基底膜

镀膜光学基底镀膜光学基底通过降低光楔，最大限度减少发射光束的角度偏差和对准误差。 表面质量高，波前失真小，适用于消色差束采样等。圆形基板的楔形10 arc sec,矩形或矩形基板的楔形 arc min低楔形选项：30±5arc min镀膜光学基底大楔形选项：1°或3。镜片材料：FS和BK-7。传播波前误差：λ/10@633nm，表面质量10-5。通光孔径大于85%，光楔30±5arc min。基底、尺寸和镀膜均支持定制。

石英基底石墨烯 Grapheneon Quartz表面电阻：小于600Ω/sq定制：透明度： 95%

铜基底石墨烯（进口） Graphene on Copper Foil制备方法：气相沉积法化学气相沉积石墨烯层：1/2/3~5/6~8尺寸：可定制以单层石墨烯为主的铜基石墨烯表面电阻：定制：透明度： 95%

PET基底石墨烯 Graphene on PET表面电阻：小于600Ω/sq定做：透明度： 95%

PET基底石墨烯 Graphene on PET表面电阻：小于600Ω/sq定做：＜300Ω/sq透明度： 95%

硅基底石墨烯（1*1cm单层） Graphene on Si表面电阻：小于600Ω/sq定做：透明度： 95%制备方法：1）采用化学气相沉积方法制备铜基石墨烯2）石墨烯从铜转移到硅衬底

厚度是50nm，直径为3mm的SiN 圆片基底方便了用户制备后的 TEM观察表征工作。同时，双面 平整（Ra 0.45 ± 0.02nm）的SiN 膜也适用于SPM的测试。

塑料基底石墨烯 Graphene on Plastic说明：石墨烯转移到塑料基材（一个聚合物主要含有聚酯和其他成分（10%））。表面电阻：小于600Ω/sq定制：透明度： 95%

硅基底石墨烯（1*1' ' 单层） Graphene on Si表面电阻：小于600Ω/sq定做：透明度： 95%制备方法：1）采用化学气相沉积方法制备铜基石墨烯2）石墨烯从铜转移到硅衬底

多种镀膜非镀膜光学窗口基底：材质：有BK7，UVFS等。规格：从12.7mmX3mm到76.2mmX8mm,最大可定制500mm窗口。光学窗口基底用途：分光镜，窗口和部分反射镜的理想材质，适用于UV，高功率和超短脉冲激光应用。Altechna公司产品和服务包括一般光学元件，偏振光学元件，激光器晶体，非线性晶体，激光器以及激光器配件，光学原件品质计量检测。

金属基底反射镜Metal Substrate Mirrors采用铝膜基片反射镜适用于长波红外激光应用可选择铝膜和金膜通用规格基底:Aluminum 6061-T6表面质量:80-50镀膜类型:Metal有效孔径 (%):90表面粗糙度（埃）:本品采用铝制基片、金刚石车削，并备有保护性铝膜或金膜可供选择，非常适合用于长波红外（波长大于2000nm）激光应用。由于金刚石车削表面的粗糙度为17.5nm，因此不适用于需要低散射的紫外和可见光应用。反射镜的背面采用机器磨平，并具有三个螺孔，便于准确安装。产品信息表面平整度Dia. (mm)涂层规格涂层厚度(mm)产品编码λ/4 RMS25.40Ravg94% @ 700 - 800nmRavg97% @ 800 - 2000nmRavg98% @ 2 - 12μmProtected Gold (700-12000nm)9.50#47-114λ/4 RMS25.40Ravg85% @ 400 - 700nmRavg70% @ 700 - 2000nmRavg97% @ 2 - 12μmProtected Aluminum (400-12000nm)9.50#47-113λ/4 RMS38.10Ravg94% @ 700 - 800nmRavg97% @ 800 - 2000nmRavg98% @ 2 - 12μmProtected Gold (700-12000nm)9.50#47-116λ/4 RMS38.10Ravg85% @ 400 - 700nmRavg70% @ 700 - 2000nmRavg97% @ 2 - 12μmProtected Aluminum (400-12000nm)9.50#47-115λ/4 RMS50.80Ravg94% @ 700 - 800nmRavg97% @ 800 - 2000nmRavg98% @ 2 - 12μmProtected Gold (700-12000nm)9.50#47-118λ/4 RMS50.80Ravg85% @ 400 - 700nmRavg70% @ 700 - 2000nmRavg97% @ 2 - 12μmProtected Aluminum (400-12000nm)9.50#47-117λ/2 RMS76.20Ravg94% @ 700 - 800nmRavg97% @ 800 - 2000nmRavg98% @ 2 - 12μmProtected Gold (700-12000nm)12.70#47-120λ/2 RMS76.20Ravg85% @ 400 - 700nmRavg70% @ 700 - 2000nmRavg97% @ 2 - 12μmProtected Aluminum (400-12000nm)12.70#47-119

