化学沉积

CARBON FILL,MGIS碳沉积（多支气体注入系统专用）用于原厂电子显微镜多支气体注入系统，碳沉积（多支气体注入系统专用）是一种存放碳化合物的容器，将药品加热到一定温度，药品气化，在真空压差和可控阀门的作用下，将药品气体喷洒在样品表面，同时在离子束的诱导作用下将碳分子沉积在样品表面。以实现对样品表面形貌的保护，或对样品进行导电处理。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场，此外，还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务，以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源（电子显微镜灯丝）、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

IPEXTM 840/860 PLD系列 脉冲激光沉积用准分子激光器Excimer Lasers for Pulsed Laser Deposition基于轻工机械最畅销的Ipex系列工业级准分子激光器，为PLD应用优化了激光器优秀的光束匀称性，脉冲到脉冲能量稳定和短脉冲持续时间在所有重复率能量恒定最长气体寿命和最低运行成本的ICONTM（在镍集成陶瓷）技术EasyClean自动光学密封，以保持填充气体，减少维护时停机时间高亮度镜头，适用于要求低光束发散或延长相干长度定制光束传输系统IPEX-840/860系列准分子激光器在脉冲激光沉积（PLD）领域展现了优异的性能、耐用性、可靠性和满足研究人员和系统集成商要求的易于集成性能。稳定性能得到可靠PLD结果：能量恒定IPEX-840/860系列激光器的指定脉冲能量从单脉冲到最大重复频率都是恒定的。这与其他有竞争力的激光器智能在地重复频率能量恒定和能量岁脉冲重复率上升而快速下降形成鲜明对比。LightMachinery的方法使PLD的工艺参数与激光重复率是一个恒量。恒定脉冲稳定性在PLD应用中，脉冲能量受一个先进的能量监视器监控，能够准确的调节放电电压和混合气体，在任何操作条件，包括PLD需要的突发脉冲，恒定输出能量。指向性恒定不变高稳定性使镜片座能够有200m-radian指向稳定性和光学维护后不需要调制光束角度光束质量稳定性IPEX-840/860系列激光器的光束强度分布被设计为边缘陡峭，顶部平坦，特别是激光管寿命的微小变化。PLD光束传输系统我们可以针对任何特定的PLD要求提供完整的激光传输系统规格 设备电源： 单相，200-240V，20A，50/60Hz冷却水：5 litres/minute，5-20℃，40-60psig激光气体：预混合气，具体请联系我们

《HJ1315-2023土壤和沉积物19种金属元素总量的测定 电感耦合等离子体质谱法》将于2024年6月1日正式实施。新标准中，使用微波消解法或电热消解法对样品进行消解，然后使用ICP-MS一次完成19种金属元素的同时测定，解决了土壤和沉积物中元素分析标准多、前处理方法复杂等问题。微波消解法称取0.1±0.0001g土壤样品于微波消解管中，沿内壁滴加少量试验用水润湿样品，依次加入9mL硝酸和3mL盐酸，加盖拧紧，将消解管放入微波消解仪中。参照下表升温程序进行微波消解。消解结束后冷却至室温。从微波消解仪中取出消解管，打开消解管盖子，在消解管中加入2mL氢氟酸，将消解管置于专用赶酸器上，140℃加热至内容物呈不流动的粘稠状态。取下稍冷，加入1mL高氯酸，180℃继续加热至白烟几乎冒尽，内容物呈粘稠状态。取下消解管冷却至室温，用2%硝酸溶液反复多次洗涤管内壁，洗涤液一并转入容量瓶中，用2%硝酸溶液定容至标线，混匀，待测。电热消解前处理称取0.1±0.0001g土壤样品于消解管中，依次加入10mL硝酸，5mL氢氟酸，2mL盐酸，1mL高氯酸，在石墨消解仪上加内盖，150℃加热3小时（可根据实际消解情况加长时间），升温至180℃，打开内盖进行赶酸，如有明显黑色不溶物时，需补加硝酸，继续180℃消解赶酸，待消解液呈粘稠不流动状态时，取下消解管冷却至室温，用2%硝酸溶液洗涤管壁，洗涤液一并转入容量瓶中，用2%硝酸溶液定容至标线，混匀，待测。

