化学沉铜

近年来，对电化学过程的理解如电沉积（也称电镀）在各种科学技术中的作用变得非常凸显，包括括微电子、纳米生物系统、太阳能电池、化学等其他广泛应用。〔1，2〕电沉积是一种传统方法，利用电流通过一种称为电解质的溶液来改变表面特性，无论是化学的还是物理的，使得材料可适合于某些应用。基于电解原理，它是将直流电流施加到电解质溶液中，用来减少所需材料的阳离子，并将颗粒沉积到材料的导电衬底表面上的过程[3 ]。此项技术会普遍增强导电性，提高耐腐蚀性和耐热性，使产品更美观。良好的沉积主要取决于衬底表面形貌〔4〕。因此，一项可以在纳米等级上测量，表征和监测电沉积过程的技术是非常必要的。有几种方法被应用到了这种表面表征。例如像扫描电子显微镜（SEM）和扫描隧道显微镜（STM）。这些技术可以进行纳米级结构的测量，但是，其中一些为非实时下的，一些通常需要高真空，而另一些则由于其耗时的图像采集而不适用于监测不断变化的过程。[2，5] 为了克服这些缺点，电化学结合原子力显微镜（通常称为EC-AFM）被引入进来。 这种技术允许用户进行实时成像和样品表面形貌变化的观测，并可以在纳米级的特定的电化学环境下实现。[ 6 ]在此次研究中，成功地验证了铜颗粒在金表面的沉积和溶解。利用Park NX10 AFM在反应过程中观察铜颗粒的形态变化，并在实验过程中使用恒电位仪同时获得电流-电压（CV）曲线。

AFM型号：Easyscan 2 FlexAFM LS测量模式：Dynamic轻敲式悬臂探针： NCLR附件仪器：CH Instruments电化学分析仪制作好的铜片样品（工作电极）用鳄鱼夹夹好，鳄鱼夹应远离溶液避免可能的腐蚀。样品与Ag/AgCl参比电极，对电极组成电化学体系。所有电极均浸泡在100mM NaCl水溶液中。图1为测试前铜片的形貌像，使用的是动态轻敲模式。开路电位（OCP）为-0.347V，做Tafel曲线和点蚀测量以确定点蚀电位。加一个0.6V阳极电位1分钟在体系上后，测量铜片的形貌像，如图2所示，可以看到铜片表面发生了一些变化。再过1分钟后，可以看到溶液中产生了一些气泡，图3为此时的铜片形貌像，可以看到在铜片表面有相当多的变化，由于铜的电化学腐蚀导致材料表面产生了一些物质，在铜样品周围有一些小颗粒。颗粒沉积的痕迹能在形貌像中看到。再过1分钟后，着这个阶段已经不可能看到形貌像，因为腐蚀物质形成的混浊液体的干扰遮挡住了激光光束。在这个阶段铜样品被取出彻底冲洗后，放入新的液体中，再一次进行AFM测量，形貌像显示出表面的凹点（如图4）。通过软件可得到凹点的平均深度和直径。用不锈钢做相同的试验，电位为+1V，甚至10分钟后形貌像仍没有发生改变（图5和6），抗腐蚀能力没有发生变化。

研究了稀土元素铈、镧、钇对化学镀钴-镍-硼合金沉积速度的影响。稀土元素的加入增大了合金层的沉积速度,其中,钇的作用最为明显。 只做学术交流，不做其他任何商业用途，版权归原作者所有！

