含硅二胺

托吡卡胺滴眼液中托吡卡胺含量的测定，色谱柱COSMOSIL C8-MS 关键词：托吡卡胺滴眼液，托吡卡胺，2010年药典，辛烷基键合硅胶，北京绿百草 2010年中国药典标准：托吡卡胺测定色谱条件：照高效液相色谱法（附录Ⅴ D）测定，用辛烷基硅烷键合硅胶为填充剂；以甲醇辛烷磺酸钠溶液为流动相；检测波长为254nm。理论板数按托吡卡胺峰计算不低于3000，托吡卡胺与羟苯甲酯、羟苯乙酯的分离度应符合要求。（中国药典二部P264） 需要详细的药典标准请联系北京绿百草：010-51659766. 登录网站获得更多产品信息:www.greenherbs.com.cn

灰熔点测定仪带含焊片的硅碳管卡子

异福酰胺片中利福平、异烟腁和吡嗪酰胺的含量测定，推荐色谱柱：Cosmosil CN柱 关键词：异福酰胺片，利福平，异烟腁，吡嗪酰胺，2010年药典 2010年中国药典标准：照高效液相色谱法（附录Ⅴ D）测定，用氰基键合硅胶为填充剂；以庚烷磺酸钠溶液-乙腈为流动相；检测波长为254nm。理论板数按吡嗪酰胺峰计算不低于1500，各色谱峰的分离度应符合要求。（中国药典二部P299） 需要详细的药典标准请联系北京绿百草：010-51659766. 登录网站获得更多产品信息:www.greenherbs.com.cN

异福酰胺胶囊中利福平、异烟腁和吡嗪酰胺的含量测定，推荐色谱柱：Cosmosil CN柱 关键词：异福酰胺胶囊，利福平，异烟腁，吡嗪酰胺，2010年药典 2010年中国药典标准：照高效液相色谱法（附录Ⅴ D）测定，用氰基键合硅胶为填充剂；以0.01mol/L庚烷磺酸钠为流动相；检测波长为254nm。理论板数按吡嗪酰胺峰计算不低于1500，各色谱峰的分离度应符合要求。（中国药典二部P300） 需要详细的药典标准请联系北京绿百草：010-51659766. 登录网站获得更多产品信息:www.greenherbs.com.cn

异福酰胺胶囊中利福平、异烟腁和吡嗪酰胺的含量测定，推荐色谱柱：Cosmosil CN柱 关键词：异福酰胺胶囊，利福平，异烟腁，吡嗪酰胺，2010年药典 2010年中国药典标准：照高效液相色谱法（附录Ⅴ D）测定，用氰基键合硅胶为填充剂；以0.01mol/L庚烷磺酸钠为流动相；检测波长为254nm。理论板数按吡嗪酰胺峰计算不低于1500，各色谱峰的分离度应符合要求。（中国药典二部P300） 需要详细的药典标准请联系北京绿百草：010-51659766. 登录网站获得更多产品信息:www.greenherbs.com.cn

双(三甲硅基)三氟乙酰胺 for gas chromatography

双(三甲硅基)乙酰胺 for gas chromatography

双(三甲硅基)三氟乙酰胺 for gas chromatography

双(三甲硅基)乙酰胺 for gas chromatography

产品特点: &bull 用于分析挥发性胺类和二胺类化合物 &bull 碱性去活，确保峰形对称性 &bull 对于碱性组分有良好的惰性 保证很好的分析挥发性胺和二胺；通过碱性试剂灭活，有极好的对称峰形；对碱性化合物有非常高的惰性. 胺类化合物专用分析柱在化学、制药工业和环境中胺的分析都很重要。例如：有机胺可用于生产高聚物、药物、农药、染料和其它化合物。此外，已知环境中存在痕量胺对健康有害。但是，用毛细管色谱法分析胺时，胺会被诸如熔融石英壁和固定相的极性表面吸附。Chrompack公司取得了名为&ldquo 多目的脱活"（Multi Purpose Deactivation,MPD）的专利工艺，能彻底消除非极性固定相上胺的吸附，取得了突破性时展。MPD现用于制作CP-Sil 8 CB for Amines胺类分析柱，其应用领域非常广。另外，该技术也用于制造另一种稳定的非极性的厚液膜，名为CP-Volamine的特殊毛细管柱，该柱具有很高的稳定性和化学惰性，可用于分析挥发性胺。此外，Chrompack公司还提供其它几种极性固定相分析胺类化合物，以满足不同的选择性要求。 Chrompack特有MPD工艺提供惰性最好的毛细柱将本公司特有的脱活和稳定化技术-MPD，用于普通的低流失/亚芳基型固定相，可成功的分析微量胺。熔融石英管柱的酸性表面可以使用一种本公司产权专属的脱活试剂进行去活。该试剂能提供多目的去活作用。此外，该脱活试剂也能提供屏蔽效应，可降低在柱壁表面的硅氧桥相互作用。该脱活试剂中还包含一个活性的碱性集团，可降低酸-碱相互作用，从而降低微量胺类的吸附。 产品应用: 专用于挥发性胺和二胺分离检测。 应用范围：C3-C8胺和二胺类化合物。 订货信息: CP-Wax for Volatile Amines and Diamines Tmax-iso/Tmax-prog 220/220 ° C Part No. ID Length df N/M 部件号 内径(mm) 长度(m) 膜厚(µ m) 柱效 CP7422 0.32 25 1.20 2200 CP7424 0.53 25 2.00 1300