满足GB 17378.5-2007 海洋监测规范第5部分沉积物分析

用途：用于对河底淤泥或者沉积物进行分层采样，标准采样深度为3米，最短采样长度约为30厘米，可以分3层，用户可以额外选配分层采样器附管，来增加采样长度。特点：采集淤泥样品，可连续采样连接杆标配三米，其他长度可订制。取样管标配0.9米，其他长度可订制。包含采集淤泥所需全套部件滑动锤取样时更轻松。含便携箱，携带方便。 技术规格：序号名称描述数量1取样管直径5.2CM、SUS304不锈钢材质、螺纹连接3件2滑动锤重量8 lb、优质碳素钢材质、螺纹连接1件3重型十字手柄优质碳素钢材质、配有橡塑手柄、十字头可拆卸（可连接滑动锤，也可直接用吸能锤敲击）1件4采样器头I带阀门，SUS304不锈钢材质、螺纹连接1件5采样器头IISUS304不锈钢材质、螺纹连接1件6连接杆长1米、每10CM处有刻度、SUS304不锈钢材质、螺纹连接3件7.取样衬筒直径4.4CM、PC透明管，长度：12”2支、24”1支、36”1支4件8衬筒管盖尼龙材质8件9手套防滑、防水、棉布内衬1副10活动扳手12英寸、带防滑手柄2件11清洁刷尼龙1件12卷尺5米1件13皮带扳手长22.5CM1件14豪华便携箱内带防震海绵、ABS材质1件产地：中国

上海屹持光电技术有限公司专业提供各种镀膜服务：典型实例 1，磁控溅射合金膜2，ICPPECVD 制备高厚低应力氧化硅薄膜3，沉积细胞定位电极4，磁控溅射的 制备的 Au/TiO2 连续 主要设备：1，磁控溅射镀膜系统2，磁控溅射镀膜机3，磁控溅射真空镀膜机4，电子束蒸发镀膜仪5，高密度等离子体增强化学气相沉积设备

化学电离(CI)源因为CI 源的操作压力远比EI 源高，故与EI 相比，需要更经常地清洗。只要出现与离子源污染相关的性能异常就应该清洗离子源。将分析性能作为您的指示。当清洗CI 源时，要特别注意CI 推斥极、离子源体和拉出极板。确保清洗离子源体和拉出极板上的0.5 mm 直径的孔。清洗该离子源的方法非常类似于清洗EI 离子源的方法。采用EI 的清洗操作步骤，以下内容除外：. CI 离子源可能看起来不脏，但是，化学电离留下的沉积物非常难以除去。彻底清洗CI 离子源. 使用圆形木质牙签轻轻擦拭离子源体上的电子入口孔和拉出极板上的离子出口孔. 不能使用卤代溶剂。最后一步清洗要使用己烷 5977/5975/5973/7000 MSD 化学电离源部件(CI)项目 说明 部件号1 透境组配套螺丝 G1999-200222 螺帽，镀金 G1999-200213 接口端密封件/弹簧 G1999-604124 推斥极绝缘体 G1999-204335 透镜绝缘体 G3170-205406 拉出极柱体 G1999-204447 拉出极板 G1999-204468 5977 CI 350 推斥极组件 G3170-604169 入口透镜组件 G3170-2012610 离子源体 G1999-2043011 离子聚焦透镜 G1999-2044312 推斥极 G1999-2043213 灯丝组件（CI），2/包 G7005-6007214 垫圈，SPR CRVD，内径1.6 至1.8 mm，外径4 mm，不锈钢 3050-1375

参数：厚度= 1毫米石英衬底上“单层石墨烯”的石英基片表面上没有化学气相沉积石墨烯Parameter:Thickness = 1 mmThe same quartz substrate used for "Single Layer Graphene on Quartz Substrate".No CVD Graphene on the surface.

参数：制备方法：气相沉积法化学气相沉积石墨烯层：1/2/3~5/6~8尺寸：可定制以单层石墨烯为主的铜基石墨烯表面电阻：＜600Ω/sq定制：＜300Ω/sq透明度： 95%Parameter:Preparation Method：CVD MethodCVD Graphene Layers：1/2/3~5/6~8Size：customPredominantly Single-layer Graphene on Copper SubstrateSheet Resistance: 600Ω/sqCustom Order: 300Ω/sqTransparency: 95%