二氧化硅基底石墨烯（1*1' ' 单层） Graphene on SiO2表面电阻：小于600Ω/sq定做：透明度： 95%制备方法：1）采用化学气相沉积方法制备铜基石墨烯2）石墨烯从铜转移到硅衬底

二氧化硅基底石墨烯（1*1cm单层） Graphene on SiO2表面电阻：小于600Ω/sq定做：透明度： 95%制备方法：1）采用化学气相沉积方法制备铜基石墨烯2）石墨烯从铜转移到硅衬底

碳基底锡球检测标样主要用于SEM和LM250-5,000x倍下的分辨率检测工作，也适合检测和校正成像质量（畸变、像散、对比度、亮度等）。同时，也可比较获得探针尺寸。锡球粒径范围：1-1-10μm

SEM中等分辨率检测标样 锡球分散在碳基底上，从而测定出粒子间可测的最小间距。锡球直径是散光校正的理想尺寸，可用于像散校正和分辨率检测。特别推荐用于半导体工业实验室等金粒子不适用的地方。但注意碳锡测试样本非常易碎，比碳金测试样本使用难度大。此标样可粘在各种型号的样品台上提供。 CP622 锡球粒径范围：10-40nm CP636 锡球粒径范围：3- 60nm

玻碳基底碳糊旋转圆盘电极规格，玻碳4/5mm；金4/5mm，铂4/5mm，该产品适用于修饰材料在电极高速旋转中容易脱落的样品测试

ibidi易必迪 µ -Slide 血管生成载玻片－81506 81501 81507 89646货号产品名称规格（个/盒）81506µ -Slide血管生成载玻片，ibiTreat底部处理1581501µ -Slide血管生成载玻片，无包被1581507µ -Slide 血管生成载玻片，玻璃底1589646µ -Plate 96孔血管生成培养板，ibiTreat底部处理15产品描述：易必迪ibidi血管生成µ -Slide Angiogenesis血管生成（Angiogenesis）：是指从已有的毛细血管或毛细血管后静脉发展而形成新的血管，主要包括：激活期血管基底膜降解；血管内皮细胞的激活、增殖、迁移；重建形成新的血管和血管网，是一个涉及多种细胞的多种分子的复杂过程。血管形成是促血管形成因子和抑制因子协调作用的复杂过程，正常情况下二者处于平衡状态，一旦此平衡打破就会激活血管系统，使血管生成过度或抑制血管系统是血管退化。产品特点：ibidi血管生成系列产品，包括μ-Slide Angiogenesis和μ-Plate Angiogenesis 96 well(coming soon)，是ibidi_易必迪公司根据血管生成实验的要求的改进型设计。它较之传统的血管生成实验，有以下优点：第一：节省基质凝胶--Gel matrix（自行准备），比传统96孔板实验节省9/10（传统实验用量100ul，「ibidi_易必迪血管生成板」--ibidi/μ-Slide Angiogenesis 用量10ul）；第二：特殊的双层孔洞设计，可形成厚度均匀（0.8mm）的平整Gel matrix表面，使细胞落于同一层物镜对焦平面，细胞形态更易观察；第三：紧密的上盖设计，有效的减缓液体蒸发；第四：适用多通道微量分注器；注：配合ibidi加热与孵育系统，可以进行清晰、长期的活细胞显微拍摄。产品介绍：1. 样品准备/Sample Preparation「ibidi血管生成板」的应用非常广泛2. 显微成像/Microscopy「ibidi加热&孵育系统」提供稳定的CO2，温度和湿度条件。3. 成像分析/Image Analysis显微镜用于评价血管形成的过程。根据您的兴趣，不仅可以使用显微视频拍摄（持续的影像），还可以定点进行成像观察（例如：6h和12h后）。4.定量和统计分析/Quantitative and Statistical Analysis从样品制备到图像分析只需要四步。数据分析小管形成成像分析是血管生成的关键步骤。