甲磺酸伊马替尼片

产品名称：牛磺酸镁英文名称：Magnesium Taurate英文别名：2-amino-, magnesium salt (2:1)CAS:334824-43-0分子式：C4H12MgN2O6S2分子量：272.58含量：99%外观：白色细颗粒粉末包装：25公斤/桶用途：膳食补充原料

產品特色Dionex ICS1100所有元件設計皆為PEEK材質，無金屬污染。內建管柱恆溫裝置，以提供最佳之溫度穩定條件；另可選配除氣裝置，以降低流洗液造成背景值之干擾。亦搭配自動取樣器AS40/AS/AS-HV機型可供選擇。應用於無鹵素材料分析(Halogen Free), 加裝配件可再做全氟辛烷硫磺酸(PFOA/S)...等分析一、系統與流體接觸部份(包括：注射閥、幫浦頭、管線接頭等)均為耐腐蝕PEEK材料製造二、使用電導度檢測器時，於分離管後，使用離子交換膜自我再生再循環化學抑制方法抑制背景電導度三、Pump (泵) * 串列式雙活塞型式 * Peek材質可耐PH 0~14 * 流速範圍 : 0.05 ~5.0ml/min ，可以0.01 ml/min 增量* 最大耐壓5000psi * 壓力Ripple : ＜ 1.0% at 1.0mL/min* 流速精密度 : 0.1%* 流速準確度 : 0.1%* Piston seal 清洗 : 提供rinse溶劑時可連續自動清洗* 壓力上下限Alarm功能* 六向閥以電磁控制* 可視不同應用，額外選配六向閥或十向閥在同一主機內 * 可擴充升級管柱溫控功能 : a. 至少室溫以上5℃，一般為30℃~60℃ b. 溫度穩定度 ± 0.5℃ c. 溫度精確度 ± 0.5℃ at 40℃時 *可擴充選配流洗液循環再利用功能：支援碳酸或碳酸/碳酸氫流洗液濃度最高可至20mM；甲磺酸流液液最高至34mM。流速範圍：0.01-2.00mL/min.。連續使用最高可達28天或2000個樣品免配製流洗液。四、電導度檢測器* 線性 : 1% 在1 mS* 全輻輸出範圍 : 數位信號範圍 : 0~15000&mu S 類比信號範圍 : 0~15000&mu S* 解析度 : 0.00238nS/cm * 雜訊 : ± 0.1 nS (當背景導電度是0~150&mu S) ± 2 nS (當背景導電度是151~3200&mu S) * 溫度補償 : 樣品槽溫度每度C固定1.7%* 溫度範圍 : 室溫以上+7℃到55℃* 溫度穩定性 : ≦0.01℃* 樣品槽体積 : ＜ 1&mu L* 樣品槽耐壓 : 1500 psi * 抑制器控制 : 可提供0~500mA電流，調整1mA增量五、自動控制系統及數據處理系統 軟體1)、電導度偵測器及分析幫浦可藉由for Windows之軟體於個人電腦控制2)、具有資料處理功能3)、可繪製檢量線4)、可自動計算檢量線之相關係數5)、檢驗結果及圖譜可自列表機印出6)、檢驗數據可儲存於硬式磁碟機，並可轉存於軟式磁碟機7)、己儲存之數據可於本軟體再度讀出8)、可擴充控制三十種廠牌(包含Waters ,Agilent, Dionex&hellip )三百種以上之HPLC,GC,IC。9)、軟體具有Smart Startup 及Shutdown功能。

甲烷在液相中直接活化生成甲醇、乙酸及甲磺酸的研究进展和相关的甲烷液相转化机理 指出后续研究中解决对环境有害的溶剂的替代以及催化剂的回收利用两大难题,将大大促进甲烷的液相转化向应用发展,从而更好地实现天然气在化工生产中的作用。甲烷和二氧化碳均是温室气体中的重要成员,同时甲烷C-H键、二氧化碳C-O键均是难于活化的化学键,其活化和催化转化利用不仅在理论上有重要意义,而且对缓解由温室效应带来的环境问题有重要意义.同时利用甲烷和二氧化碳的典型反应是甲烷的干式重整反应,该反应可在镍基催化剂作用下在较高温度下实现,但该反应也面临两个重要的挑战,即高温反应带来的催化剂烧结失活和积碳失活.因此,甲烷和二氧化碳的低温活化与催化转化不仅可以降低过程的能耗,同时也可望避免催化剂烧结和积碳.

科聚亚公司（Chemtura）是一家全球性特殊化学品公司，其在热浇注塑型聚氨酯预聚体、阻燃剂、工业润滑油、特殊化学品、日用化学品以及农作物化学剂等领域内保持全球领先地位。为美国上市公司，纳斯达克股票代码CEM。美国第二大特殊化学品制造商，年营业额约40亿美元。chemtura 的石油磺酸钠、石油磺酸钡、高碱值磺酸钙、高温抗氧剂、复合磺酸钙润滑脂、高粘度pao合成基础油都是全球的领导者。 高碱值磺酸钙C400CLR 缓蚀剂/防锈剂、抗磨剂和极压剂 Calclinate高碱值磺酸钙系列产品同时具有抑制腐蚀和极压/抗磨功能、广泛应用于工业和金属加工领域，如：工业润滑油、金属加工液和润滑脂等，并且适用于多种金属。其中无定型结构的磺酸钙产品适用于对润滑油外观的清澈度有严格要求的场合，而结晶型（方解石型）磺酸钙产品则适用于对抗磨/挤压性能要求苛刻的场合。C-400CLR特性碳酸钙结构：无定型，钙含量：15.2w1%，磺酸钙含量：18.5w1%，碱值：405mgkOH/g，粘度@100℃：75cst，密度@15℃：1.20，色度（稀释）5，自由碱含量：1mgkOH/g，铜片腐蚀：1b

Smitha MePuLUS研究是一种灵活的、完全封闭的PET放射性同位素全自动合成系统， 用于基于[11C]甲基碘或任选[11C]甲基三氟甲磺酸酯合成或格氏反应生成的许多[11C]标记化合物。 该系统配备有9个试剂瓶，与阀门无死区连接，2个封闭反应容器（-196°C -250°C）和一个柱状炉， 能够实现多步无线电合成过程。 制备的放射性HPLC系统配备有可变波长紫外检测器、四元梯度泵、两个HPLC柱和柱切换阀， 允许通过选择柱来对不同示踪剂进行在制品纯化步骤。 固相萃取（SPE）是为了可靠地生产和配制[11C]化合物的可注射溶液。 所有润湿的成分都是化学惰性的，简化了维护和保护最终产品。 PET放射性药物全自动合成系统还包含根据GMP的滤波器完整性测试单元。 在最终配制的放射性药物产品过滤后，可以进行自动保压试验。 测量过程被监控并记录在案。 通过液氮冷却阱进行抽空，以捕获挥发性放射性物质，并保护集成真空泵。 PET放射性药物全自动合成系统特点：9个加热区，其中4个具有冷却能力（-196°C～800°C） 2个封闭式反应容器，整体冷却（196°C～250°C 3个电子流量控制器用于泄漏检测的气相压力传感器内置的准备无线电/ UV-HPLC系统（40毫升/分钟---流量）可变波长探测器 两种高效液相色谱柱 自动、气动阀选择HPLC柱用于过程反馈的6个屏蔽辐射探测器 7小时内（1 - 3毫升）和2个大（10～15毫升）试剂瓶化学惰性阀，死区体积小（＜35μL），额定功率5bar 真空度小于5 hPa（5毫巴）的化学惰性真空泵液氮冷却捕集放射性挥发性化合物 具有1.5毫升样品回路的自动气动注射阀 18通道嵌入式电子控制和数据采集系统 cGMP遵从完整的cGMP文档日志简单创建用户定义的合成方法 易于安装和操作自动清洗程序 遵守GMP/GLP指南 通过TCP/IP控制对软件进行密码保护访问软件（Windows 10，CythRaveVIEW），包括：计算机和鼠标