化学电离(CI)源因为CI 源的操作压力远比EI 源高，故与EI 相比，需要更经常地清洗。只要出现与离子源污染相关的性能异常就应该清洗离子源。将分析性能作为您的指示。当清洗CI 源时，要特别注意CI 推斥极、离子源体和拉出极板。确保清洗离子源体和拉出极板上的0.5 mm 直径的孔。清洗该离子源的方法非常类似于清洗EI 离子源的方法。采用EI 的清洗操作步骤，以下内容除外：. CI 离子源可能看起来不脏，但是，化学电离留下的沉积物非常难以除去。彻底清洗CI 离子源. 使用圆形木质牙签轻轻擦拭离子源体上的电子入口孔和拉出极板上的离子出口孔. 不能使用卤代溶剂。最后一步清洗要使用己烷 5977/5975/5973/7000 MSD 化学电离源部件(CI)项目 说明 部件号1 透境组配套螺丝 G1999-200222 螺帽，镀金 G1999-200213 接口端密封件/弹簧 G1999-604124 推斥极绝缘体 G1999-204335 透镜绝缘体 G3170-205406 拉出极柱体 G1999-204447 拉出极板 G1999-204468 5977 CI 350 推斥极组件 G3170-604169 入口透镜组件 G3170-2012610 离子源体 G1999-2043011 离子聚焦透镜 G1999-2044312 推斥极 G1999-2043213 灯丝组件（CI），2/包 G7005-6007214 垫圈，SPR CRVD，内径1.6 至1.8 mm，外径4 mm，不锈钢 3050-1375

参数：表面电阻：小于600Ω/sq定做：＜300Ω/sq透明度： 95%制备方法：1）采用化学气相沉积方法制备铜基石墨烯2）石墨烯从铜转移到硅衬底Parameter:Sheet Resistance: 600Ω/sqCustom Order: 300Ω/sqTransparency: 95%Preparation Method:1) Copper based graphene is prepared by CVD method.2) Graphene is transferred from copper to silicon substrate.

化学电离(CI) 源因为CI 源的操作压力远比EI 源高，故与EI 相比，需要更经常地清洗。只要出现与离子源污染相关的性能异常就应该清洗离子源。将分析性能作为您的指示。当清洗CI 源时，要特别注意CI 推斥极、离子源体和拉出极板。确保清洗离子源体和拉出极板上的0.5 mm 直径的孔。清洗该离子源的方法非常类似于清洗EI 离子源的方法。采用EI 的清洗操作步骤，以下内容除外：◇ CI 离子源可能看起来不脏，但是，化学电离留下的沉积物非常难以除去。彻底清洗CI 离子源◇使用圆形木质牙签轻轻擦拭离子源体上的电子入口孔和拉出极板上的离子出口孔◇不能使用卤代溶剂。最后一步清洗要使用己烷5977/5975/5973/7000 MSD 化学电离源部件(CI)项目说明部件号1透境组配套螺丝G1999-200222螺帽，镀金G1999-200213接口端密封件/弹簧G1999-604124推斥极绝缘体G1999-204335透镜绝缘体G3170-205406拉出极柱体G1999-204447拉出极板G1999-2044685977 CI 350 推斥极组件G3170-604169入口透镜组件G3170-2012610离子源体G1999-2043011离子聚焦透镜G1999-2044312推斥极G1999-2043213灯丝组件（CI），2/包G7005-6007214垫圈，SPR CRVD，内径 1.6 至 1.8 mm，外径 4 mm，不锈钢3050-1375

产品特点： 因为 CI 源的操作压力远比EI 源高，故与EI 相比，需要更经常地清洗。无论何时发现有与离子源污染相关的性能不正常，就应该清洗。让分析性能作为您清洗的指示。当清洗 CI 源时，要特别注意CI 推斥极，离子源体和拉出极板。确保清洗离子源体和拉出极板上的0.5 mm 直径的孔。清洗 CI 离子源与清洗EI 源很相似。使用与清洗EI 源相同的清洗步骤，下面的步骤除外: &bull CI 源看起来可能不脏，但是，化学电离的沉积物很难除去。彻底清洁CI 离子源 &bull 使用圆型牙签轻轻擦拭离子源体上的电子入口孔和拉出极板上的离子出口孔 &bull 不要使用卤代试剂。最后用己烷清洗 订货信息： 5975/5973 MSD 化学电离源部件(CI) 项目 说明 　 部件号 1 离子源体 　 G1999-20430 2 拉出极板 　 G1999-20446 3 拉出极柱体 　 G1999-20444 4 透镜绝缘体 　 G3170-20540 5 离子聚焦透镜 　 G1999-20443 6 入口透镜 　 G3170-20126 7 推斥极绝缘体 　 G1999-20433 8 推斥极 　 G1999-20432 9 耐高温灯丝 　 G1099-80053 10 螺帽，镀金 　 G1099-20021 11 接口端密封件/弹簧 　 G3170-60412