Wimasis，ibidi_易必迪提供高品质成像分析的认证合作伙伴，已经开发出分析解决方案Wim Tube 用于细胞神经网络的生成的定量评价。首先，使用「ibidi_易必迪血管生成板」进行你的小管形成实验和显微图像的获得。然后，只需要上传图片到图像分析平台并通过邮件接收您的分析结果。分析数据包括：1. 小管长度，数量和平均值2. 细胞覆盖面积3. 环状结构的数量，区域和周长4. 分叉点的数量产品参数：血管生成载玻片：孔的数量15外孔的体积50 µ l内孔的体积10 µ l外孔的直径5 mm内孔的直径4 mm每个内孔的生长区域0.125 cm² 底部ibidi标准底96孔血管生成：孔的数量96外孔的体积70 µ l内孔的体积10 µ l外孔的直径5 mm内孔的直径4 mm每个内孔的生长区域0.125 cm² 底部ibidi标准底现场实拍：

PCV / PCX基底直径公差+0.0/-0.1 mm厚度公差±0.1 mm焦距公差±3%通光孔径90%设计波长632.8 nm表面质量20-10 S-D表面图中心定位错误保护性倒角涂层Call us如果你有任务建立一个扩束器或减速器，至少需要几个镜头。 如果光学线路必须承受高能量密度，则折射光学元件优选反射元件。 在处理超短脉冲时，反射聚焦和散焦光学也是完美的。 下面列出的凹凸基材可以涂上金，银或铝。 这些衬底上的激光线或宽带介质涂层也是可用的。 如有必要，后一种涂层可具有优化的GDD值。1）适用于电介质和金属涂层聚焦镜2）表面图：L / 8 @ 633nm3）居中：4）适用于高功率和FS应用直径，mm材质中心厚度, mm边缘厚度, mm曲率半径, mmROC的公差，％产品编号25.4UVFS4.84550011-PCV-2-50025425.4UVFS4.965200021-PCV-2-200025425.4UVFS4.89575011-PCV-2-75025425.4UVFS54.620011-PCX-2-20025425.4UVFS4.73530011-PCV-2-30025425.4UVFS4.6520011-PCV-2-20025425.4UVFS4.67525011-PCV-2-25025425.4UVFS3.3655011-PCV-2-5025425.4UVFS4.46515011-PCV-2-15025425.4UVFS53.365011-PCX-2-5025425.4UVFS54.1910011-PCX-2-10025425.4UVFS4.95517501.81-PCV-2-175025425.4UVFS4.8540011-PCV-2-40025425.4UVFS4.945150011-PCV-2-150025425.4UVFS54.8450011-PCX-2-50025425.4UVFS4.97525002.51-PCV-2-250025425.4UVFS4.93512501.31-PCV-2-125025425.4UVFS4.9580011-PCV-2-80025425.4UVFS4.86560011-PCV-2-60025425.4UVFS4.925100011-PCV-2-100025425.4UVFS4.985400041-PCV-2-400025425.4UVFS4.975300031-PCV-2-300025425.4UVFS4.35512511-PCV-2-12525425.4UVFS4.985500051-PCV-2-500025425.4UVFS54.92100011-PCX-2-100025425.4UVFS4.19510011-PCV-2-10025425.4UVFS3.9157511-PCV-2-75254定制你可以根据您的需求定制这个产品。如果您没有找到适合您的应用，请与我们联系，以便定制解决方案。