赛默飞ICS 1100离子色谱系统仪器简介：赛默飞ICS-1100离子色谱是为等度淋洗而设计的仪器，配合淋洗液自动发生装置（RFC-30）使用也可具有梯度淋洗功能。选配免化学试剂电解样品前处理装置（RFIC-ESP），利用阀切换和电解水原理，可以用于多种基体样品的不同前处理。当选配淋洗液在线循环装置（RFIC-ER）时，ICS-1100可以保证连续四周不间断工作且无需更换淋洗液。配合连续自动再生微膜抑制器和全新的变色龙软件（Chromeleon）使用，可以让使用者享受便捷的同时，坐拥最大的操作乐趣和方便。技术参数：分析泵和输送装置类型 串联式双活塞往复泵，微处理器控制定冲程，可变速度；结构 化学惰性，非金属PEEK材料泵头和流路；pH 0-14水溶液和反相溶剂兼容；控制模式 通过变色龙软件全程控制，可选择TTL或继电器开关；最大操作压力 35 MPa（5000 psi）压力波动 ＜1.0%流速范围 0.00－5.00 mL/min流量精度 ＜0.1%流量准确度 ＜0.1%活塞密封清洗 双泵头，连接洗涤液时连续清洗压力范围 0－5000 psi（PEEK泵头），可设置上下限报警功能淋洗液瓶 聚丙烯，4 L淋洗液加压 不需要进样阀 Rheodyne 公司的电控PEEK阀柱子 2，3，4以及5 mm i . d .，最长250 mm分析柱以及50 mm保护柱AS-DV技术指标样品瓶容量 可放置50个样品瓶，使用5 mL，0.5 mL 2种传输体积 0.1-5.0 mL速度控制 0.1-5.0 mL/min软件控制 可用变色龙软件进行控制每瓶进样 可进行多次进样电压 90-165 V，47-63 Hz尺寸(h×w×d) 28.7×36.3×44.5 cm重量 8.9 Kg （19.5 lbs）柱加热（选配）操作温度范围 环境+5℃到60℃温度稳定性 ±0.5℃电导检测器类型 微处理-数字信号控制处理器分辨率 0.00238 ns满刻度输出范围 0-15000 μS；温度补偿 具有温度补偿功能，对每1℃池温固定在1.7%电导池控温范围 环境+7℃到55℃温度稳定性 ＜0.01℃电导池 电极钝化316不锈钢电导池体材料 化学惰性聚合材料电导池体积 ＜1 μL池加热交换器 低差量最大池操作压力 10 MPa（1500 psi）抑制器控制电源 AES，0－150 mA，1 mA增量SRS，0－500 mA，1mA增量电导池可兼容甲烷磺酸抑制器阴离子抑制器连续自动再生微膜抑制器或柱膜混合型抑制器，抑制容量110微当量/分钟阳离子抑制器连续自动再生微膜抑制器或柱膜混合型电解抑制器，抑制容量200微当量/分钟抑制器 死体积 50 μL抑制器无需使用蠕动泵，无易损件变色龙软件可兼容WINDOWS 2000/XP 以及VISTA系统，软件可设定自动开关机物理规格电源 100-240 V交流，50/60Hz（自动感应和调节）电压范围 90-265 V交流，47-63Hz仪器操作温度 4-40℃操作湿度范围 5-95 %相对湿度，无冷凝控制模式通过变色龙软件控制，可选择TTL或延迟开关；两个延迟输出，两个TTL输出，四个可编程输入USB通讯口 一个输入，两个固定USB输入口漏液检测 内置，光学传感器尺寸(h×w×d)56.1×22.4 ×53.3 cm(22.1×8.8×21 in.)重量 24.5 Kg (54 lbs)主要特点：高性能泵高技术的双柱塞高压泵可以提供高精度，低漂移和无脉动的淋洗液。确保基线的稳定，获得极低的检出限。全PEEK材料流路设计避免了金属的污染，能够耐高压、耐酸碱、耐反相有机溶剂。控温电导池体积小、高效控温的电导池提供了高灵敏度和稳定性，并可在任何实验室条件下稳定工作。带有“自动范围设定”数字控制功能，提供了很宽的动态范围，允许高含量组分和低含量组分在一次进样中同时被检测。全自动电解抑制器支持全部戴安公司的抑制器技术，自动电解膜抑制技术无需配制酸或碱再生液，提供更低的噪声，更高的灵敏度和更少的日常维护。不必担心由于柱抑制器容量低需切换再生带来的实验条件不确定问题。USB连接方式，即插即用即插即用式高速USB数据接口可以快速与任何电脑和其它装置连接，在线识别和自动配置功能为使用者提供方便和简化的系统配置。电子日志功能，可以对仪器的所有工作状态进行实时监控。可选配免化学试剂淋洗液在线循环装置当ICS-1100配有免化学试剂淋洗液在线循环装置时，仪器可以稳定地运行28天以上，在这四周时间内使用者不需要更换淋洗液。自动样品前处理装置（RFIC-ESP）选配免化学试剂电解样品前处理装置（RFIC-ESP），利用阀切换和电解水原理，可以用于多种基体样品的不同前处理，简化实验过程。可选配淋洗液自动发生装置（RFC-30）配合淋洗液自动发生装置（RFC-30）使用可具有梯度淋洗功能。RFIC-ER“只进样”淋洗液在线循环系统 淋洗液在线循环装置（RFIC-ER）是戴安公司推出针对常规离子检测的简化方案。该系统利用电解抑制器将淋洗液再生，这样就可以使系统连续运行，降低了淋洗液成本和废液排放。使用RFIC-ER系统，用户只需配好一个4L的淋洗液就可以保证连续28天以上不更换淋洗液而正常稳定工作，减轻频繁配置淋洗液的痛苦，为客户提供了简单、易于操作、重现性好、稳定可靠的离子色谱系统。RFIC-ER原理：从抑制器阴极和阳极流出的分别是淋洗液、水、氢气和氧气以及样品中的阴阳离子。RFIC-ER系统将从抑制器出口流出的液体进行在线脱气、去离子和其它痕量污染物通过纯化作为再生的淋洗液可以循环使用。RFIC-ER系统可以配合碳酸盐/碳酸氢盐和甲烷磺酸（MSA）淋洗液使用。RFIC-ER系统一般情况下可以连续使用4周左右，操作者只需要进行进样操作即可。Chromeleon工作站可以实时对淋洗液以及捕获柱和纯化柱的使用状况进行监测。RFIC-ER系统非常适合于检测简单基体中的常见阴阳离子，而RFIC-EG则适合于那些需要面对相对比较复杂基体的样品的客户或者需要梯度淋洗的客户。淋洗液自动发生器，实现RFIC梦想只用水的免化学试剂离子色谱技术（Reagent Free Ion Chromatograph RFIC）是为解决科学工作者在进行色谱分析时经常遇到的淋洗液手工配置繁琐并容易引入手工误差、淋洗液放置氧化、线性梯度淋洗过程基线漂移、实验结果重复性差等问题由戴安公司S创推出的。技术的基本原理是利用水的电解：电解水在线产生淋洗液、电解水产生电导抑制所需的阴阳离子以及电解水完成捕获柱的在线再生，使得离子色谱的分析工作者只需要准备高纯水就可完成全部实验， RFIC技术进一步节省分析时间和劳力，降低了仪器的使用费用， 消除了人工配制淋洗液所带来的误差，有效地改善了分析的重现性。不同天、不同月和不同实验室、不同人的分析结果可以非常一致。分析工作者不再需要定期配制淋洗液和再生液，减少了接触化学试剂的机会，是对实验室传统分析方法进行了ge命性的改变。淋洗液自动发生装置（RFIC-30）可以使ICS-1600型离子色谱升级为免试剂离子色谱RFIC系统，使原有的恒流泵系统可以方便地自动完成多阶梯度和一阶线线梯度的淋洗。RFC-30特点● RFC-30是专为戴安公司常规离子色谱仪器升级而设计的独立控制器。RFC-30内置淋洗液自动发生器、抑制器（AES和SRS）控制电源、CR-TC捕获柱控制电源。● 自动电解生成阴离子分离需要的氢氧化物淋洗液和阳离子分离所需的甲磺酸淋洗液。● 可进行等度淋洗或浓度线性梯度淋洗。● 独立控制，无需任何控制软件。● 自动停泵控制开关确保输液泵停止工作后自动立即关闭电源。可以安全保护AES、SRS抑制器、EG淋洗液自动发生器和CR-TC捕获柱。● 前面板控制易于使用，提供常规和简便的操作。● 为内置的EGC-KOH或EGC-MSA淋洗液自动发生器提供电流，使淋洗液浓度在0.1到100 mM范围内。● 为CR-TC连续再生捕获柱提供电流。

仪器简介：Mactronix公司世界较大的wafer transfer(倒片机)生产产家, 他生产的倒片机,分选机广泛被大的半导体厂家所使用,特别是欧美地区的大FAB里处处都有,国内的FAB里从国外进来的生产线上也是有很多,用十几年以上非常普遍, 目前国内通过美国赛伦科技公司(北京上海都有办事处)全权负责销售与售后服务.如:台积电, 中芯, 康可电子等等FAB里都有购买.具体资料请来电或邮件索取，或自行官网下载。主要特点：各种不同的硅片倒片机设备有近百种之多，这里附上部分设备：

BM系列囊式计量泵是三为科学推出的一款耐腐蚀、全氟流路、高精度的化学计量泵，囊式计量泵与介质接触的材料为PFA、PTFE,流路不含金属材料，同时无需轴封的设计可以防止液体泄露和外部气体进入。因此，囊式计量泵常被用于半导体、生命科学和化工领域苛刻物料的输送，如：光刻胶、氢氟酸、液态氟化氢、氢溴酸、三氯化磷、液氯、溴素、氯磺酸、硫酸酐、发烟硫酸、发烟硝酸、丁基锂、格氏试剂、浓硫酸、浓磷酸等。产品特点：・ 流路接液部仅由氟树脂构成，可输送强腐蚀酸碱盐等各种药液・ 接液部无密封圈和滑动结构，运行不产生微颗粒，无密封圈泄露风险・ 无外部气体进入，不易产生电解液结晶化结构・ 可输送高粘度物料和微量气体物料・ 丝杠传动，可实现高精度连续流流体输送产品用途：・ 化工领域高粘度高浓度强腐蚀物料输送・ 半导体工序的光刻胶及高纯电子化学品输送・ 锂离子电池等电池制造工序的电解液输送・ 生物医药领域洁净物料输送・ 其他液体化学品或液体物料的定量输送产品参数：型号BM-10BM-50BM-100BM-200流量范围1.0-10.0ml/min1.0-50.0ml/min1.0-100.0ml/min1.0-200.0ml/min输送粘度范围0-300cP增量0.1ml/min流量准确度±1%压力范围≤0.5MPa进液管口径φ6mm×φ4mm出液管口径φ3.175mm×φ1.58mm流路材料PTFE、PFA、特种陶瓷通讯功能USB、RS232、RS485；Modbus通讯协议电源85-264VAC，50Hz功率20W