土壤标准物质 Soil Standard产品名称货号参照货号含量土壤1#CN06061E11035-AN% 0.228 C% 3.429土壤2#CN06062E11036-AN% 0.064 C% 0.732土壤3#CN06063E11037-AN% 0.262 C% 4.401土壤4#CN06064E11038-AN% 0.048 C% 2.417土壤5#CN06065E11039-AN% 0.021 C% 0.141提供进口产品

土壤标准物质 Soil Standard产品名称货号参照货号含量土壤1#CN06061E11035-AN% 0.228 C% 3.429土壤2#CN06062E11036-AN% 0.064 C% 0.732土壤3#CN06063E11037-AN% 0.262 C% 4.401土壤4#CN06064E11038-AN% 0.048 C% 2.417土壤5#CN06065E11039-AN% 0.021 C% 0.141提供进口产品

GC/MS 仪器备件部件号 :G7005-60072灯丝，化学电离 (CI)，用于 Agilent 7200、7000C、7000A/B、5977、5975/73 MSD，2/包化学电离(CI) 源因为 CI 源的操作压力远比 EI 源高，故与 EI 相比，需要更经常地清洗。 只要出现与离子源污染相关的性能异常就应该清洗离子源。将分析性能作为您的指示。当清洗 CI 源时，要特别注意 CI 推斥极、离子源体和拉出极板。确保清洗离子源体和拉出极板上的 0.5 mm 直径的孔。清洗该离子源的方法非常类似于清洗 EI 离子源的方法。采用EI 的清洗操作步骤，以下内容除外：• CI 离子源可能看起来不脏，但是，化学电离留下的沉积物非常难以除去。彻底清洗 CI 离子源 • 使用圆形木质牙签轻轻擦拭离子源体上的电子入口孔和拉出极板上的离子出口孔 • 不能使用卤代溶剂。最后一步清洗要使用己烷5977/5975/5973/7000 MSD 化学电离源部件 (CI)项目说明部件号1透境组配套螺丝G1999-200222螺帽，镀金G1999-200213接口端密封件/弹簧G1999-604124推斥极绝缘体G1999-204335透镜绝缘体G3170-205406拉出极柱体G1999-204447拉出极板G1999-2044685977 CI 350 推斥极组件G3170-604169入口透镜组件G3170-2012610离子源体G1999-2043011离子聚焦透镜G1999-2044312推斥极G1999-2043213灯丝组件（CI），2/包G7005-6007214垫圈，SPR CRVD，内径 1.6 至 1.8 mm，外径 4 mm，不锈钢3050-1375

AN3001型防尘口罩1. 产品简介 粉尘是人体健康的大敌。粉尘越细，停留在空气中的时间也就越长，越容易被人体吸入体内，特别是小于5微米的呼吸性粉尘，进入呼吸道后，可直接进入肺泡并沉积，长时间累积会导致肺病或其他尘肺病，终身危害人体健康。AN3001型防毒口罩是根据粉尘的危害特点进行防护，对微细粉尘也同样有效，并在罩体的气密性和呼吸阻力方面进行了改进，使佩戴更加舒适。 2. 主要特点 双过滤结构，螺旋式固定，使更换滤材更方便，费用更经济l 四点式固定方法，在激烈活动的作业环境中也能保持稳定的佩戴感l l滤材选用：AN3002滤纸，10片/包