尺寸：1*1cm/5*5cm/10*10cm层数：单层晶粒：单晶/多晶，50~300um光镜测试图拉曼光谱分析

尺寸：1*1cm/5*5cm/10*10cm层数：单层晶粒：单晶/多晶，50~300um光镜测试图拉曼光谱分析

形状：可任意裁剪尺寸：1*1cm/5*5cm/10*10cm层数：单层晶粒：单晶/多晶，50~300um

形状：可任意裁剪尺寸：1*1cm/5*5cm/10*10cm层数：单层晶粒：单晶/多晶，50~300um

CAS132 该标样为在碳膜上生长了结晶性 好的单晶金颗粒，清晰的金晶格 条纹可用于高分辨率的测试。周 围的碳颗粒衬底利于操作调节。

分散较好的大金颗粒为检测提供了完美的结构，用于扫描电镜和高倍光学显微镜分辨率的检测，可根据扫描电镜型号的不同选择标样及所带的样品台。 金颗粒粒径范围：0.1-1µ m 放大倍数范围：800-10,000X

用于扫描电镜和光学显微镜低倍放大倍数的检测，特别适合检测图象的质量、扭曲、衬度、亮度和束的尺寸。可根据扫描电镜型号的不同选择标样及所带的样品台。 锡球粒径范围：1-10µ m 放大倍数范围：250-5,000X