Mactronix公司世界较大的wafer transfer(倒片机)生产产家, 他生产的倒片机,分选机广泛被大的半导体厂家所使用,特别是欧美地区的大FAB里处处都有,国内的FAB里从国外进来的生产线上也是有很多,用十几年以上非常普遍。

公司介绍Tytronics® Sentinel是一流的在线分析仪，适用于饮用水、地表水、污水、过程水及化工等领域的化学分析和监测，提供了无与伦比的性价比、分析质量和精度。简便的专利进样系统和大孔径管路，使仪器在分析难处理或较脏样品具有更高的可靠性。儒亚科技有限公司作为Galvanic Applied Science 公司在中国独家授权在线液体监测产品的经销商，对产品进行技术支持、市场推广和售后支持的专业性服务。公司汇集了一批高级专业技术人才，具有成熟的经验和安装调试能力，为您提供最专业而优质的服务。 典型应用 电厂锅炉补给水、冷却水 、半导体工业用水 仪器特点 强大的人机对话功能，可编程定义多达10 种分析方法和 3 种校正方法 先进的自诊断、报警系统，有无样品、试剂液位等报警 自动校准、清洗、填充试剂的全自动分析 样品试剂耗量少，测量结果无记忆效应 独特采样技术简化了对外围采样系统的要求 具有灵活的，实用的抓样分析方法 可扩展至同时监测6 路样品 双波长技术可补偿水样浊度对测量结果的影响 光纤探头的采用，使维护工作量最小化 测量原理分光光度法检测。样品与钼酸反应，生成b-硅钼酸，然后加入还原剂1-氨基-2-萘酚-4-磺酸，由硅钼黄变成硅钼蓝，在810 nm处测定，得到二氧化硅的浓度 a.测量范围：低浓度0-100ppb，0-500ppb，0-1000ppb 测量波长：810 nm所用试剂：试剂1. 钼酸 试剂2. 酒石酸 试剂3. 1-氨基-2-萘酚-4-磺酸 b.测量范围：高浓度0-2ppm，0-5ppm，0-10ppm 所用试剂：试剂1. 钼酸 试剂2. 酒石酸 测量波长：312 nm 技术参数 准 确 性： 读数或量程的±2% 分 辨 率： 0.001 重 现 性： 读数或量程的±2% 样品流速： 50－900 ml/min 样品接口： 1/4 英寸卡套接头 样品温度： 5－70℃ 样品中悬浮固体： 最多2％，最大颗粒尺寸0.05 英寸（1.27mm） 样品压力： 0 to 50 psig 排放接口： 3/4 英寸NPT 阳螺纹，对空排放 报警输出： 用户可编程设定 模拟输出： 4-20mA 输出，可编程设定 电源要求： 100-240Vac，50/60Hz 防护等级： NEMA 4X（IP65） 安装方式： 挂墙式安装（配有安装螺丝） 尺寸： （W×H×D）1525px×1600px×825px 重量： 装配齐全约36kg

PlasmaEtch Process - 美国专利9,548,227 B2 - 使用等离子体放电管的微波诱导等离子体。 微波诱导式等离子芯片开封系统 ---- PlasmaEtch无论是传统的金线样品，还是样品都采用铜线或银线，PlasmaEtch都能提供安全可靠的蚀刻。 As the world moves toward more eco-friendly processes and the semiconductor manufacturing industry continues to make smaller parts with sensitive internal components, failure analysts are presented with a unique challenge: how do you etch these samples? Nisene Technology Group has bridged the gap between semiconductor manufacturing technology and failure analysis with its latest decapsulation system: the PlasmaEtch.工作原理： The PlasmaEtch decapsulation system is a revolutionary patent-pending gas-based semiconductor etching system. Employing a never-before-seen application of microwaved gases inciting chemical radicals for isotropic etching, the PlasmaEtch is the greenest and most cost-effective etching solution available. The PlasmaEtch can etch most sample sizes, encapsulant types, and wire bond types. Whether it’s a more traditional gold wire sample, or if the sample features copper or silver wires, the PlasmaEtch delivers a safe and reliable etch.PlasmaEtch创新点：Afterburner Downstream Focused Plasma Etching（延时激发下行聚焦离子蚀刻）Mass Flow Controlling for All Gases（所有气体流量可控）No Microwave Radiation Exposure to Samples During Etch Process（无微波辐射）Low Temperature Etching（低温蚀刻）Isotropic Etching（等向性蚀刻） Unlike typical and less sophisticated plasma decap systems that take many hours or even days to get to the surface of the die, the PlasmaEtch can clear the encapsulant of most package types and reveal the complete die surface and wire sweep in a matter of a couple hours. Chemical-free decapsulation has never been so effective.主要特色（Highlights）：Highly Customizable Etch Recipes（高度可定制的蚀刻配方）Etches a Wide Variety of Package Types（可蚀刻各种各样的封装类型）Completely Chemical-free Decap（完全非化学方式蚀刻）Eco-friendly（生态友好环保）Touchscreen Interface（触控屏）PC/Windows-based GUI（基于PC / Windows的GUI）The Only Solution for Silver Wires（银线的唯一解决方案）

波诱导式等离子芯片开封系统 ---- PlasmaEtch无论是传统的金线样品，还是样品都采用铜线或银线，PlasmaEtch都能提供安全可靠的蚀刻。 As the world moves toward more eco-friendly processes and the semiconductor manufacturing industry continues to make smaller parts with sensitive internal components, failure analysts are presented with a unique challenge: how do you etch these samples? Nisene Technology Group has bridged the gap between semiconductor manufacturing technology and failure analysis with its latest decapsulation system: the PlasmaEtch.工作原理：The PlasmaEtch decapsulation system is a revolutionary patent-pending gas-based semiconductor etching system. Employing a never-before-seen application of microwaved gases inciting chemical radicals for isotropic etching, the PlasmaEtch is the greenest and most cost-effective etching solution available. The PlasmaEtch can etch most sample sizes, encapsulant types, and wire bond types. Whether it’s a more traditional gold wire sample, or if the sample features copper or silver wires, the PlasmaEtch delivers a safe and reliable etch.PlasmaEtch创新点：Afterburner Downstream Focused Plasma Etching（延时激发下行聚焦离子蚀刻）Mass Flow Controlling for All Gases（所有气体流量可控）No Microwave Radiation Exposure to Samples During Etch Process（无微波辐射）Low Temperature Etching（低温蚀刻）Isotropic Etching（等向性蚀刻） Unlike typical and less sophisticated plasma decap systems that take many hours or even days to get to the surface of the die, the PlasmaEtch can clear the encapsulant of most package types and reveal the complete die surface and wire sweep in a matter of a couple hours. Chemical-free decapsulation has never been so effective.主要特色（Highlights）：Highly Customizable Etch Recipes（高度可定制的蚀刻配方）Etches a Wide Variety of Package Types（可蚀刻各种各样的封装类型）Completely Chemical-free Decap（完全非化学方式蚀刻）Eco-friendly（生态友好环保）Touchscreen Interface（触控屏）PC/Windows-based GUI（基于PC / Windows的GUI）The Only Solution for Silver Wires（银线的唯一解决方案）

设计小巧的Cognitive Cxi标签打号机能够放置在任何工作区域，需要时可立即对玻片，样品容器或为任何需要患者识别的区域打印标签，Cxi打印的标签能够永久保存并且打印内容清晰可辨。 无论是处理载玻片、容器还是样品分类的区域，通过Cognitive Cxi打号机与Leica通用标签的有机结合，用户都能够实现接近无差错的标本识别。 Your Advantages 节省时间并降低消耗得益于Cxi打号机小巧的设计，您能够自由地将它放置在任何工作区域，随时打印所需数量的玻片标签。 精益的工作流程无论您何时需要，通过立即响应的快速打印以及易于撕下的穿孔标签，所需标记的容器和玻片能够立即准备完毕。 患者安全性将患者与标本紧密地关联在一起：Leica通用标签能够耐受特定的组织学化学品腐蚀以及机械处理。您需要做的只是完成打印并将标签贴在玻片上，Leica通用标签能够抵挡组织处理过程中各种极端的外界环境，避免褪色，降解或标签与玻片分离的情况发生。 提高产出量通过将Cognitive Cxi打号机与您的电脑，实验室信息系统或标本追踪系统相连接，来代替原先抄写数据或手写标签的标记方式，从而减少您的工作量并显著降低错误标记的发生。

20张玻片成像扫描仪英文名称： Glissando 20SL Auto-loading 20-slide Scanner国产/进口： 进口 产地/品牌： 英国 / Objective Imaging 产品类别： 其他显微系统型 号： Glissando 20SL产品介绍：Glissando 20SL将Objective Imaging标准Glissando台式扫描仪所具有的优异明场扫描速度及卓越图像质量与20张玻片的自动装载器结合，占用空间小，可轻松适应任何环境。 多支架设计可避免对玻片进行任何直接内部处理，运行安全可靠，并且经过验证的Glissando扫描仪确保了图像准确度和灵活的扫描输出格式。扫描预览功能在批次扫描玻片之前进行快速查看，确保可以处理困难样本。优点：可容纳20张标玻片或10张超大玻片卓越的图像质量和快速的扫描时间系统紧凑，集成控制计算机灵活的扫描输出格式，兼容性好提供40倍或20倍扫描物镜配置标准及Z-Stack采集认证和监管：仅供研究使用。不用于诊断程序。符合FCC和CE EMC法规IEC 61010-1:2010、EN61326-1:2013、EN61000-3-2:2014、EN61000-3-3:2014、CFR47（第15部分）：2019符合REACH、RoHS和WEEE 根据ISO 13485和ISO 9001设计和制造