尺寸：5*10cm厚度：1.6mm铜基六方氮化硼薄膜采用化学气相沉积法（CVD），在高纯铜箔上沉积单层和多层h-BN薄膜。

PulseMasterR860/880系列高能准分子激光器应用于工艺开发、科学研究和轻工业，具有高脉冲能量和优秀的光束质量的先进的准分子激光器 脉冲能量在248nm高达650mJ，在308nm可达600mJ EasyClean自动光学密封，以保持填充气体，减少维护时停机时间 TMCTM（全金属陶瓷）设计延长气体寿命 优秀的光束质量和稳定性 可选的高亮度镜头，适用于要求低光束发散或延长相干长度 PulseMaster PM-860/880系列准分子激光器是专为高脉冲能量设计的。应用包括脉冲激光沉积（PLD），化学气相沉积 （CVD），如陶瓷、氮化物和图案的金属薄膜层等硬质材料的微加工。TMCTM（全金属陶瓷）设计确保气体寿命延长和低运行成本。强大的微处理器控制允许对激光运行参数的精确控制，即使在突发模式下输出功率依然稳定，并简化日常保养程序。易清洗自动阀门安装在光学端口，当因为清洗和维护而移动谐振腔时，允许激光腔被密封和保留填充钝化气体。 规格设备电源： 型号 PM-868，PM-866，PM-888，PM-886：3相4线，208V30A或300V20A，50/60Hz型号 PM-864，PM-862，PM-884，PM-882：单相，200-240V，50/60Hz，15A冷却水： 5℃-20℃，40-6-psig8X8,8X6 型：10 liters/minute8X4,8X2 型： 5 liters/minute激光气体：Kr或Xe惰性气体，F2或HCL卤素气体，Ne和He保护气；或预混合气体，压缩空气或氮气

AN3002型防尘口罩 1. 产品简介 粉尘是人体健康的大敌。粉尘越细，停留在空气中的时间也就越长，越容易被人体吸入体内，特别是小于5微米的呼吸性粉尘，进入呼吸道后，可直接进入肺泡并沉积，长时间累积会导致肺病或其他尘肺病，终身危害人体健康。AN3002型防毒口罩是根据粉尘的危害特点进行防护，对微细粉尘也同样有效，并在罩体的气密性和呼吸阻力方面进行了改进，使佩戴更加舒适。 2. 主要特点 最新设计的梯形结构，增加了有效过滤面积，使呼吸更为畅通，从根本上解决了使用高效滤材带来的呼吸阻力增加的不利影响l l自锁式结构固定滤材，更换更加方便

【概述】硝基呋喃类药物因有非常好的抗菌作用和药动力学的特性， 曾被广泛应用，作为禽类、水产和猪促生长的添加剂。但在长时 间的实验研究过程中发现，硝基呋喃类药物和代谢物均可以使实 验动物发生癌变和基因突变，正因为如此才导致此类药物禁止在 治疗和饲料中使用。呋喃唑酮在 1995 年被禁用。 由于硝基呋喃类药物在体内很快就能被代谢，而在组织中结 合的代谢产物则能存留较长的一段时间，所以在分析此类药物的 残留时经常要分析其代谢后的产物，管理部门就以检测代谢产物 为手段达到检测硝基呋喃类残留的目的。呋喃唑酮代谢产物 AOZ； 呋喃它酮代谢产物 AMOZ；呋喃妥因代谢产物 AHD；硝基糠腙 （呋喃西林）代谢产物 SEM。【检测原理】 试剂盒采用竞争法进行检测，温育结束后，加磁场沉淀，去 掉上清液，用清洗液清洗沉淀复合物，并吸干废液，除去未与磁 性微粒结合的物质，再将反应杯送入测量室中。仪器自动泵入两 种激发液，使复合物产生化学发光信号，通过光电倍增器测量发 光强度。仪器自动通过工作曲线计算得出检测结果。 【适用范围】 可定性、定量检测组织样品中呋喃唑酮代谢物的残留量。【适用范围】 可定性、定量检测组织样品中呋喃唑酮代谢物的残留量。【试剂盒性能参数】 检测限： 组织——0.1 ?g/kg【检测方法】 1.试剂盒为即用型，不能分开使用。 2.使用本试剂盒前请仔细阅读试剂说明书以及全自动化学发光 免疫分析仪的使用说明书，按照相关要求进行测定操作。试剂使 用时，测定仪会自动搅拌磁性微粒，使其处于悬浮状态，如果想 快速进行检测，上机前请手动摇匀磁性微粒。试剂的相关信息可 以自动读取，一次读取相关信息即存入测定仪器，不需反复读取。 3.定标：通过测定高、低值校准品，将预先定义的主曲线上的每 个定标点调整（重新定标）为一个新的、仪器特异的测量水平， 即工作曲线。 4.定标频率：每天进行一次定标，更换不同批号试剂或者激发液 需要重新定标。 【注意事项】 1.使用前请详细阅读说明书，并将试剂水平摇匀。 2.请按照储存方法保存试剂，避免冷冻，冷冻后的试剂质量会发 生变化，请勿使用。 3.避免试剂接触皮肤、眼睛和粘膜，一旦接触，应立即用清水冲 洗接触部位。4.不同试剂盒中各组分不能互换。 【储存条件及有效期】 1.试剂盒于 2~8℃避光未拆封状态下竖直保存，禁止冷冻。 2.有效期为 12 个月，在 2~8℃环境下保存时，稳定性可持续至所 标示的日期；开瓶后低温避光（2~8℃）可保存 1 个月。