在科技日新月异的今天，新材料的发展水平已经成为衡量一个国家高科技水平和综合国力强弱的重要标志，化学镀是在材料领域中发展起来的一类新兴技术，化学沉积钻基合金不需要电流，可在各种基体材料上沉积以及具有优异的磁学性能，但它存在镀液稳定性差、沉积速度和均镀能力不理想等问题。由于稀土元素在电镀、表面化学热处理中能有效提高镀液稳定性、沉积速度和渗速，可以改善材料的可焊性、硬度和耐磨性等功能特性作用，所以展开了稀土元素介入化学沉积钻基合金的尝试。稀土元素介入化学沉积钻基合金是一个具有良好发展前景的研究方向，为了加速其实际应用的步伐，对在试验过程中获得大量数据，以中文VisualFoxPro6.O为工具，开发出化学沉积数据库系统应用软件。该软件系统分别建立了镀覆工艺、显微硬度和磁学性能三个数据库。以此为基础，开发了六个应用模块，分别为文件管理模块、编辑处理模块、数据管理模块、图片管理模块、打印管理模块、退出系统模块。通过该软件，我们可以方便的管理所有的试验数据。根据试验数据，用数值分析的方法进行数据处理，拟合出试验数据的近似函数表达式。用正交表对基础配方进行分析，得到最佳配方，并进行相应方差分析 用样条函数和最小二乘法分析镀覆工艺试验数据，绘制出三次样条函数和三次近似多项式的图形，获得化学沉积速度最大时各因素浓度所在的区间。本文的研究是对试验数据处理的一种探讨，为稀土化学沉积数据库系统的建立探索出一条途径，为获得最佳的钻基合金镀层性能奠定了基础，具有较大的理论和现实意义。

以乙醛酸作还原剂，Na2EDTA2H20为络合剂，亚铁氰化钾和2,2′-联吡啶为添加剂组成化学镀铜液体系，应用线性扫描伏安法研究分析了络合剂、添加剂对该镀铜体系电化学性能的影响． 只做学术交流，不做其他任何商业用途，版权归原作者所有！

1 简介化学铜被广泛应用于有通孔的印制线路板的加工中，其主要目的在于通过一系列化学处理方法在非导电基材上沉积一层铜， 继而通过后续电镀方法加厚使之达到设计的特定厚度，有时甚至直接通过化学方法来沉积到整个铜厚度的，化学铜工艺是通 过一系列必须的步骤而最终完成化学铜的沉积。其中化学沉铜中含有氢氧化钠和甲醛，其中含量需要进行检测。

土壤和沉淀物铜、锌、铅、镍、铬的测定火焰原子吸收分光光度法, AA-1800C火焰原子吸收分光光度计（生产厂家：上海美析仪器有限公司）

为了得到性能优良的钴基软磁薄膜，利用等离子发射光谱仪、电子能谱仪、显微硬度计等考察和分析了引入稀土金属La时化学沉积Co—Ni—B的合金镀层成分、显微硬度和磁性能。 只做学术交流，不做其他任何商业用途！版权归原作者所有！

本文采用化学镀方法在环氧树脂基片上实现了优质铜沉积，成功的研制了沉积速率适中、稳定性优良的双络合剂化学镀铜工艺。通过对几种电镀铜有机添加剂的对比分析，开发出了能够替代国外进口染料的新型多组分有机添加剂，得到了电镀铜有机添加剂的较适宜配方。研究了化学镀铜的前处理工艺，获得了较好的除油、粗化、活化各工序的配方和操作条件。考察了硫酸铜浓度、有机添加剂浓度、甲醛浓度、络合剂浓度对极化曲线的影响。实验结果表明，硫酸铜浓度、甲醛浓度、络合剂浓度、有机添加剂浓度、酸度、温度对化学沉铜速率、镀液稳定性和镀层性能有较大影响。得到了化学镀铜的适宜工艺条件:CuSO，.5HZo:16叭，EDTA.ZNa:20叭，酒石酸钾钠:14叭，氢氧化钠:15g/L，甲醛(37%):15ml/L，BoZ:0.o12ml/L，pH值:12.5，温度:45oC，搅拌:60r/inin。对影响电镀铜效果的各种因素进行了实验分析，通过正交实验得出了有机添加剂的适宜配方。考察了国内染料，进口染料，自配有机添加剂浓度对阴极极化曲线的影响，发现自配有机添加剂可以增大阴极极化，与国外染料极化曲线相似。得到了电镀铜适宜工艺条件:cus认.5玩0:100目工，HZso4:200叭，有机添加剂:FO40.029/L、C010.02ml/L、M010.049/L、C030.03ml/L、CO40.01ml/L、noio.6ml凡、Tos0.12泌、Nael6om泌，I(习如2):5，温度:室温，搅拌方式:空气搅拌。采用双络合剂加稳定剂的方法可以提高镀液的稳定性而保持沉铜速率适中，实验结果表明，双络合剂化学镀铜镀层均匀、致密，镀层结合力强，可用于印制电路板(PCB)的通孔金属化过程。赫尔槽实验和TEM分析研究结果表明:酸性电镀铜溶液中加入自配有机添加剂，镀液深镀能力较好，铜镀层晶粒细致，光亮面积增加，接近于国外染料的效果。