可将小巧的Cognitive Cxi标签打印机放置于工作区域，以便根据需要进行打印，其打印出的标签可长久保存、清晰可辨，用于载玻片、标本容器和任何需要验证患者身份信息的地方。在任何处理切片、容器和标本分类地方，都可同时使用Cognitive Cxi打印机和徕卡通用标签，为实验室带来接近无错标本识别的优势。节省时间并降低消耗得益于Cxi打号机小巧的设计，您能够自由地将它放置在任何工作区域，随时打印所需数量的玻片标签。患者安全性将患者与标本紧密地关联在一起：Leica通用标签能够耐受特定的组织学化学品腐蚀以及机械处理。您需要做的只是完成打印并将标签贴在玻片上，Leica通用标签能够抵挡组织处理过程中各种极端的外界环境，避免褪色，降解或标签与玻片分离的情况发生。精益的工作流程无论您何时需要，通过立即响应的快速打印以及易于撕下的穿孔标签，所需标记的容器和玻片能够立即准备完毕。提高产出量通过将Cognitive Cxi打号机与您的电脑，实验室信息系统或标本追踪系统相连接，来代替原先抄写数据或手写标签的标记方式，从而减少您的工作量并显著降低错误标记的发生。

QMAX硬度膜系列 荧光滤光片美国omega光学公司自1969年成立至今，专业于光学滤光片的研发和生产，在该领域内已取得的成就与声誉，Omega公司多年来的一直致力于对产品的丰富完善，可以满足客户对不同波长范围、不同带宽精度、不同规格尺寸、不同应用领域等等一系列的细节要求，成为许多高质量用户的主要选择。 Part #对应荧光染料应用TypeDescriptionQMAX-BlueView CurveAlexa Fluor 350BFPDAPIHighest signal-to-noise, 90% average transmission, OD 6 blocking UV to 1150nm.两向分光镜发射片激发片410LP420-480355-405QMAX-FRedView CurveAlexa Fluor 647Cy5Highest signal-to-noise, 90% average transmission, OD 6 blocking UV to 1150nm.两向分光镜发射片激发片660LP670-750620-650QMAX-GreenView CurveAlexa Fluor 488EgfpCy2FITCHighest signal-to-noise, 90% average transmission, OD 6 blocking UV to 1150nm.两向分光镜发射片激发片500LP510-560450-490QMAX-RedView CurveAlexa Fluor 568Mito-Tracker RedHc RedNEW version of QMAX-Red set optimizes excitation passband for Mercury and metal-halide based light sources by encompassing both 546 and 578 output peaks. Highest...两向分光镜发射片激发片580LP600-650530-570QMAX-YellowView CurveAlexa Fluor 546DsRed 2Cy3TRITCRhodamineHighest signal-to-noise, 90% average transmission, OD 6 blocking UV to 1150nm.两向分光镜发射片激发片570-600510-550560DRLPQuantaMAX 系列特点噪比光通量深度阻截零像素漂移硬镀膜工艺陡的边缘生产工艺 ：先进的滤波片生产技术 真空薄膜沉积、精确抛光、计算机协助设计优化等。 质量保证 ：每一个滤波片都经过严格的检查和测试测试证明：可提供光学特性、光谱和光度性能的数据 优异性能 ： 高透过率、高阻截率、无串色、长寿命。适用机型Olympus、Nikon、Leica、Zeiss等各个品牌的荧光显微镜，共聚焦显微镜，体式显微镜等等。 产品类型： 1）荧光显微镜专用产品： 系列：AF优化系列、Q-MAX硬镀膜系列、多通带系列 （ 双色、三色、四色）、FISH专用系列等配件：尼康、奥林巴斯、徠卡、蔡司各种类型显微镜的滤光片支架 2）其他产品：二向色镜、分色镜、IR-DIC 滤波片、红外滤波片、中性密度片、偏光滤波片、天文滤光片、Bessell光度滤波片组合、流式细胞仪滤光片、拉曼滤光片组合、激光防干扰滤波片组合、颜色增强-光谱PLUS滤波片、颜色分离滤波片、定制滤波片组合等等。

光谱椭偏仪DUV-VIS-NIR光谱椭偏仪可配置从DUV到NIR的波长范围。DUV范围可用于测量超薄膜，如纳米厚度范围。比如硅晶片上的原生氧化物，其通常仅为约1至2nm厚。当用户需要测量许多材料的带隙时，深紫外光谱椭偏仪也是必不可少的。可见或近红外范围用于测量相对厚或非常厚的涂层。当然，如果必须确定光学常数，则应将工具的波长范围配置为该范围。其他配置，如波长分辨率，角度范围等，将根据所需的应用进行考虑。 光谱椭偏仪特征：• 基于Window软件，易于操作；• 先进的光学设计，实现zui佳系统性能；• 高功率DUV-VIS-NIR光源，适用于宽带应用；• 基于阵列的探测器系统，确保快速测量；• 用户可以根据需要定义任意数量的图层；• 能够用于实时或在线厚度，折射率监测；• 系统配有全面的光学常数数据库；• 高级TFProbe 3.3.X软件允许用户对每个胶片使用NK表，色散或有效介质近似（EMA）；• 三种不同的用户级别控制：工程师模式，系统服务模式和简易用户模式；• 灵活的工程模式，适用于各种配方设置和光学模型测试；• 强大的一键式按钮解决方案，用于快速和常规测量；• 可按照用户偏好配置测量参数，操作简便；• 系统全自动校准和初始化；• 直接从样品信号获得精确的样品对齐接口，无需外部光学元件；• 精确的高度和倾斜程度调整；• 适用于许多不同类型的不同厚度的基材；• 各种选项，附件可用于特殊配置，如绘图阶段，波长扩展，焦点等；• 2D和3D输出图形以及用户数据管理界面； 光谱椭偏仪应用：• 半导体制造（PR，氧化物，氮化物......）• 液晶显示器（ITO，PR，Cell gap ......）• 法医学，生物学材料• 油墨，矿物学，颜料，调色剂• 制药，医疗器械• 光学涂层，TiO2，SiO2，Ta2O5 ......• 半导体化合物• MEMS / MOEMS中的功能薄膜• 无定形，纳米和硅晶圆• 太阳能电池薄膜，CdTe，CdS，CIGS，AZO，CZTS .... 光谱椭偏仪技术参数： 型号 SE200 (DUV-Vis) SE300 (Vis) SE450 (Vis-Nir) SE500 (DUV-Vis-Nir)探测器类型CCD或CMOS阵列CCD或CMOS阵列CCD或CMOS和InGaAs阵列CCD或CMOS和InGaAs阵列波长范围（nm）190至1100370至1100370-1700190-1700波长点测量波长范围和波长数据点均在用户配方中自定义（数据点仅受分辨率限制）波长分辨率0.01 -3nm0.01 -3nm0.01至3nm0.01至3nm数据采集时间100毫秒到10秒，用户自定义入射角范围20至90度入射角分辨率带手动测角仪的5度预设步骤，用于SExxx-BM配置 程序控制0.001度分辨率，配有自动测角仪，适用于SExxx-BA配置偏光光学旋转偏振器，分析器和/或补偿器的组合光束尺寸准直光束，光束尺寸可在1至5mm范围内调节光圈 可选的聚焦光束模式（可拆卸）可用于减小光斑尺寸光源（D2 + TH）/氙THTH（D2 + TH）/氙其他型号：红外光谱椭偏仪TFProbe IRSE光谱椭偏仪显微分光光度计 SE-MSP光谱椭偏仪 SE-SOLAR太阳能光伏光谱椭偏仪带自动监测 SE200BM，SE300BM和SE500BM显微分光光度计DUV-VIS-NIR MSP100/MSP300/MSP400/MSP450/MSP500