300-900纳米铌酸锂单晶薄膜300-900纳米 铌酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, (6) 英寸切向X, Z, Y切等材料铌酸锂厚度300-900 纳米掺杂（可选）掺镁埋层材料二氧化硅厚度1000-4000 纳米基底材料硅、铌酸锂、石英、熔融石英等厚度400-500 微米电极层（可选）材料铂金，金，铬厚度100-400 纳米位置在顶层器件层与埋层之间或埋层与基底之间铌酸锂单晶薄膜二氧化硅硅、铌酸锂、石英或熔融石英基底铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅掺镁铌酸锂单晶薄膜铌酸锂基底二氧化硅首页 - 产品300-900纳米钽酸锂单晶薄膜300-900 纳米 钽酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向 Y-42, Y-46.3, Z切等材料钽酸锂厚度300-900 纳米埋层材料二氧化硅厚度300-4000 纳米基底材料硅厚度400-500 微米钽酸锂单晶薄膜二氧化硅硅基底5-50微米硅基钽酸锂、铌酸锂、石英薄膜5-50微米 硅基钽酸锂、铌酸锂及石英薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向X, Z, Y-42, Y-46.3切等材料钽酸锂、铌酸锂、石英等厚度5-50 微米基底材料硅厚度230-500 微米钽酸锂单晶薄膜硅基底铌酸锂单晶薄膜硅基底石英薄膜硅基底自支持超薄晶片、超平晶片自支持超薄、超平晶片尺寸3, 4 英寸切向X, Y, Z, AT切等厚度10-60 微米材料铌酸锂、钽酸锂、石英、硅等表面双抛或单抛铌酸锂单晶薄膜钽酸锂单晶薄膜石英薄膜特殊定制薄膜特殊定制铌酸锂、钽酸锂、石英薄膜顶层/ 详情基底层顶层薄膜层多层结构图形电极&波导结构异质材料 (二氧化硅/硅,硅, 蓝宝石, 石英等)周期性极化反转铌酸锂PPLN特殊尺寸电极 (金, 铂金,铬, 铝等)切向 (与体材料相同 )掺杂 (镁, 铁, 铒, 铥等)100-1000 纳米铌酸锂√√√√√√√√100-1500 纳米 钽酸锂√√√√√√√5-50 微米铌酸锂√√√√5-50 微米钽酸锂√√√√5-50 微米石英√√√300-900纳米铌酸锂单晶薄膜300-900纳米 铌酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, (6) 英寸切向X, Z, Y切等材料铌酸锂厚度300-900 纳米掺杂（可选）掺镁埋层材料二氧化硅厚度1000-4000 纳米基底材料硅、铌酸锂、石英、熔融石英等厚度400-500 微米电极层（可选）材料铂金，金，铬厚度100-400 纳米位置在顶层器件层与埋层之间或埋层与基底之间铌酸锂单晶薄膜二氧化硅硅、铌酸锂、石英或熔融石英基底铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅铌酸锂单晶薄膜金电极或铂金电极铌酸锂基底二氧化硅掺镁铌酸锂单晶薄膜铌酸锂基底二氧化硅首页 - 产品300-900纳米钽酸锂单晶薄膜300-900 纳米 钽酸锂单晶薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向 Y-42, Y-46.3, Z切等材料钽酸锂厚度300-900 纳米埋层材料二氧化硅厚度300-4000 纳米基底材料硅厚度400-500 微米钽酸锂单晶薄膜二氧化硅硅基底5-50微米硅基钽酸锂、铌酸锂、石英薄膜5-50微米 硅基钽酸锂、铌酸锂及石英薄膜顶层器件层尺寸3, 4, 6 英寸切向X, Z, Y-42, Y-46.3切等材料钽酸锂、铌酸锂、石英等厚度5-50 微米基底材料硅厚度230-500 微米钽酸锂单晶薄膜硅基底铌酸锂单晶薄膜硅基底石英薄膜硅基底自支持超薄晶片、超平晶片自支持超薄、超平晶片尺寸3, 4 英寸切向X, Y, Z, AT切等厚度10-60 微米材料铌酸锂、钽酸锂、石英、硅等表面双抛或单抛铌酸锂单晶薄膜钽酸锂单晶薄膜石英薄膜特殊定制薄膜特殊定制铌酸锂、钽酸锂、石英薄膜顶层/ 详情基底层顶层薄膜层多层结构图形电极&波导结构异质材料 (二氧化硅/硅,硅, 蓝宝石, 石英等)周期性极化反转铌酸锂PPLN特殊尺寸电极 (金, 铂金,铬, 铝等)切向 (与体材料相同 )掺杂 (镁, 铁, 铒, 铥等)100-1000 纳米铌酸锂√√√√√√√√100-1500 纳米 钽酸锂√√√√√√√5-50 微米铌酸锂√√√√5-50 微米钽酸锂√√√√5-50 微米石英√√√铌酸锂单晶薄膜、钽酸锂单晶薄膜300-900纳米，5-50微米

ingle Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm:4 packProperties of BN film97% coverage with minor holes and organic residuesHigh Crystalline QualityThe Raman spectrum should peak at ~1369cm-1

Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm:8 packProperties of BN film97% coverage with minor holes and organic residuesHigh Crystalline QualityThe Raman spectrum should peak at ~1369cm-1

358型螺旋涂膜器卡纸、塑料薄片、皮革、纺织品等各种柔软基底表面通常不平整或有部分隆起，用一般的刮刀型涂膜器会产生厚度不均的涂层。采用螺旋涂膜器可解决这个问题。当涂膜器在基底上拖动时会将基底碾压平整。涂膜器上螺纹形成的沟槽用来产生指定厚度的膜。理论膜厚由螺纹间隙决定。涂膜器安装在一个带把手的支架上，耐腐蚀。

用于扫描电镜和光学显微镜低倍放大倍数的检测，特别适合检测图象的质量、扭曲、衬度、亮度和束的尺寸。可根据扫描电镜型号的不同选择标样及所带的样品台。 锡球粒径范围：1-10µ m 放大倍数范围：250-5,000X