采用电解法溶解多孔阳极氧化铝( PAA) 模板的阻挡层,用直流电沉积的方法在模板中组装了铜纳米线阵列。分别用扫描电镜和X 射线衍射表征铜纳米线阵列的形貌和晶体结构,用电化学法表征了铜纳米线阵列的电催化性能。结果表明,PAA 去阻挡层后,伏安图上出现一个阳极氧化峰。恒电位沉积的铜纳米线直径为22nm ,沿(111) 晶面择优取向。铜纳米线阵列电极能催化亚硝酸根的还原,其催化电流比本体铜电极上大2 倍,峰电位正移80mV 。纳米铜阵列电极可用于亚硝酸盐的电化学检测。

对乙酰氨基酚氧化物（PA ox）的电沉积，用于尼古丁（NIC）和乙基香兰素β-D-葡萄糖苷（EVG）的智能便携式比率检测。在丝网印刷碳电极（SPCE）上电沉积PA氧作为新的固定状态比率参考探针。将便携式电化学工作站与智能手机相结合，作为智能便携式电化学传感平台。

铜精矿中元素的测定方法有滴定法、ICP光谱法、ICP质谱法、原子吸收光谱法、X射线荧光光谱法等，前4种方需将铜精矿样品酸解成液体再进行分析，过程复杂；而X射线荧光光谱法具有制样过程简单、不需要使用危险化学试剂、测试速度快、多元素同时检测等优点，在测定铜精矿时具有非常大的优势。本解决方案采用熔片法-X射线荧光光谱法对铜精矿进行了成分分析。

目前微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统中的真空压力控制装置普遍采用美国MKS公司的控制阀和控制器。本文介绍了采用MKS公司产品在实际应用中存在控制精度差和价格昂贵的现象，介绍了为解决这些问题的国产化替代方案，介绍了最新研发的真空压力控制装置国产化替代产品，并验证了国产化替代产品具有更高的控制精度和价格优势。

原子层沉积（ALD）是一种可以将物质以单原子膜的形式，一层一层镀在基底表面的先进沉积技术。一个ALD循环包括两个先后进行的半反应。在一定的真空环境下，前驱体和共反应物交替地通入反应腔体，饱和吸附并在衬底表面发生化学反应形成单原子层。每个半反应间通入惰性气体进行清洗，确保完全除去过量的反应物和生成的小分子副产物。理论上，经过一个循环工艺，基底表面便镀上了一层单原子膜。通过增加循环次数，原子层将依次沉积在表面上，形成薄膜。

制备了多壁碳纳米管修饰玻碳电极(MWN T sö GC) , 并研究了杨梅酮在MWN T sö GC 上的电化学性质。方法:采用循环伏安法对杨梅酮的浓度进行测定。结果: 氧化还原峰电流与杨梅酮的浓度呈线性关系。结论: 多壁碳纳米管对杨梅酮有良好的催化活性,MWN T sö GC 对于测定杨梅酮呈现良好的响应特性和较高的测定灵敏度, 该传感器应用于杨梅酮的分析。

应用循环伏安和紫外光谱法研究杨梅酮氧化还原性质及其稳定性. 结果表明:在B2R缓冲溶液中玻碳电极上,杨梅酮的氧化还原表现为两步氧化反应和两步还原反应. 氧化反应对应于B环4′2 OH和C环32OH的氧化,还原反应对应于C环4位羰基还原为中间体自由基之后再进一步还原生成羟基. 以上各步反应均为单电子单质子电极过程. 杨梅酮的氧化还原反应与溶液pH关系密切,但其原因来自于去质子化作用,并导致它的抗氧化能力增强,但其最终氧化产物没有电化学活性,并吸附在电极表面,阻碍了电极过程电子传递. 在pH 7. 45～12. 00范围内,杨梅酮也因去质子化作用导致紫外光谱Ⅰ带和Ⅱ带随pH增加,而发生红移,分解作用加剧. 同时分解作用还与放置时间有关.

