRATA图谱 适用于ASTM A802/A802M – 95 (2006)钢铸件表面目测验收标准规程的31个样块如下： Surface Roughness (A) 表面粗糙度(A) Surface Inclusions (B) 表面夹杂(B) Gas Porosity (C) 气孔(C) Laps and Cold Shuts (D) 皱褶和冷隔(D) Scabs (E) 铸疤(E) Chaplets (F) 型芯撑(F) Surface Finish – Thermal Dressing (G) 表面处理 - 热抛光(G) Surface Finish – Mechanical Dressing (H) 表面处理 - 机械抛光(H) Welds (J) 焊缝(J) Hot Tears 热裂纹 Mechanical Dressing - Chipping 机械抛光 - 切削样块数量样板分类 ABCDEFGHJ热裂纹切削ASTM A802311-41,2,4,51-41,2,53,51,31,2,3,51,3,4,51,2,3,5--48个的样板集适用于 ISO 11971:2008 钢和铁铸件 – 表面质量的外观检验；BS EN 1370:1997 铸造 – 目视比较仪检查表面粗糙度； BS EN 12454:1998 砂型铸件铸造表面缺陷的目视检查。（如果已有ASTM A802样块集，可以购买17块的升级样块集）样块数量样块分类ABCDEFGHJ热裂纹切削全套481-51-51-51-51-51-51-51-51-51-21升级样块集175353,41,2,42,4,54241-21第3组有14个样块，基于BS 7900:1998 精密钢铸件表面特征的检验规范，适用于采用精密铸造工艺制造的铸钢件采购 Resin Shell Process (V) 树脂壳法(V) Lost Polystyrene Process (W) 聚苯乙烯消失模铸造(W) Shaw Process (X) 萧氏精密造模法(X) Lost Wax Process (Y) 失蜡法(Y) Fettled Surfaces (Z) 修整铸件(Z) 样块数量样板分类VWXYZ精密铸造样块集141-31-31-31-21-3 1. Full Set (48 comparators + A4 book) (咨询价格021-51082920) 全套 (48个样块)2. ASTM A802 set (31 comparators + A5book) ASTM A802样块集 (31个样块)3. Upgrade set (17 comparators + A4book) 升级样块集’ (17个样块)4. Precision castings (14 comparators and a copy of BS 7900:1998) 精密铸造’ (14个样块和BS 7900:标准文本一份)

8英寸晶圆隔纸 晶圆硅片测试片隔纸 硅片隔离纸由上海书培实验设备有限公司生产提供，产品规格齐全，量多从优，欢迎客户来电咨询选购。8英寸晶圆隔纸 硅片隔离纸 晶圆硅片测试片隔纸产品介绍：IC纸,,表面电阻在107-109次方，电子产品隔离纸,无尘级别：100级， 8英寸晶圆隔纸 硅片隔离纸 晶圆硅片测试片隔纸规格表格：产品名称产品尺寸包装规格产品单价品牌晶圆隔纸4英寸100张/包80元上海书培晶圆隔纸6英寸100张/包110元上海书培晶圆隔纸8英寸100张/包150元

