截面抛光

氩离子截面抛光仪 (Cross Section Polisher，简称CP)，凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践，是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域变革性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来，在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来，在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工，用其他方法难以制备的样品，软硬材质混合的复合材料，都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外，被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。2017年1月JEOL推出新一代可监控智能化加工产品，型号IB-19530CP，加工质量和方便性大大提高。

【Gatan】697 Ilion II Datasheet 宽束氩离子抛光系统 品牌： GATAN 名称型号：氩离子抛光系统Ilion II 697制造商： GATAN公司经销商：欧波同有限公司产品综合介绍 产品功能介绍氩离子抛光系统是一个用于样品的截面制备及平面抛光的桌面型制样设备，以便样品在SEM及其它设备上进行检测分析。可利用IlionII进行抛光加工的材料种类十分广泛，包括由多元素组成的试样，以及具有不同的机械硬度、尺寸和物理特性的合金、半导体材料、聚合物和矿物等。如焊缝截面，集成电路焊点，多层薄膜截面，颗粒、纤维断面，复合材料、陶瓷、金属及合金、岩石矿物及其他无机非金属等各种材料的SEM、EBSD样品。品牌介绍美国Gatan公司成立于1964年并于70年代末进入中国市场。Gatan公司以其产品的高性能及技术的先进性在全球电镜界享有极高声誉。作为世界领先的设计和制造用于增强和拓展电子显微镜功能的附件厂商，其产品涵盖了从样品制备到成像、分析等所有步骤的需求。产品应用范围包括材料科学、生命科学、地球物理学、电子学，能源科学等领域， 客户范围涵盖全球的科研院所，高校，各类检测机构及大型工业企业实验室，并且在国际科学研究领域得到了广泛认同。经销商介绍欧波同有限公司是中国领先的微纳米技术服务供应商，是一家以外资企业作为投资背景的高新技术企业，总部位于香港，分别在北京、上海、辽宁、山东等地设有分公司和办事处。作为蔡司电子显微镜、Gatan扫描电子显微镜制样设备及附属分析设备在中国地区最重要的战略合作伙伴，公司秉承“打造国内最具影响力的仪器销售品牌”的经营理念，与蔡司，Gatan品牌强强联合，正在为数以万计的中国用户提供高品质的产品与国际尖端技术服务。 产品主要技术特点氩离子抛光系统采用两支具有低能聚集的小型潘宁离子枪，可提供快速柔和的抛光效果。低至100eV的离子束提供更柔和的抛削效果，用于样品的终极抛光。新型低能聚焦电极使得离子束的直径在几乎整个加速电压范围内都保持恒定。每个枪都可准确独立地将离子束对中在样品上，从而产生极高的离子抛光速率。在操作过程中，可随时改变枪的角度。通过控制气体流量可将枪电流变化范围控制在0~100mA之间。在触摸屏上通过手动或者自动方式调节气体流量使每个枪的工作电流得到最优化。 集成的10英寸彩色触摸屏计算机可对Ilion II的所有操作参数进行完全控制。此界面不仅可以设定所有参数并能够监控抛光过程。所有的操作参数还可以存为配方，调用配方可获得高精度重复实验。 涡轮分子泵搭配两级隔膜泵保证了超洁净环境。Gatan专利的气动控制Whisperlock技术能实现快速样品交换（ 1分钟），省去了换样过程中必须完全泄真空至大气的烦恼。1. 气锁装置实现快速样品交换、始终保持洁净的高真空状态2. 10英寸触摸屏可对系统进行完全控制与监测3. 配方模式的控制界面，用于一键操作4. 质量流量控制器提供精确和可重复的氩离子电流的控制5. 枪电压范围为100V到8000V的三元（阴极、阳极与聚焦极）构造潘宁离子枪6. 每个枪的抛光角度可调范围为-10度~10度，增量为0.1度7. 扇形抛光角度可变且可程序化，范围从10度~90度8. 离子枪无需零件更换，寿命超过30,000小时9. Gatan专利的样品/挡板配置，装样简单，再次抛光位置准确10. 独特的离子束调制功能，可进行扇形抛光和平面抛光11. 洁净的真空系统，分子泵与隔膜泵搭配12. 操作简单，维护方便 抛光前- 俯视SEM图CuInSe2样品 抛光90S后SEM 图 CuInSe样品 产品主要技术参数： 1、 离子枪：两个配有稀土磁铁的三元构造（阴极、阳极与聚焦极）潘宁离子枪，聚焦离子束设计,高性能无耗材2、 抛光角度： +10° 到 -10° ，每个离子枪可独立调节3、 离子束能量：100 V 到 8.0 kV4、 离子束流密度：10 mA/cm2 峰值5、 抛光速度：300 μm/h（8.0 kV条件下对于硅试样）4.2样品台6、 样品装载： Ilion专利的样品挡板, 装样简单，再次抛光位置准确，可重复使用，配合Sample Stub可直接转至SEM中观察 7、样品旋转：0.5到6 rpm连续可调8、束流调制：独特的离子束调制功能，可进行扇形截面抛光（扇形角度为10到90度可调）和平面抛光。9、样品观察：数码变焦显微镜，配有PC及Digital Micrograph软件采集图像，通过Gatan Digital Micrograph软件可进行实时成像（300x–2,200x）与图像存储和分析10、液氮冷台：配置液氮冷台，样品最低温度可达-120°C,有效减少离子束对样品造成的损伤 4.3真空系统11、干泵系统：两级隔膜泵支持80升/秒的涡轮分子泵12、压力：5x10-6 托基本压力，8.5x10-5托工作压力13、真空规：冷阴极型，用于主样品室；固体型，用于前级机械泵14、样品空气锁： 独特的Whisperlok设计，样品更换时间1Min，无需破样品室真空4.4用户界面15、10 英寸触摸屏： 操作简单，且能够完全程序化控制所有参数可进行配方操作。16、配方操作模式：自定义不同的加工参数组合，实现一键操作。 产品主要应用领域： EBSD样品制备截面样品制备金属材料（合金，镀层）石油地质岩石矿物光电材料化工高分子材料新能源电池材料电子半导体器件PCB电路版截面抛光SEM图镀锌钢板截面抛光Zn晶粒 Fe晶粒