适用于土壤和沉积物中西玛津、莠去通、西草净、阿特拉津、仲丁通、扑灭通、莠灭净、扑灭津、特丁津、扑草净和去草净11种三嗪类农药的测定（该实验选用基质为土壤）。参考标准：《HJ 1052-2019土壤和沉淀物 11种三嗪类农药的测定 高效液相色谱法》

使用多孔阳极氧化铝模板, 电沉积制备了Ni2Mo 合金纳米线。用扫描电镜(SEM) 和表面能谱(XPS) 表征沉积物形貌和组成, 用伏安法研究了Ni2Mo 合金纳米线的沉积条件及催化性能。结果表明, Ni2Mo 合金纳米线的直径在20～30 nm 之间。Ni2Mo 共沉积的伏安图上在- 1. 4 V(vs AgPAgCl) 左右出现一个扩散电流平台。光电子能谱(XPS) 表明, Ni2Mo 合金纳米线的共沉积电位出现在- 1. 4 V 以后, 大于这个电位钼以低价氧化物存在。Mo2Ni 离子浓度比大于2 时扩散电流平台消失。柠檬酸盐浓度达到2～3 倍镍盐浓度时, 扩散电流平台趋于稳定。在较优条件下电沉积的Ni2Mo 合金纳米线显示较高的析氢催化活性。

MA-3000直接燃烧法在环保行业测定沉积物中总汞的应用沉积物中的汞是嵌入水生生态系统底层的汞。汞通过火山活动和岩石随时间的矿物风化以及工业和城市资源（如燃煤发电厂或危险废物焚烧）自然进入水体。释放到空气中的汞最终可能会沉入水中或被冲入水中，在那里它沉积在湖底、河床、湿地和潮间带上，并与底部基质融为一体。沉积物汞可被微生物转化为甲基汞，这是一种剧毒化学物质，会在鱼类、贝类和吃鱼的动物体内积聚。汞对自然生态系统和人类都是危险的，因为它具有剧毒，特别是因为它能够破坏中枢神经系统。汞对子宫内和儿童早期的人类发展构成特别威胁。因此，为了防止汞中毒或评估污染问题的可能性，有必要准确量化沉积物中的总汞。NIC公司 MA-3000是一款专用的直接汞分析仪，通过热分解、金汞齐化和冷原子吸收光谱有选择地测量几乎任何样品基质(固体、液体和气体)的总汞。MA-3000提供快速测试的结果，没有任何繁琐、耗时和复杂的样品制备过程。这是一个理想的解决方案，以满足当今实验室对简单，快速和准确的汞测量的需求.

pH沉淀反应，常受pH值控制，也是非常经典的化学合成反应，应用非常广泛。此类反应通常在反应釜中进行，反应结束后，液体须与生成的沉淀物（通常为混悬物）分离。但如何实现快速分离？

本文介绍通过淏化钾硫酸溶液、硫酸铜溶液和二氯甲院萃取沉积物中的甲基汞， 然后取有机相反萃取到水相，再采用普利泰科自主研发的吹扫捕集－气相色谱－冷原子荧光方法进行检测。

解决了研磨过程中粘罐或者沉淀的问题，比如有些物料，比如潮湿的土壤料、沥青矿等粘性料、某些化学品、活性炭、金属粉等，在研磨完毕后物料会沉积于研磨罐底部，磨球及盖子上也粘有很多物料，难于清洗。并且一旦沉底粘罐，磨球只作用于表层物料，使得内部研磨不到，勉强用工具取下，粒度分布也不均匀。

研究了稀土Ce对化学镀C0-Ni-B合金层组织结构的影响。采用x-射线衍射仪、电感耦合等离子发射光谱仪、透射电镜和原子力显微镜考察了合金镀层的成分、结构和表面形貌。 只做学术交流，不做其他任何商业用途！版权归原作者所有！