交替型LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备，是LB膜的沉积领域应用最广泛的一款全球领先设备。LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头，在所需的堆积密度下，镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上，镀膜井可以在Langmuir膜下为固体样品提供空间。将Langmuir膜转移到样品上，密度，厚度及均匀性等性质将会保留，从而实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。与其他有机薄膜沉积技术相比，LB沉积方法受功能性分子的分子结构限制影响很小，这意味着LB技术是唯一能够进行自下向上的一种组装方法。交替型LB膜分析仪为我公司LB膜分析仪系列中的一款特色产品。它可用于两种材料的交替层镀膜，包括两个槽体，两个表面压力传感器和两对滑障。该槽有两种尺寸，标准型和大型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响LB膜沉积过程是将样品从单分子层中垂直拉出（图2a），通过反复沉积技术可制备多层LB膜（图2b），亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。图2 (a). LB沉积过程示意图；(b). 多层单分子膜的制备交替型LB膜分析仪的镀膜过程如图3所示。当使用两个单分子层压缩沉积池和一个空白沉积池时，可实现交替镀膜，浸渍过程可在3个沉积池中选择任意路径多次循环（图3a）；在共同的亚相（浅蓝色）上方，有两种不同的单分子层（紫色和深蓝色）（图3b）；上臂将样品向下通过单分子膜，由下臂接住样品。沉积循环也可从亚相开始，进行第一层镀膜（图3c）；下臂可根据需要旋转到另一单分子层的沉积池或空白沉积池中，改变沉积池（图3d）；下臂提起样品，传递给上臂（样品从任意一侧通过两个单分子层中任意一个），进行第二层镀膜（图3e）。图3 (a). 交替沉积池构造示意；(b). 样品在在夹具上；(c). 第一层镀膜；(d). 改变沉积池；(e). 第二层镀膜3. 技术参数3.1 大型交替LB膜分析仪（KN2004）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试4. 槽体表面积： 930 cm2 (*2)5. 槽体内部尺寸：775 x 120 x 10 mm（长 x 宽 x高, *2）6. 温度范围：-10 oC – 60oC7. 滑障速度: 0.1-200 mm/min8. 滑障速度精度: 0.1 mm/min9. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）10. 天平最大负荷: 1 g11. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）12. 传感精度: 0.1μN/m13. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒14. Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：6000 ml15. 镀膜井尺寸：半圆形,半径133mm, 深度128mm16. 最大基材尺寸：3 x 129 x114 mm或4英寸17. 镀膜速度：0.1 – 85 mm/min18. 电源： 100...240 VAC19. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 滑障由亲水性的迭尔林聚甲醛树酯制成，可提高单分子层的稳定性。可根据客户需要提供疏水性的聚四氟乙烯压缩滑障。稳健的金属构架能够防止滑障随着时间的推移而变形。6. 对称滑障压缩为标准的均匀压缩方法，但任意仪器均可实现单一滑障压缩。7. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。8. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。9. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

交替型LB膜分析仪1. 产品简介KSV NIMA为瑞典百欧林科技有限公司旗下的子品牌之一，主要经营方向为单分子层薄膜的构建与表征工具。LB（Langmuir-Blodgett）膜分析仪为KSV NIMA自主研发的一款单分子层膜的制备和表征设备，是LB膜的沉积领域应用最广泛的一款全球领先设备。LB膜分析仪配备了镀膜井和镀膜头，在所需的堆积密度下，镀膜头可以用来将Langmuir膜转移到固体基材上，镀膜井可以在Langmuir膜下为固体样品提供空间。将Langmuir膜转移到样品上，密度，厚度及均匀性等性质将会保留，从而实现了制备不同组成的多分子层结构的可能。与其他有机薄膜沉积技术相比，LB沉积方法受功能性分子的分子结构限制影响很小，这意味着LB技术是唯一能够进行自下向上的一种组装方法。交替型LB膜分析仪为我公司LB膜分析仪系列中的一款特色产品。它可用于两种材料的交替层镀膜，包括两个槽体，两个表面压力传感器和两对滑障。该槽有两种尺寸，标准型和大型。2. 工作原理位于气-液或液-液界面处不可溶的功能性分子、纳米颗粒、纳米线或微粒所形成的单分子层可定义为Langmuir膜。这些分子能够在界面处自由移动，具有较强的流动性，易于控制其堆积密度，研究单分子层的行为。将材料沉积在浅池（称顶槽）中的水亚相上，可以得到Langmuir膜。在滑障的作用下，单分子层可以被压缩。表面压力即堆积密度可以通过Langmuir膜分析仪的压力传感器进行控制。在进行典型的等温压缩测试时，单分子层先从二维的气相(G)转变到液相(L)最后形成有序的固相(S)。在气相中，分子间的相互作用力比较弱；当表面积减小，分子间的堆积更为紧密，并开始发生相互作用；在固相时，分子的堆积是有序的，导致表面压迅速增大。当表面压达到最大值即塌缩点后，单分子层的堆积不再可控。图1 单分子层膜状态受表面压力增加的影响LB膜沉积过程是将样品从单分子层中垂直拉出（图2a），通过反复沉积技术可制备多层LB膜（图2b），亲水性及疏水性样品均可在液相或气相中沉积为单分子层。图2 (a). LB沉积过程示意图；(b). 多层单分子膜的制备交替型LB膜分析仪的镀膜过程如图3所示。当使用两个单分子层压缩沉积池和一个空白沉积池时，可实现交替镀膜，浸渍过程可在3个沉积池中选择任意路径多次循环（图3a）；在共同的亚相（浅蓝色）上方，有两种不同的单分子层（紫色和深蓝色）（图3b）；上臂将样品向下通过单分子膜，由下臂接住样品。沉积循环也可从亚相开始，进行第一层镀膜（图3c）；下臂可根据需要旋转到另一单分子层的沉积池或空白沉积池中，改变沉积池（图3d）；下臂提起样品，传递给上臂（样品从任意一侧通过两个单分子层中任意一个），进行第二层镀膜（图3e）。图3 (a). 交替沉积池构造示意；(b). 样品在在夹具上；(c). 第一层镀膜；(d). 改变沉积池；(e). 第二层镀膜3. 技术参数3.1 常规交替型LB膜分析仪（KN2006）1. 槽体材质：固体烧结，无孔PTFE材质，快速限位孔固定，可拆卸清洗或更换为多种其他功能性槽体，含双侧导流槽，内置水浴系统接口2. 框体特性：33 mm槽体高度调节，天平可XYZ三维定位调节，含安全限位开关，含搅拌、pH测量、样品注射辅助系统等接口3. 系统设计：模块化设计，可独立进行表面压测量和镀膜实验，可原位进行表面红外、表面电势、布鲁斯特角图像、界面剪切等测试 4. 槽体表面积：587 cm2 (*2)5. 槽体内部尺寸：782 x 75 x 5 mm（长 x 宽 x高, *2）6. 滑障速度: 0.1-200 mm/min7. 滑障速度精度: 0.1 mm/min8. 测量范围：0-300 mN/m（铂金板）；0-1000 mN/m（铂金棒）9. 天平最大负荷: 1 g10. 天平定位调节： 360° x 110mm x 45 mm（XYZ）11. 传感精度: 0.1μN/m12. 表面压测试元件： 标准Wilhelmy白金板，W19.62 x H 10mm，符合EN 14370:2004国际标准。其他选项：Wilhelmy白金板（W10 x H10 mm）、液/液Wilhelmy铂金板（W19.62 x H7 mm）、Wilhelmy纸板、白金棒13. Langmuir-Blodgett测试槽亚相容积：1400 ml14. 镀膜井尺寸：半圆形,半径75 mm, 深度74 mm 15. 最大基材尺寸：3 x 30 x 50 mm 16. 镀膜速度：0.1 – 85 mm/min17. 电源： 100...240 VAC18. 频率： 50...60 Hz4. 产品优势及亮点4.1 产品优势1. 专为极度精确测试设计的超敏感表面张力传感器。铂金属板，铂金属棒及纸板都可用作探针以满足不同的需求。2. 开放性的设计便于槽体在框架上的放置及不同槽体的快速更换，同时便于清洗槽体表面。3. 当需要清洁或更换新槽体时，槽体在框架上的拆卸/放置极其方便。4. Langmuir-Blodgett槽体是由便于清洁、可靠耐久的整块纯聚四氟乙烯构成，其独特的设计能够防止槽体和镀膜井发生泄漏，同时避免了使用胶水及其他封装材料造成的潜在污染。5. 滑障由亲水性的迭尔林聚甲醛树酯制成，可提高单分子层的稳定性。可根据客户需要提供疏水性的聚四氟乙烯压缩滑障。稳健的金属构架能够防止滑障随着时间的推移而变形。6. 对称滑障压缩为标准的均匀压缩方法，但任意仪器均可实现单一滑障压缩。7. 居中的镀膜井有利于单分子层LB沉积的均一性。8. 通过外部循环水浴对铝制底板进行加热/冷却，以控制亚相的温度（水浴为分开销售）。9. 通过调整框架撑脚，可快速而准确地校准槽体水平。当需要放置显微镜时，框架撑脚也可很容易地从槽体上拆除。4.2 产品亮点4.2.1 联用或相关分析技术本产品可与界面红外反射吸收光谱仪(PM-IRRAS)，布鲁斯特角显微镜(BAM)，界面剪切流变仪（ISR），荧光显微镜，X射线等光学表征技术联用或对样品进行后续分析。具体如：1. 红外反射吸收光谱(KSV NIMA PM-IRRAS)2. 石英晶体微天平(Q-Sense QCM-D)3. 表面等离子共振仪4. 电导率测量仪5. 紫外可见吸收光谱仪6. 原子力显微镜7. X射线反射器8. 透射电子显微镜9. 椭圆偏振仪10. X射线光电子能谱仪等4.2.2 本公司可提供联用仪器简介1. 界面红外反射吸收光谱仪（PM-IRRAS）带极化模块的界面红外反射吸收光谱仪主要用来决定分子的取向和化学组成。2. 布鲁斯特角显微镜（BAM）可进行薄膜的均一性、相行为和形貌的单分子层成像和光学观测。3. 表面电位测量仪（SPOT）使用无损振荡板式电容技术来监测薄膜的电位变化，从而对单分子层的电学性质进行表征。提供堆积密度和取向等信息，可对任何Langmuir等温测试进行补充。4. 界面剪切流变仪（ISR）这种独特的剪切流变仪可以测量界面处的粘弹性。适用于气-液或油-水的研究，在控制表面压的同时，可对粘弹性进行分析。5. 产品应用5.1 应用范围l 生物膜及生物分子间的相互作用? 细胞膜模型（如：蛋白质与离子的相互作用）? 构象变化及反应? 药物传输及行为l 有机及无机涂料? 具有光学、电学及结构特性的功能性材料? 新型涂料:纳米管、纳米线、石墨烯等l 表面反应? 聚合反应? 免疫反应、酶-底物反应? 生物传感器、表面固定催化剂? 表面吸附和脱附l 表面活性剂及胶体? 配方科学? 胶体稳定性? 乳化、分散、泡沫稳定性l 薄膜的流变性? 扩张流变? 界面剪切流变（与KSV NIMA ISR 联用）5.2 客户发表成果（部分）1. Q. Guo et al., J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 630-631. (IF= 11.444)2. Kumaki et al., Macromolecules 1988, 21, 749-755. (IF= 5.927)3. S. Sheiko et al., Nature Materials 2013, 12, 735-740. (IF= 36.4)4. Q. Zheng et al., ACS Nano 2011, 5(7), 6039–6051. (IF= 12.033)5. Azin Fahimi et al., CARBON 2013, 64, 435 – 443. (IF=6.16)6. Xiluan Wang et al., J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 6338–6342. (IF= 11.444)7. Zhiyuan Zeng et al. Adv. Mater. 2012, 24, 4138–4142. (IF= 15.409)注：相关资料如有变化，恕不另行通知，瑞典百欧林科技有限公司对资料中可能出现的纰漏免责，更多资料欢迎来电询问。