表面皿WATCH GLASSES別名 焼杯盖, 表面玻璃 一、概况及用途: 表面皿的生声，原カ用硬料在大炉炉台ド先吹制成大球泡(一般用大規格圆底烧瓶磨具吹制)，然后根据需要的大小規格用金鋼刀划成圆片，边径磨平，倒角即成。后来采用中性料，或眼境玻厂利用吹制眼境片不适用的口料或坩锅破碎时更换新钳锅第一甓料进行生产，其生产工艺与之前相同。近几年来由于需要量增加，不能满足需要，再加上生产工艺复新，价值低工厂不愿生产，为此采用了普通窗玻璃划成圆片，边沿经磨光再加热到软化点，压制成孤形，经退火而成。这种生产工艺较先进、简单、效率高、成本低。但由于玻璃料性关系，不符合仪器料的要求。 用途:硬料生产的老面圆。适用于化验室、作定量分析，如在生物化学分析上用两片表面皿合成培养室，做悬浮滴培养试验用。气室反应观察白色沉淀、微量溶解、蒸发等。 用窗玻璃生产的表面皿，仅能用于烧杯、蒸发皿、结晶皿、漏斗等仪器的盖子，防止灰尘落入，保持操作时物质的纯洁。在作升华操作时用以防止物质的异化，使异化的物质停留在表面氧的底部。对有腐蚀性物质称量时，可代替天秤的盛盘用。 二、造型: 它是一块边沿磨平、倒角的圆孤形玻璃皿。 三、使用方法: 先将表面卫洗净、烘干才能使用，表面皿的用途很广，但无论代替那种仪器使用，均要按照各种仪器的使用方法使用。如作气室鉴定时:将两片表面皿，利用磨成的平面合成气室，用一张用试剂漫湿的湿纸，贴附在上面的一片表面皿上，被鉴定的气体化合物放在下面的一片表面皿上，必要时加温，观察反应中生成气体，从试剂的颜色改变来, 鉴定气体。如观察白色沉淀混浊物时，可把表面皿底壁故-张黑纸，则白色生成物便可清晰可见，其它使用方法不一一列举。 如做各种仪器盖子，只要利用它的孤形放在仪器口上，放稳即可，但娶注意仪器的口径选择表面皿。一般表面里应大于仪器口径一厘米,这样使用较方便。 四、规格及质量要求: (一)皿口磨平，皿边磨光，不得有碰落缺口和割手的快口。 (二)皿面园度正确，不得有扁园或高低不平情况

预切单抛硅片常用于SEM和SPM中，硅片的一些参数如下，大硅片直径100mm，基片厚度525un：l Orientation: 100 l Resistance: 1-30 Ohmsl Type: P (Boron)l Wafer thickness: 18-21 mil (460-530μm)l Roughness: 2nm, polished on one side材料科学方面：当用FESEM研究纳米离子时，硅片具有玻璃盖玻片一样的光滑性能，而且具有高分辨率测试所需要的导电性。因为硅衬底有点导电，人们可以减少对金属涂层的需要（涂层有可能掩饰材料样本的特点）。生物学方面：非常理想的衬底来生长细胞，表面光滑，完全等同玻璃盖玻片。由于是硅材料，人们不用担心样本受到玻璃的腐蚀，还有硅的惰性，完全可以高压灭菌。产品选购：货号产品名称规格4136SC-ABSilicon Chip Substrates 5x5 mm x 525 um Thick269 Chips4137SC-ABSilicon Chip Substrates 5x7 mm x 525 um Thick186 Chips

表面皿WATCH GLASSES別名 焼杯盖, 表面玻璃 一、概况及用途: 表面皿的生声，原カ用硬料在大炉炉台ド先吹制成大球泡(一般用大規格圆底烧瓶磨具吹制)，然后根据需要的大小規格用金鋼刀划成圆片，边径磨平，倒角即成。后来采用中性料，或眼境玻厂利用吹制眼境片不适用的口料或坩锅破碎时更换新钳锅第一甓料进行生产，其生产工艺与之前相同。近几年来由于需要量增加，不能满足需要，再加上生产工艺复新，价值低工厂不愿生产，为此采用了普通窗玻璃划成圆片，边沿经磨光再加热到软化点，压制成孤形，经退火而成。这种生产工艺较先进、简单、效率高、成本低。但由于玻璃料性关系，不符合仪器料的要求。 用途:硬料生产的老面圆。适用于化验室、作定量分析，如在生物化学分析上用两片表面皿合成培养室，做悬浮滴培养试验用。气室反应观察白色沉淀、微量溶解、蒸发等。 用窗玻璃生产的表面皿，仅能用于烧杯、蒸发皿、结晶皿、漏斗等仪器的盖子，防止灰尘落入，保持操作时物质的纯洁。在作升华操作时用以防止物质的异化，使异化的物质停留在表面氧的底部。对有腐蚀性物质称量时，可代替天秤的盛盘用。 二、造型: 它是一块边沿磨平、倒角的圆孤形玻璃皿。 三、使用方法: 先将表面卫洗净、烘干才能使用，表面皿的用途很广，但无论代替那种仪器使用，均要按照各种仪器的使用方法使用。如作气室鉴定时:将两片表面皿，利用磨成的平面合成气室，用一张用试剂漫湿的湿纸，贴附在上面的一片表面皿上，被鉴定的气体化合物放在下面的一片表面皿上，必要时加温，观察反应中生成气体，从试剂的颜色改变来, 鉴定气体。如观察白色沉淀混浊物时，可把表面皿底壁故-张黑纸，则白色生成物便可清晰可见，其它使用方法不一一列举。 如做各种仪器盖子，只要利用它的孤形放在仪器口上，放稳即可，但娶注意仪器的口径选择表面皿。一般表面里应大于仪器口径一厘米,这样使用较方便。 四、规格及质量要求: (一)皿口磨平，皿边磨光，不得有碰落缺口和割手的快口。 (二)皿面园度正确，不得有扁园或高低不平情况