氩离子截面抛光仪 (Cross Section Polisher，简称CP)，凝聚了日本电子科技人员多年的梦想与实践，是扫描电镜、电子探针、俄歇电镜、EBSD分析等应用领域变革性创新发明。自2004年日本电子发明该仪器以来，在全世界迅速普及。用CP切割截面的方法甚至已经成为一种加工方法-CP法被定义下来，在很多论文里度可以查到。氩离子截面抛光仪顾名思义是使用氩离子束轰击样品表面进行样品加工，用其他方法难以制备的样品，软硬材质混合的复合材料，都能够制备出完美光滑的截面。除了表面极为平整外，被加工区域变形小、损伤小、无异物介入、结构无破坏是其主要特点。2017年1月JEOL推出新一代可监控智能化加工产品，型号IB-19530CP，加工质量和方便性大大提高。

产品详情IB-19530CP　截面样品制备装置 为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。 主要技术指标离子加速电压2～8kV刻蚀速率500μm/h承载样品的最大尺寸11mm(宽度)×10mm(长度)×2mm(厚度)样品摆动功能刻蚀过程中，样品自动摆动±30° (专利：第4557130号)自动加工开始模式达到设定的压力值后可自动开始加工。间歇加工模式脉冲控制离子束流照射，可以抑制加工时产生的热量。精抛加工模式主加工结束后，自动开始精抛加工。 *产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更。 产品特点：为了满足市场多样化的需求，IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台，通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。根据需要可以选择不同的功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。 ◇ 高通量 通过配备高速离子源和利用自动开始加工功能，不需花费时间等待加工开始，短时间内就能刻蚀。◇ 自动加工程序 快速加工和精抛加工可以程序化，短时间内就能制备出高质量的截面。此外，利用间歇加工模式，还能抑制加工温度。◇ 设置简单 功能性样品座采用模块化设计，在光学显微镜（另售）下也能调整加工位置。◇ 多用途样品台 通过选择各种功能性样品座，不仅能截面刻蚀，还可以进行平面刻蚀、离子束溅射镀膜等。◇ 高耐久性遮光板 遮光板的耐久性是旧机型的3倍左右，能支持高速率加工和长时间刻蚀。