AM1.5SF太阳模拟滤光片（AM1.5）特点：光谱匹配度A级标准AM1.5 A级太阳模拟器滤光片，用于校准太阳模拟器光谱主要作用：抑制氙灯原始近红外-红外光谱，校准其他波段光谱能量，与太阳模拟器配套，输出光达到AM1.5 A级匹配度瑞研联合研发中心设计镀膜生产因太阳模拟滤光片特殊性，本品可提供试用片常规尺寸：100x100mm；50x50mm；150x150mm等产品实测曲线AM1.5SF-A太阳模拟滤光片A型光谱实测曲线（参考对比某进口太阳模拟滤光片设计生产，并可完全替代，应用到太阳模拟器中，可达到A级光谱匹配度）

CuProtect工艺 - 美国专利8,945,343 B2-用施加的电压解封装。 具有铜线防护的化学芯片开封系统 ---- JetEtch Pro CuProtect Protecting Those Sensitive Copper Wires. It just got easier. With the price of gold at an all-time high, a current trend in the manufacturing of integrated circuits is the shift from gold to copper bond wires. With this shift, the failure analyst of these processors is now challenged to successfully attain package decapsulation by use of traditional methods.主要特征（Features）: Patented Bias Technology Advanced Software Affordable All JetEtch Pro Features The Old Methods. Historically, one would use an automated chemical decapsulation system to etch samples with copper wires — with minimal success. Even with a low-temperature nitric and sulfuric acid mixture, and even in combination with laser pre-opening, this process works to an extent, but is largely unreliable. When faced with a limited number of field failures, which is a common scenario in a failure analysis laboratory setting, less reliable processes can’t be counted on to deliver satisfactory failure analysis and visual inspection results.The Solution. To support manufacturers in making this shift so that failure analysis can still be performed on their most advanced and cutting edge products which now use copper wire bonding, Nisene Technology Group has developed a version of its new JetEtch Pro decapsulation system that is specifically designed to handle the processing of this sensitive material: the JetEtch Pro CuProtect — the latest in a series of innovative solutions for the failure analysis industry from Nisene.The Process. Using a proprietary and patented process, the JetEtch Pro CuProtect applies a bias to the solution being pumped to the sample in the process chamber. This bias creates a condition in which negatively-charged sulfate ions are attracted and temporarily bond to the surface of the copper wire while the sample is being etched. This temporary sulfate ion coating protects the copper wires from corrosion while the sample undergoes the etching process. The image to the right illustrates the operating principal behind the technique. Click on the image to open a larger version in a new window. In less sophisticated systems relying solely on low temperature etching, positively-charged hydrogen ions are attracted to the copper wires, thereby making the wires susceptible to pitting, cracking, breaking, and many other undesirable anomalous artifacts that greatly affect or even squelch completely the ability to perform failure analysis after the etching process. The Nisene Technology Group CuProtect system solves this problem.The Results. As illustrated in the images below, the advanced bias application process yields results that are unmatched in the industry. If you would like to see more examples of samples etched with the CuProtect, please contact us. The Software. “Surely something like this must be complicated to use and difficult to understand — right?” you ask. The answer to that is “of course not!” The system appears on the outside to be the same as the JetEtch Pro, but there is an added line in its decapsulation programming menu that allows the user to change the value of the applied bias. The range is 0 V (off or no bias) to 20.0 V, selectable in .1 V increments. The other differences between the CuProtect system and the JetEtch Pro — both in hardware and software — are hidden inside the system, so operating the CuProtect is exactly like JetEtch Pro and virtually transparent to a user. That is to say: learning curve is very small. There’s no need to learn anything new other than how much voltage to apply to your sample while it is etching. One additional parameter line. Not much to learn here!

产品简介：nikon尼康倒置金相显微镜MA100N可实现两种观察方式（明视场和偏光），可应用在汽车相关零部件检测，电子元件，工具等生产现场进行品质管理。坚固紧凑的设计/简单的操纵，是一款诚意度十分高的显微镜作品，高对比度的观察图像拍摄，高性能低成本的显微光学解决方案。概述尼康倒置金相显微镜MA100N可实现两种观察方式（明视场和偏光），应用在汽车相关零部件检测，电子元件，工具等生产现场进行品质管理。坚固紧凑的设计/简单的操纵诚意度十分高的显微镜作品，高对比度的观察?图像拍摄，高性能低成本的显微光学解决方案。产品特点紧凑的设计ECLIPSE MA100N，可做明场及偏光观察，金属组织及电子部件，材料领域的现场生产和质量管理部门的质量检查，坚牢紧凑的设计，简单的操作，免维护的LED照明，高对比度的观察，可摄像的小型倒立显微镜。高亮度LED照明采用了高亮度LED照明，和以前的卤素灯比较，消费电力只占卤素灯的约1/3，使用时间约为30倍，维护性和易用性特别的提高。即使光量改变颜色温度的变化也少，稳定的观察变成可能。坚固耐磨的载物台MA100N专用载物台，新开发的3层构造，可承受较大及较重的样品，提供出色的耐久性使用。

主要简介： Photron集团公司是日本大型相机，视频，软件控制供应商，其旗下的高速/超高速摄像机业务应用非常广泛，欧屹科技代理的是其旗下KAMAKIRI品牌的双折射/残余应力测量设备，其高速相机CCD芯片与Photonic Lattice公司的偏光阵列片完美结合，研制在线双折射/残余应力测量仪，世界上仅有KAMAKIRI可以提供，广泛应用于光学薄膜，PVA,PC,COP和TAC等领域。 主要特点：STS的低配版，可升级STS 。 操作简单，可以调整色彩显示更直观的了解双折射分布。 记录双折射的数值数据，以进行进一步详细分析。应用领域：相位差薄膜（TAC/PC/PMMA/COC）保护薄膜（PET/PEN/PS/PI）树脂成型玻璃 技术参数：项次项目具体参数1输出项目相位差【nm】，轴方向【°】2测量波长543nm（支持客制化）3双折射测量范围0-260nm（支持客制化）4主轴方位范围0-180°5测量重复精度1nm（西格玛）6测量尺寸A4(标准)7定制选项可定制大载台

玖德隆丁基胶片材生产线_丁基胶尼片材设备产品特点（1）优异的机械性能：粘结强度、抗拉强度高，弹性、延伸性能好，对于界面形变和开裂适应性强。（2）稳定的化学性能：具有优良的耐化学性，耐候性和耐腐蚀性。（3）玖德隆丁基胶片材生产线_丁基胶尼片材设备可靠的应用性能：其粘结性、防水性、密封性、耐低温性和追随性好，尺寸的稳定性好。（4）施工操作工艺简单玖德隆丁基胶片材生产线_丁基胶尼片材设备丁基防水密封胶带（1）优异的机械性能：粘结强度、抗拉强度高，弹性、延伸性能好，对于界面形变和开裂适应性强。（2）稳定的化学性能：具有优良的耐化学性，耐候性和耐腐蚀性。（3）可靠的应用性能：其粘结性、防水性、密封性、耐低温性和追随性好，尺寸的稳定性好。（4）施工操作工艺简单玖德隆丁基胶片材生产线_丁基胶尼片材设备适用范围（1）新建工程的屋面防水、地下防水、结构施工缝的防水处理及高分子防水卷材搭接密封。（2）玖德隆丁基胶片材生产线_丁基胶尼片材设备市政工程中的地铁隧道结构施工缝的密封防水处理。（3）彩色压型板接缝处的气密、防水、减震。阳光板工程中接缝处的气密、防水、减震。