探讨了电化学方法在Al 基体上沉积聚苯胺膜的控制工艺, 研究了聚苯胺膜的耐蚀性。结果表明, Al 基体上沉积一层Ni 后, 可用电化学方法沉积聚苯胺膜。循环伏安法的扫描电位上限、恒电流法的电流密度、恒电位法的电位范围和电解质的酸度均影响苯胺的聚合速度和聚苯胺膜的物理性能。动电位极化曲线表明, 在0.5 mol/LNaCl 溶液中, 用各种电化学方法沉积聚苯胺膜的Al 样品, 其点腐蚀电位比无膜时有所升高。Al 基体表面覆盖导电聚苯胺膜以后, 其耐蚀性能得到提高。

海底沉积物孔隙水中阴阳离子浓度异常作为地球化学异常的一种，已经成为重要的天然气水合物勘查识别技术[1-31。大量研究表明，海洋沉积物孔隙水中ci一质量浓度异常和 S02一质量浓度梯度已成为两项最为重要的识别天然气水合物的地球化学指标〔4-61。目前，对海洋沉积物孔隙水中常见阴阳离子含量的分析已经作为一种常规方法，应用于中国海域天然气水合物的地球化学勘查与研究工作中

水环境监测是一个重要项目，它可以客观反应水体污染现状和历史。传统对于水环境中的总铬、总汞、总砷、总铜、总铅、总铬、总锌、总镍等污染物的测定方法较为繁琐，且须分别测定各个指标。哈希公司设计的水体沉降物监测方案，只需简单的几种仪器，能够有效监测出水体中的总铬、总汞、总砷、总铜、总铅、总铬、总锌、总镍以及ph等项目，方便易行，监测准确。更多详细介绍以及精彩应用案例，请下载后查看。

自摩尔定律问世以来，微电子器件的特征尺寸一直在不断缩小，以提高集成电路的集成度和性能。由于短沟道效应的限制，鳍式场效应晶体管和环栅场效应晶体管等非平面型器件已逐渐被半导体行业所采用。为了满足制造具有这些复杂结构的芯片的要求，ALD因其可以在三维结构上生长高度均匀的保形薄膜的特点，已被广泛用于集成电路先进制程中的关键步骤。ALD技术在很大程度上依赖于所涉及的表面化学，它可以显著影响沉积膜的特性，如膜厚、形貌、组分和保形性。此外，ALD前驱体对薄膜沉积也起着至关重要的作用。ALD前驱体通常为金属有机化合物，前驱体的挥发性、热稳定性和自限制反应性会显著影响薄膜的ALD生长行为。因此，全面了解ALD的表面化学机制和前驱体化学结构设计是进一步开发和利用ALD技术的关键。在本文中，作者等人对原子层沉积的最新进展进行了详细介绍。

本标准规定了海底沉积物中58种成分含量的测定方法。本标准适用于海底沉积物中吸附水、化合水、三氧化二铁(全铁)、三氧化二铝、氧化钾、氧化钠、氧化钙、氧化镁、五氧化二磷、碳酸钙、氯、砷、硒、汞、锂、铍、钪、钛、钒、铬、锰、钴、镍、铜、锌、镓、铷、锶、铪、锆、铌、钼、镉、锑、铯、钡、镧、铈、镨、钕、钐、铕、钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥、钇、钽、钨、铊、铅、铋、钍、铀量的测定。

本文参考文献《食盐中铅铜镉的共沉淀测定法》中样品处理方法，用石墨炉法检测了工业盐中的镉含量。该方法标准曲线的线性相关系数为0.999，相对标准偏差在3%以下，加标回收率94%-105%，镉元素可以将到0.06Abs左右。该方法很好的解决了高盐样品中镉检测背景太高的问题，具有很好的实用性。

原子层沉积技术（ALD）是一种自限制性的化学气相沉积手段，通过将目标反应拆解为若干个半反应，实现表面涂层的原子层级厚度控制。利用该技术制备的涂层具有：共形，无针孔，均匀的特点，对于复杂的表面界面以及高纵深比样品有较好的沉积效果。