用途：采用二冲程汽油机作为驱动装置，用在野外没有电源的情况下，可以很方便的对土壤中的根系进行取样。 特点： 二冲程汽油机，节省人力； 强化切割头，使用更加便捷，延长寿命； 可以更换切割头； 螺杆样品推出装置，使取样更容易，且不受扰动。 技术规格：采样头直径8cm采样头长度15cm探杆长度1m，可选2m排量49.3cc标定功率1.47/6500 KV/R/MIN化油器形式膜片式燃油比25:1（汽油机油比）油箱容量1.3L工作形式手提式包装简易包装（便携箱选配） 产地：中国

呋喃它酮代谢物（AMOZ）检测试剂 盒（化学发光免疫分析法）使用说明书【产品名称】 呋喃它酮代谢物检测试剂盒（化学发光免疫分析法） 【包装规格】 100T/盒 【概述】 硝基呋喃类药物因有非常好的抗菌作用和药动力学的特性， 曾被广泛应用，作为禽类、水产和猪促生长的添加剂。但在长时 间的实验研究过程中发现，硝基呋喃类药物和代谢物均可以使实 验动物发生癌变和基因突变，正因为如此才导致此类药物禁止在 治疗和饲料中使用。 由于硝基呋喃类药物在体内很快就能被代谢，而在组织中结 合的代谢产物则能存留较长的一段时间，所以在分析此类药物的 残留时经常要分析其代谢后的产物，管理部门就以检测代谢产物 为手段达到检测硝基呋喃类残留的目的。呋喃唑酮代谢产物 AOZ； 呋喃它酮代谢产物 AMOZ；呋喃妥因代谢产物 AHD；硝基糠腙 （呋喃西林）代谢产物 SEM。 【检测原理】 试剂盒采用竞争法进行检测，温育结束后，加磁场沉淀，去 掉上清液，用清洗液清洗沉淀复合物，并吸干废液，除去未与磁 性微粒结合的物质，再将反应杯送入测量室中。仪器自动泵入两 种激发液，使复合物产生化学发光信号，通过光电倍增器测量发 光强度。仪器自动通过工作曲线计算得出检测结果。 【适用范围】 可定性、定量检测组织样品中呋喃它酮代谢物的残留量。 【检测方法】 1.试剂盒为即用型，不能分开使用。 2.使用本试剂盒前请仔细阅读试剂说明书以及全自动化学发光 免疫分析仪的使用说明书，按照相关要求进行测定操作。试剂使 用时，测定仪会自动搅拌磁性微粒，使其处于悬浮状态，如果想 快速进行检测，上机前请手动摇匀磁性微粒。试剂的相关信息可 以自动读取，一次读取相关信息即存入测定仪器，不需反复读取。 3.定标：通过测定高、低值校准品，将预先定义的主曲线上的每 个定标点调整（重新定标）为一个新的、仪器特异的测量水平， 即工作曲线。 4.定标频率：每天进行一次定标，更换不同批号试剂或者激发液 需要重新定标。 【注意事项】 1.使用前请详细阅读说明书，并将试剂水平摇匀。 2.请按照储存方法保存试剂，避免冷冻，冷冻后的试剂质量会发 生变化，请勿使用。 3.避免试剂接触皮肤、眼睛和粘膜，一旦接触，应立即用清水冲 洗接触部位。 4.不同试剂盒中各组分不能互换。 【储存条件及有效期】 1.试剂盒于 2~8℃避光未拆封状态下竖直保存，禁止冷冻。 2.有效期为 12 个月，在 2~8℃环境下保存时，稳定性可持续至所 标示的日期；开瓶后低温避光（2~8℃）可保存 1 个月。