产品特点：表面保护Surface ProtectorBYTAC● 压敏表面保护● 在任何表面放置氟聚合物的廉价方法 ● Keep your sample prep area completely protected and chemically inert. Use BYTAC surface protection in all of your labs.● Use BYTAC on bench tops and around GCs.● Use BYTAC in the bottom of your hoods or to line your chemical storage cabinets.● Made from a layer of fluoropolymer film on a smooth, tough vinyl or aluminum-foil support backing with a repositionable type of pressure-sensitive adhesive.● 不受天气、水气或大多数化学物质的影响.● 用剪刀容易切.General Purpose BYTACVinyl Supported Surface Protection Temperature Range: Up to 200°F (93°C) Construction: .001" PTFE FEP film on .008" vinyl Adhesive: Repositionable type, pressure-sensitiveHigh Temperature BYTACAluminum Foil Supported Surface Protection Temperature Range: Up to 360°F (182°C) Construction: .001" FEP film on .002" aluminum foil Adhesive: Repositionable type, pressure-sensitive订购信息：DescriptionSizeCatalog NumberGeneral Purpose BYTAC25 inches x 5 yards1069324 DescriptionSizeCatalog NumberHigh Temperature BYTAC25 inches x 5 yards1069329

该板采用陶瓷玻璃制成，能够保护高质量表面免受高温容器烫伤，如坩埚、蒸发皿、玻璃容器等。其还能够为深度冷冻产品提供可靠保护。板边缘的垫脚设计，避免其与受保护表面的直接接触。 温度耐受范围?235.5到 +648.8 °C易清洁、防污表面低热膨胀系数，耐热冲击VWR表面保护板长度×宽度 颜色 包装规格 VWR目录号102×102 mm 深棕色 1VWRI115-0094 152×152 mm 深棕色 1VWRI115-0095 229×229 mm 深棕色 1VWRI115-0096 305×305 mm 深棕色 1VWRI115-0097

枝状结构的各种空隙可用于间距的测试，而其表面形貌则可应用在灰度水平测试。标样不具磁性、在真空及电子束作用下稳定，勿需表面镀膜。最适宜在探针大小为25－75nm时使用。

枝状结构的各种空隙可用于间距的测试，而其表面形貌则可应用在灰度水平测试。标样不具磁性、在真空及电子束作用下稳定，勿需表面镀膜。最适宜在探针大小为25－75nm时使用。

铂金板法测量的是液体的表面（或界面)张力的平衡值，铂金环法测试的是液体的表面（或界面)的*大力值。相比较，铂金板法具有如下的优点：　　1.铂金板法可测量液体表面（或界面）张力随时间的变化：铂金板法测量时是一直接触被测液体的，只要液体的表面张力发生变化，测试值就会有变化，如果选用数据处理软件还可观测的表面张力随时间的变化曲线。　　2.可方便地测量中高粘度液体的表面张力：铂金环法测试时需要铂金环向上提升，在此过程中除了表面张力的作用外还有粘力作用。　　3.测试精度高：铂金板不易变形，铂金环太容易变形。环的不规则圆、不平整会影响表面张力的测试精度4.使用方便：铂金板测试值就是表面张力值，不需换算；铂金环测试的是*大力值，需要换算。铂金板清洗方便，不易变形。