HP-1－二甲基聚硅氧烷柱 说明：这是最常用的非极性键合固定相，HP-1（二甲基聚硅氧烷），具有极好的热稳定性并且在高温下流失很小，具有低的检测限 相似的固定相：DB-1,Rtx-1,SPB-1,CP Sil 5CB,MDN-1,DB-1h.t.,AT-1 007-1 恒温/程序升温温度范围：-60至325/350℃,-60至300/320℃ 0.53内径，-60至260/280℃2.0mm液膜 应用：胺类、烃类、农药、多氯联苯、酚类、含硫化合物 HP-1 25m, 0.20mm, 0.33um HP-1 30m, 0.32mm, 0.25um HP-1 15m, 0.25mm, 0.25um HP-1 30m, 0.32mm, 1.0um HP-1 30m, 0.25mm, 0.25um HP-1 60m, 0.32mm, 0.25um HP-1 60m, 0.25mm, 0.25um HP-1 15m, 0.53mm, 1.5um HP-1 30m, 0.53mm, 2.65um

煤质分析仪测硫仪硅碳管带焊片的卡子

Thermo Scientific HyperSep SPE 硅色谱柱带有主要用于保留无极性基质中的分析物的极性吸附剂。 ◆有效分离具有非常相似结构的化合物 ◆从无极性溶剂中吸收分析物，例如碳氢化合物、低极性酯和醚 ◆适合作为在含水介质中的中强度阳离子交换剂使用 ◆萃取极性化合物，包括醛、胺、药物、农药和除草剂 ◆萃取食品基质中的胡萝卜素、脂溶性维生素、黄曲霉毒素 ◆萃取脂肪酸和磷脂柱床重量 (mg) 柱容量 (mL) 部件号 数量50160108-409100支/包 100160108-317100支/包 200360108-41050支/包 500360108-31550支/包 500660108-41130支/包 5001060108-79350支/包 1000660108-42630支/包 20001560108-71020支/包 50002560108-71120支/包 100002560108-85310支/包 100007560108-71210支/包 5000015060108-85010支/包 200007560108-85110支/包 7000015060108-85210支/包

forte BPX1 – 100%二甲基聚硅氧烷◇非极性固定相适用于高温模拟蒸馏(ASTM 方法)，应用在石油工业中；◇ 操作温度：铝涂层： 0.1μm膜厚 30°C – 430°C聚亚酰胺涂层： 0.1 – 0.9μm 膜厚 30°C – 400°C2.65μm膜厚 30°C – 370°C◇ 等同产品：DB-HT Sim Dis、DB-2887、RTX2887、HP-1、Petrocol 2887 和Petrocol EX2887；◇完整的毛细管柱典型应用，请参照附录A 第140 页。BPX1 – 100%二甲基聚硅氧烷订货信息：涂层内径 (mm)膜厚 (μm)5m6m10m聚亚酰胺涂层柱0.10.1—√0547770.530.1—√0548030.9—√0548012.65—0548025054802铝涂层柱0.530.10548000547790.17054782—√√=这些规格我们同样提供，需要更详细信息请与我们联系。

固相微萃取萃取头 聚二甲基硅氧烷/聚二乙烯基苯(PDMS/DVB), 手动, 65 μm, 1 cm, 黄色, 全合金, 用于挥发物, 胺类化合物, 硝基芳香族化合物(MW 50-300), 3支/盒

固相微萃取萃取头 聚二甲基硅氧烷/聚二乙烯基苯(PDMS/DVB), 自动, 65 μm, 1 cm, 黄色, 全合金, 用于挥发物, 胺类化合物, 硝基芳香族化合物(MW 50-300), 3支/盒

HP-35-二苯基-65%-二甲基硅氧烷共聚物说明：HP-35柱是用苯基取代甲基的聚硅氧烷固定相柱。EPA（美国环保暑）方法8081和UPS（美国药典）G-42中已经指定用此固定相。HP-35的中极性使其成为分析杀虫剂、除草剂、药物和胺的良好选择。 相似的固定相：DB-35,Rtx-35,SPB-35,AT-35,Sup-herb 等温/程序升温温度范围：-40至300/320℃ 　40至280/300℃ 应用：芳氯物(Aroclors)、胺类、杀虫剂、药品 HP-35 15m, 0.25mm, 0.25um HP-35 30m, 0.32mm, 0.15um HP-35 30m, 0.25mm, 0.25um HP-35 30m, 0.32mm, 0.25um HP-35, 60 meter, 0.25mm, 0.25um HP-35 30m, 0.32mm, 0.5um 甲基硅氧烷共聚物

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为7％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为3％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为8％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为5％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为4％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为9％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为2％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为7％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为4％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。

单晶硅标样,用于扫描电镜与光镜放大倍数和图像变形检查。5mm x 5mm，方格间距10μm，线宽1.9μm，通过电子束印刷技术形成。每隔500μm有一稍宽的标记线，用于光学显微镜检测。方格由蚀刻形成，深200nm。可根据扫描电镜型号选择不同样品座。单晶硅标样,随标样提供校准证书，但需支付额外费用。保证的准确度为6％。标样由英国NPL实验室（National Physical Laboratory）用激光干涉测量法测定。