尺寸：10*10cm厚度：1.6mm铜基六方氮化硼薄膜采用化学气相沉积法（CVD），在高纯铜箔上沉积单层和多层h-BN薄膜。

氯霉素（CAP）检测试剂盒（化学发光免疫分析法）使用说明书【产品名称】氯霉素检测试剂盒（化学发光免疫分析法）【包装规格】100T/盒【概述】氯霉素（chloramphenicol, CAP）是应用广泛的抗菌素，曾对畜禽疾病控制和治疗起到了重要作用。但由于氯霉素存在严重的副作用，能引起人的再生障碍性贫血，粒细胞缺乏症等疾病，欧美等发达国家已相继禁止或严格禁止使用。【检测原理】试剂盒采用竞争法进行检测，温育结束后，加磁场沉淀，去掉上清液，用清洗液清洗沉淀复合物，并吸干废液，除去未与磁性微粒结合的物质，再将反应杯送入测量室中。仪器自动泵入两种激发液，使复合物产生化学发光信号，通过光电倍增器测量发光强度。仪器自动通过工作曲线计算得出检测结果。【适用范围】可定性、定量检测组织样本中氯霉素的残留量。【试剂盒性能参数】 检测限： 组织——0.1mg/kg 样本稀释倍数： 组织——0.5倍精密度： 小于6%交叉反应率： 氯霉素… … … … … 100%棕榈氯霉素… … … 小于1%甲砜霉素… … … … 小于1%氟甲砜霉素… … … 小于1%氟苯尼考胺… … … 小于1% 【主要组成】1.试剂组成及成分试剂成分规格1 磁性微粒2.5mL2吖啶酯标记物6.25mL3 生物素标记物6.25mL2. 校准品校准品规格校准品12 mL/瓶×1 校准品22 mL/瓶×1【适用仪器】北京勤邦生物技术有限公司HMC-D3全自动化学发光免疫分析仪【自备的设备】1.旋转蒸发仪/氮气吹干装置 2.均质器 3.涡旋仪 4.天平：感量0.01g 5.离心机 6.聚苯乙烯离心管：50mL 7.洗耳球8.玻璃试管：10mL 9.刻度移液管：10mL10.微量移液器：单道20mL～200mL、100mL～1000mL【自备试剂】去离子水乙腈（分析纯）乙酸乙酯（分析纯）正己烷（分析纯）【样本前处理步骤】参照《氯霉素、氟苯尼考和甲砜霉素二合一组织附说明》样本处理方法。【检测方法】1.试剂盒为即用型，不能分开使用。2.使用本试剂盒前请仔细阅读试剂说明书以及全自动化学发光免疫分析仪的使用说明书，按照相关要求进行测定操作。试剂使用时，测定仪会自动搅拌磁性微粒，使其处于悬浮状态，如果想快速进行检测，上机前请手动摇匀磁性微粒。试剂的相关信息可以自动读取，一次读取相关信息即存入测定仪器，不需反复读取。3.定标：通过测定高、低值校准品，将预先定义的主曲线上的每个定标点调整（重新定标）为一个新的、仪器特异的测量水平，即工作曲线。4.定标频率：每天进行一次定标，更换不同批号试剂或者激发液需要重新定标。【注意事项】1.使用前请详细阅读说明书，并将试剂水平摇匀。2.请按照储存方法保存试剂，避免冷冻，冷冻后的试剂质量会发生变化，请勿使用。3.避免试剂接触皮肤、眼睛和粘膜，一旦接触，应立即用清水冲洗接触部位。4.不同试剂盒中各组分不能互换。【储存条件及有效期】1.试剂盒于2~8℃避光未拆封状态下竖直保存，禁止冷冻。2.有效期为12个月，在2~8℃环境下保存时，稳定性可持续至所标示的日期；开瓶后低温避光（2~8℃）可保存1个月。