如同当年的JetEtch一样，Nisene公司最新一代的全自动湿法化学芯片开封系统JetEtch Pro再一次以杰出的安全性与性能引领行业。 美国Nisene科技集团有限公司从事集成电路失效分析的自动开封装置研发超过40年，拥有多项电化学及微波等离子开封机技术的专利。CuProtect工艺 - 美国专利8,945,343 B2-用施加的电压解封装。 TotalProtect Process - 美国专利9,543,173 B2-用施加的电压和冷却系统解封装。 PlasmaEtch Process - 美国专利9,548,227 B2 - 使用等离子体放电管的微波诱导等离子体。引领行业的化学芯片开封系统----JetEtch Pro 美国 Nisene Technology Group 生产的 JetEtch 自动开封机，可采用双酸刻蚀，并利用负压喷雾技术进行刻蚀。根据不 同的器件封装材料和尺寸，可设定不同的试验条件，进行定位刻蚀。主要可设置的试验参数包括：采用刻蚀酸的种 类、刻蚀酸的比例、蚀刻温度、蚀刻时间、酸的流量(酸的用量)、清洗的时间等。同时采取漩涡喷酸的方式，可大 大降低用酸量，从而能够比较精确地去除掉芯片表面的封装材料，达到较好的开封效果。根据器件的不同封装形式， 可选取不同封装开口模具，可控制开口的位置和大小，目前配有的开口模具有多种，基本满足目前的封装需要，如 适用 DIP／SIP，PLCC，OFP，PBGA，芯片倒装 BGA 和 S0 小外型封装。 Nisene 是世界领先的专注从事失效分析自动开封、IC 芯片去层、塑封蚀刻技术研究和设备制造的美国公司，有着 28 年的自动开封和蚀刻研发制造历史， Nisene 科技公司很荣幸的介绍我们的新一代性酸液自动化开封 机 (Decapsulator)。我们命名为 JetEtch pro，正如其名，一个符合当今 IC 封装之开封机设计要求，新型 Jetetch 第二代的开封机秉持着我们对半导体去除处理的一贯的承诺证明了 Nisene 科技公司为符合现在直至来失效分析专业需求而 提供创新，高质量设备产品的传统； 今日 JetEtch pro 硬件，操作系统和软件完全重新设计并保留了以前熟悉的、精 密的设计以呈现比以往更灵活设计的开封机。 JetEtch pro 操作简易、直觉的软件透过简单编程的顺序逐步引导操作 员。一但设定完成，只以二个击键便使软件能完成一整个蚀刻程序。？JetEtch Pro自动解封装置作用和特点：基于以下原因，我们需要将IC塑封材料进行去除： 1. 检查IC元件为何失效； 2. 执行质量控制检测和测试； 3. 为了研发的要求对芯片的设计进行修订。 最初出现的是手动开封，为了检查芯片的一些缺陷而手动去除芯片外面包裹的塑封材料。但是手动开封存在着安全性不够高，重复性较差，精度控制非常低，开封速度不够快等问题。为此在这个基础上NISENE研制出自动开封机JetEtch Pro，以解决手动开封存在的问题。JetEtch Pro系统通过用酸腐蚀芯片表面覆盖的塑料能够暴露出任何一种塑料IC封装内的芯片。去处塑料的过程又快又安全，并且产生干净无腐蚀的芯片表面。整个腐蚀过程是在一定压力下的惰性气体中完成的，不但能降低金属氧化而且降低了产生的废气。这套系统被设计成在极少培训的条件下安全并易于使用。 JetEtch pro CuProtect 一些特性和优点表现如下： 1. 铜线开封技术，专利的离子保护铜线技术。2. 一条高亮度六线字母数字的显示在所有情况排烟柜的照明下保证绝佳的可见性；3. JetEtch pro CuProtect 为不同的构装类型可充分地编辑程序和存放 100 组蚀刻程序。JetEtch pro CuProtect 在产业呈 现的准确性和功能性无可匹敌；4. 温度选择和自动精确温度检测；升降温时间快，硝酸与硫酸的切换使用只需很小的时间；5. JetEtch pro CuProtect 酸混合选择：JetEtch pro CuProtect 软件可以使用硝酸、硫酸或混合酸，另含 13 组混酸比率；6.具有专利技术的泵浦可以达到精准酸的配比和最快的腐蚀效率7. 蚀刻剂混合选择确保准确性及重复率，1ml~6ml/sec 的酸量选择能提供更好的腐蚀效果；8. 专利 JetEtch pro CuProtect 电气泵和蚀刻头配件组；9. 蚀刻剂流向选择：涡流蚀刻和脉冲蚀刻，JetEtch pro CuProtect 废酸分流阀；10. 不会有机械损伤或影响焊线；不会有腐蚀性损伤或影响外部引脚；可以选择硝酸、冷硫酸进行冲洗或不冲洗；11. 无需等待，完全腐蚀一颗样品最多只要 1~2 分钟；12. 通常使用的治具会与设备一同提供；通常情况不需要样品制备；13. 酸和废酸存储在标准化的酸瓶中；14. 设备小巧，只需很小的空间摆放；安全盖净化：安全、简单、牢靠。例子：详细参数：尺寸主机(mm/英寸) 290 高 x 290 宽 x 419 深 / 11.5 高 x 11.5 宽 x 16.5 深瓶柜(mm/英寸) 230 高 x 110 宽 x 110 深 / 9 高 x 4.25 宽 x 4.25 深 重量 (KG/磅)17 / 38 (包含瓶柜和附件) 电源350 W @ 95 - 130 VAC or 350 W @ 210 - 250 VAC 压缩空气/氮气要求压缩空气 4.2 kg/cm2 / 60 –100 psi氮气供应 2.8公升/分钟 / 0.1 立方英尺/分钟 可用的蚀刻液蚀刻液流量:脉冲模式1、2、5或1-10mL/min 涡流模式1-6mL/min烟硝酸烟硫酸硫酸（浓缩试剂）硝酸：硫酸混合比例：6:1, 5:1, 4:1, 3:1 硫酸：硝酸混合比例 6:1, 5:1, 4:1, 3:1 温度范围硝酸 20 – 90(°C)硫酸 20 – 250(°C)混合酸 20 – 100(°C) 蚀刻时间和方式(用户可选)1–1800秒可调，1秒的增量脉冲蚀刻模式, 涡流蚀刻模式程序容量: 100,用户自定义 升温时间(用户可选)0 – 120 秒可调，1秒的增量 清洗硫酸、硝酸，无须清洗 储液器500mL或1升瓶33/38/40/45mm盖的尺寸4个瓶子: 2个装酸, 2个装废液 证书CE证书, SEMI S-2-93, SEMI S-2-2000

CellASIC ONIX2微流控细胞芯片分析仪将长期动态细胞培养与活细胞延时成像技术的结合在一起，通过微培养控制器精确调控细胞生长区域的温度和气体成分，完全摆脱了外置培养箱的限制，实现了显微镜下对细胞的长期持续观察。CellASIC ONIX2与显微镜搭配示意图 四个组件：控制仪、芯片培养板、多重控制面板、操控软件。操控软件：灵活编辑特定的实验顺序；一键启动，全程自动化；芯片培养板：适用所有倒置显微镜，可快速进行气体交换；多重控制面板：密闭系统，实现气体调控；加热器对预混气体加热；控制仪：持续灌流；精确调控液流种类、速度、时间等条件；软件设定温度，并自动调节；同时输入过滤气体。1.芯片培养板上的微流控设计：检测活细胞对预设的液流体系、温度以及气体环境变化的反应。CellASIC ONIX2微流控芯片具备高精度活细胞成像与多功能分析的系统特征。系统特征：可同时进行四个独立的加药实验。适用于所有倒置显微镜。底板为超薄玻璃质地，保证图像清晰度。对液流、气体以及温度实现动态精确控制。层流设计可以快速进行液体交换并实现标准化梯度设定。液流管路间隙保证系统与细胞间的持续物质交换并避免了流体压力的产生2.密闭微环境可灵活设定实验条件不同细胞类型对生长环境的要求不同，CelIASIC ONIX2微流控培养板针对哺乳动物、细菌、酵母等进行*设计，优化细胞生长环境，在活细胞动态监测，特别是长期持续观察实验中，确保为细胞生长提供稳定的良好微环境，满足您不同的实验需求。3.人性化设计，操作简单直观利用"load-and-go"微流控培养板，只需几分钟就可以轻松获取数据。软件实现全程自动化操作，实验步骤简单易行。 产品应用：CellASICONIX2 平台帮您实现真正的动态细胞生物学研究。已有的大量实验数据显示，利用这一平台可以精确调控动态实验进程，实验结果准确可靠，令您在不同的生物学领域中获得前所未有的体验。1.3D细胞培养2.荧光蛋白示踪3.神经干细胞成像4.细胞自噬5.宿主与病原体间的相互作用6.细菌单细胞反应7.酵母单细胞反应8.生物膜9.药物反应监测其他应用领域看得见的细胞周期细胞骨架与极性改变免疫细胞相互作用脉管生物学干细胞分化模拟肿瘤组织低氧环境细胞浸润与迁移活细胞RNA、miRNA灵光产品订购信息：

SpectraLab Scientific 提供大量翻新分析化学仪器（各种不同配置）的现货！名声一流，专业技术支持，有质量保证！珀金埃尔默ATD自动热脱附于TurboMatrix与在线取样新TurboMatrix热脱附是来自珀金埃尔默珀尔帖冷却2级脱附线的最新的，并且包含所有的ATD400缺少的功能。它有单管和50管自动进样版本。在线取样：系统环境空气，气体在线采样流或罐。包括试样质量流量控制器控制，全氟磺酸干燥，干燥的空气净化控制。流选择器样品和校准物之间自动切换。热解吸仍然可以用于管脱附。这套系统的状态非常好。SpectraLab Scientific 已经测试过。欢迎来电或邮件咨询详情！价格面议。