微图案化Micropatterning光刻是我们专业为科研客户加工制作微结构和微流控芯片而提供的一种订制化加工服务。 我们根据微图案微结构使用相应的加工技术，如无掩模光刻（几个不同的光刻胶上的结构），在玻璃基板蚀刻并金属涂层沉积（铬蚀刻），湿法刻蚀等。 无掩模光刻 基板表面准备之后，旋涂光致抗蚀剂，得到一层均匀厚度。镀膜光致抗蚀剂晶片，然后进行“预烘烤”（软烘焙）除去过量的溶剂，准备将光致抗蚀剂暴露于激光束。光致抗蚀剂暴露于激光束下得到图案轨迹（无掩模光刻系统）。 最后一步是暴露的光致抗蚀剂的开发。第二加热步骤（硬烘焙）是为了将图案稳定在基板表面。 例子：微接触打印PDMS模具。 请联系我们告知您的图案尺寸（光阻层高度和通道宽度）。 玻璃湿法刻蚀 以下的光刻工艺，液体（“湿”）化学剂可用于去除不受光致抗蚀剂保护区域的玻璃基板上的最上层：这是在湿蚀刻工艺。 例子：微流控芯片的微通道制造 请联系我们告知您的结构大小（微通道的宽度和深度）。 金属层湿法刻蚀 铬层（举例）可使用气相沉积技术来沉积。微观结构可以通过在金属层湿蚀刻产生。支持深化学腐蚀。 例子：光模式和目标的生产。 请联系我们告知金属类型，沉积层厚度和微通道的宽度。 编号 名称 LC-22x22 玻璃基板光刻.定制微型图案 WEC-22x22 玻璃湿法蚀刻。根据您的图样定制微观结构 CEC-22x22 铬蚀刻。玻璃基板。微观结构是根据您的图样

deconex 12 BASIC是一种通用实验室玻璃器皿弱碱性浓缩液体清洗剂。此产品适用于各行业实验室玻璃器皿的清洗，可以替代铬酸。基于独特复合配方，不但能够去除污染物并且能够有效防止污染物再次沉积于器皿表面。高浓缩的产品经过低浓度稀释，可以处理更多器皿，去除更多污染物。独特缓冲体系提供很高的pH值稳定性，使得稀释溶液可反复使用至少两周。 实验室玻璃器皿清洗剂 适合于浸泡清洗和超声波清洗机中使用 清洗程序 稀释浓度 水 温 作用时间 正常 1-2% 20-30℃ 1-2 小时 加强⑴ 2-5% 20-30℃ 6-12小时 快速⑴⑵ 2-3% 50-70℃ 5-15 分钟 备注： （1）包括放射性物质的清洗。 （2）超声波清洗机可以缩短清洗时间，但是精密玻璃器皿需要谨慎使用超声波清洗。 材料兼容性： 适合于： 硼硅酸盐玻璃、Duran、石英玻璃、陶瓷、不锈钢、聚 乙烯、聚丙烯、聚四氟乙烯（特氟龙）、橡胶等。 对于未提及的材料，请事先做材料兼容测试或者咨询 Borer Chemie AG。 物理/化学数据： 包装： 所有包装的桶、盖子和标签均为可回收的聚乙烯材料。 不适合于： 铝、锌、锡 物理/化学数据： pH 值1%去离子水溶液中约 11.8 密度浓缩原液 1.41g/ml 外观浓缩原液 透明，淡黄色液体

材料简介：三维石墨烯网络是在泡沫金属基底上通过化学气相沉积高温生长石墨烯薄膜层，借助泡沫基底的三维多孔骨架，生长成石墨烯的三维网络。三维石墨烯具有体表面积大，导电性佳，质量轻等特点。 应用领域：1）适用于超级电容、锂离子电池、铝电池、纳电池等电化学能源存储器件。2）适用于化学传感器、气体传感器领域。尺寸：5*10cm

化学捕集阱◇ 用于Agilent GCs◇易于安装。◇使用与原制造商设备一致的接头。◇ 内嵌式筛板，可吸附颗粒和水蒸气、烃类。化学捕集阱名称类似于 Agilent部件数量货号分流口捕集阱，用于Agilent 6890/6850 GCsG1544-80550一个22820化学捕集阱用于Agilent 5890 GCs05890-61260一个21610分流口捕集阱管理(32英寸)，用于Agilent GCs，包括: 所有的安装硬件19251-805252件22800O型圈 用于Agilent捕集阱接头5180-418125件22064分流捕集阱配件用于Agilent 6890/6850 GCsG1544-60610一套23031捕集阱(2)和O型圈 (4)G1544-80530套23032

参数：表面电阻：小于600Ω/sq定做：＜300Ω/sq透明度： 95%制备方法：1）采用化学气相沉积方法制备铜基石墨烯2）石墨烯从铜转移到硅衬底Parameter:Sheet Resistance: 600Ω/sqCustom Order: 300Ω/sqTransparency: 95%Preparation Method:1) Copper based graphene is prepared by CVD method.2) Graphene is transferred from copper to silicon substrate.