组织微阵列制作仪产品简介：组织芯片微阵列制作仪（TMA）是利用高通量TMA点样技术，研究者将受体和供体蜡块放好后，通过钻孔、取样、注芯等系列步骤，根据不同需求组合出各种组织微阵列。产品特点：★ TMA-1它是一种小型、手动的组织芯片仪。★ 经久而用，同轴针的设计能够极大限度的保证所取组织的完整性，使得研究人员日常制组织芯片的工作更加简单容易。 自动组织微阵列制备仪产品简介：组织芯片微阵列制作仪（TMA）是利用高通量TMA点样技术，研究者将受体和供体蜡块放好后，只需在控制电脑上设定取样点及微阵列图形，系统自动完成钻孔、取样、注芯等系列步骤，所设定的参数可自动保存，下个工作流程直接调用。技术特点是体积小且信息量大，并且允许研究人员根据不同需求组合出各种组织微阵列。产品特点：★ TMA-AUTO是一款半自动组织芯片仪。 ★具有设计紧凑奏、操作简便、即装即用。 全自动组织微阵列制作仪产品简介：组织芯片微阵列制作仪（TMA）是利用高通量TMA点样技术，研究者将受体和供体蜡块放好后，只需在控制电脑上设定取样点及微阵列图形，系统自动完成钻孔、取样、注芯等系列步骤，所设定的参数可自动保存，下个工作流程直接调用。技术特点是体积小且信息量大，并且允许研究人员根据不同需求组合出各种组织微阵列。产品特点：TMA-X是最小的全功能全自动TMA，与半自动 TMA-Auto一样灵活。采用类似TMA-10C的可互换适配器概念，允许用户进行以下组合∶★ 1个受体蜡块和3个供体蜡块★ 2个受体蜡块和2个供体蜡块★2个受体蜡块和1个超级供体蜡块与一个标准供体蜡块 全自动智能微阵列制备仪产品简介：组织芯片微阵列制作仪（TMA）是利用高通量TMA点样技术，研究者将受体和供体蜡块放好后，只需在控制电脑上设定取样点及微阵列图形，系统自动完成钻孔、取样、注芯等系列步骤，所设定的参数可自动保存，下个工作流程直接调用。技术特点是体积小且信息量大，并且允许研究人员根据不同需求组合出各种组织微阵列。产品特点：TMA-10C是目前国际上最先进、智能化最高的全自动组织芯片仪。★ 可以有效的帮助科研工作者解决 TMA 制片问题。★一次最大上载 10 个蜡块。★同轴针共五种尺寸∶ 0.6mm，1mm，1.5mm，2mm，2.5mm。 效果展示：

人体器官芯片是2010年诞生的一项变革性生物医学新技术，人体器官芯片指的是一种在芯片上构建的器官生理微系统，它以微流控芯片为核心，通过与细胞生物学、生物材料和工程学等多种方法相结合，可以在体外模拟构建包含有多种活体细胞、功能组织界面、生物流体和机械力刺激等复杂因素的组织器官微环境，反映人体组织器官的主要结构和功能特征。它可在体外模拟人体不同组织器官的主要结构功能特征和复杂的器官间联系，用以预测人体对药物或外界不同刺激产生的反应，在生命科学和医学研究、新药研发、个性化医疗、毒性预测和生物防御等领域具有广泛应用前景。（一）功能应用 Kirkstall Ltd.专利技术的Quasi Vivo器官芯片微生理系统又称为微流体“芯片上器官”系统，具有相互连接的细胞培养单元，为类器官生长提供更具生理相关性的体内微环境。 （二）性能特点Quasi Vivo 作为一种先进的器官芯片系统，专门设计用于解决学术和工业研究人员在开展体外和体内研究时遇到的主要问题，具有下列性能优势： 功能延展性强允许独立、可控的空气、气体或液体层流流向顶端和基底外侧 满足多器官共培养，细胞间的信号传递等实验要求可选择气液界面，液液界面，支架和流动方案的多样化培养方式 成像友好；易于获取样本 模拟生物力学和浓度梯度便携和易于操作，占地面积小，节省空间，可兼容标准实验室的孵化器 （三）产品应用案例及发表文献1) Berger E, Magliaro C, Paczia N, Monzel AS, Antony P, Linster CL, Bolognin S, Ahluwalia A, Schamborn JC. Millifluidic culture improves human midbrain organoid vitality and differentiation. Lab Chip, 2018, 18, 3172-3183.在本研究中，作者建立了一个在Kirkstall Quasi Vivo器官芯片微流体条件下稳定的脑类器官培养物，并将其与使用计算流体动力学（CFD）和常规实验方法中的连续轨道振荡方法进行了比较。CFD分析是为了确定在两种实验装置中计算出的氧气量的差异是否可以用来解释在两种条件下培养的类器官中观察到的任何差异。这一比较显示了培养质量的改善，包括一个减少的“死核心”，并被模型证实，并增加了多巴胺能分化。在本研究中，作者使用upcyte人肝细胞在体外生成肝类器官，在Kirkstall Quasi Vivo器官芯片中进一步培养10天后，这些肝类器官表现出典型的肝实质功能特征，包括细胞色素P450、CYP3A4、CYP2B6和CYP2C9的活性，以及一些标记基因和其他酶的mRNA表达。 3) Cancer cells grown in 3D under fluid flow exhibit an aggressive phenotype and reduced responsiveness to the anti-cancer treatment doxorubicin, Tayebeh Azimi, Marilena Loizidou & Miriam V. Dwek ,Scientific Reports volume 10, Article number: 12020 (2020)在该实验过程中，癌细胞被制备成一个密集的3D团块，创造了一个在Kirkstall Quasi Vivo器官芯片流体流动条件下的肿瘤类器官，将肿瘤类器官暴露于流体和压力的生理条件下，会导致其生长、形态和对化疗挑战的敏感性的变化。该模型系统为组织密度和流体流动的作用提供了关键证据，并为使用3D模型作为癌症药物测试平台的研究人员提供参考。 4）Geddes, L., Themistou, E., Burrows, J. F., Buchanan, F. J., & Carson, L. (2021). Evaluation of the In Vitro Cytotoxicity and Modulation of the Inflammatory Response by the Bioresorbable Polymers Poly(D,L-lactide-coglycolide) and Poly(L-lactide-co-glycolide). Acta Biomaterialia, 134, 261-275. 医疗设备必须进行一系列的测试，以确保其在临床使用中是安全的，这些测试由国际标准化组织（ISO）规定。每个医疗设备都需要进行细胞毒性分析，这通常是体外生物相容性测试的第一步。这些测试提供了一种高效的方法来确定一种物质或一种物质对活细胞的细胞毒性，然而，它们的使用有限，因为它们不能用于确定细胞死亡的原因。在生物材料开发的早期阶段测试体外免疫反应目前还没有纳入标准程序。深入了解体外细胞对生物材料的反应将有助于早期检测和预测潜在的不良反应。为了复制体内环境和增加生理相关性，本文作者采用了Kirkstall Quasi Vivo“芯片上的器官”流动培养系统，用于测试聚合物样品。 （四）产品用户概况全球使用Kirkstall Quasi Vivo器官芯片微生理系统的学术及研究机构已超过100+个，遍布美国、英国、法国、瑞典、奥地利、意大利、荷兰、瑞士、日本等。目前器官芯片微生理系统已成功用于以下类器官模型的构建： （五）品牌制造商简介Kirkstall Ltd. 成立于2006 年，是 Braveheart Investment Group plc 的子公司，总部位于英国约克。Kirkstall开发了一种创新的微生理系统的器官芯片模型Quasi Vivo。作为器官芯片技术的领导者，Kirkstall已经建立了牛津大学生物医学工程研究所等著名的大学实验室的庞大用户群，产品在全球范围内享有盛誉。 北京基尔比生物科技有限公司是Kirkstall ltd.授权在中国的唯一和独家总代理商，全面负责Kirkstall公司旗下所有产品在中国的销售，市场推广和技术支持等事宜。

Molecular Devices 公司出品的 CMax Plus 是一款专门为科研实验室量身打造的灵活且强大的微孔板读板机，具备终点法和动力学检测模式，标配6滤光片模式覆盖蛋白定量、细胞活力、农药残留、各种ELISA实验等。CMaxPlus 兼容平底和圆底两种类型的96孔板。检测以前光源的自动校正功能保证实验结果的准确。CMax Pro 软件既可以控制仪器也可进行数据分析。超强的处理软件，可方便设置各种参数，如版型布局,线性、对数、四参数等多种曲线拟合，定性分类等，自带动力学数据库，方便数据的和查询，数据可直接导入到 Excel 中；用户可自定义检测模板，建立适合自己的各种检测参数，方便调用。主要特点 ● 标配6位滤光片，8个滤光片位置 ● 长寿命光源，寿命自动侦测功能 ● 终点法、动态学法 ● 检测范围：0-4 OD ● 检测器通道：8位检测器通道 ● 震荡：支持应用领域ELISA、总蛋白检测、报告基因检测、磷酸酶/激酶检测、血小板聚集研究、终点法LAL内毒素分析、细胞因子确定以及以及进行各种细胞活力、增殖和细胞毒性检测等。实验举例随着光吸收法可以满足越来越多的应用检测领域，终点法读板机在实验室中的占有率也越来越高。例如ELISAs方法进行细胞因子定量和 Bradford 法进行蛋白定量，Molecular Devices 公司新的滤光片单功能光吸收产品 CMax Plus 微孔板读板机，具有更多滤光片波长可选择，无论是针对不同波长 ELIA 检测实验，还是不同类型的蛋白定量检测实验，均可以在无需更换滤光片的情况下完成检测。