一、产品特点： 1、加工面积大：样品尺寸：0~?25mm； 2、样品表面更均匀； 3、加工时样品表面能量低，特别对于薄膜、高分子样品（对温度敏感性高的样品）损伤小； 4、控制精度高，实验结果精准可控重复性高； 5、配备专用截面样品台； 6、可实现多种功能：离子减薄、等离子清洗、截面样品抛光、离子刻蚀、EBSD样品制备； 7、专用挡板； 8、制备单个样品可实现不同能量自动调整； 9、数字化自动控制系统。二、技术参数： 1、真空度：极限真空度5*10-3Pa （不通氩气）； 2、*高压：（1）200~10000V； 3、样品台可旋转； 4、具有自保护功能； 5、双离子枪可独立控制； 6、样品冷却：半导体冷却（ 选配件）。

动态库存，如有需要，欢迎咨询二手-日本电子截面抛光仪 -JEOL IB-09010CP质量过硬 售后完善 品质高

请联系：张先生通过抛光液和抛光垫的配合使用，对晶圆的表面进行抛光加工。

COXEM CP-8000+ 氩离子抛光是一种先进的样品制备工具，可使用氩离子束蚀刻样品的横截面。 该过程避免了物理变形和结构损坏，不需要复杂的化学过程。此外，该系统通过处理从几十微米到几毫米的大面积，简化了样品的横截面分析。 特 点● 每小时 700 μm 的高蚀刻速率（基于 Si，8 kV）● 能够保存/加载常用的配方● 具有自动执行功能的逐步操作配方● 使用智能样品架轻松装载样品● 通过腔室摄像头实时观察离子束状态和蚀刻状态● 便捷的操作——直观的GUI和简单的触摸屏● 通过离子束自动开/关功能减少热损伤● 使用内置数字显微镜通过离子束快速方便地对准样品● 配备低噪、隔振、无油隔膜泵● 具备平面铣削功能，可进行大面积平面蚀刻 CP抛光基本原理机械抛光 VS CP抛光 如果使用机械抛光装置进行抛光，由于物理损伤和污染，很难检查横截面的确切状态，但当使用离子束通过 CP 进行横截面加工时，可以观察微表面结构，样品无结构损坏和污染。 FIB 抛光 VS CP抛光 与聚焦离子束 (FIB) 相比，使用 CP-8000+ 蚀刻同一样品的截面时，您可以在更短的时间内蚀刻更宽的横截面，从而极大地节省时间和成本。 以下图像是同一样本在同一时间段内以两种不同方式（FIB 和 CP）铣削的结果。 数码显微镜 使用数字显微镜，可以通过屏幕轻松对准离子束的位置和样品的位置。仓室内摄像头 您可以通过腔室内的摄像头检查离子束的状态，并实时检查截 面蚀刻的程度。自动离子束开/关模式 该功能旨在通过根据设置的离子束开/关计时器打开和关闭离子束，减少离子束造成的热损伤。在蚀刻聚合物和纸张等热敏样品时，它对于获得准确的横截面条件非常有用。配方模式 常用的蚀刻条件可以存储在配方列表中，以便在需要时轻松应用设置值。此外，还可以使用分步模式来存储多个配方并自动执行它们来蚀刻样品。 平面抛光模式 CP-8000+ 可以使用专用支架在平面上处理样品。 当样品安装在专用支架上并使用平面铣削功能时， 离子束会基于旋转中心轴蚀刻几个平方毫米的区域。 在此刻，由于抛光速度、面积和深度根据离子束 撞击样品表面的入射角而变化，因此应通过旋转和调整样品的角度来实现均匀的表面抛光。 由于离子束照射的面积较大，可以蚀刻氧化层或异物，因此可用于大面积样品的预处理。 产品参数 加速电压2 to 8kV抛光速率700㎛ /h (at 8kV on Si wafer)样品台摆动角度±35° 尺寸20(W) × 10(L) × 5.5(T)mm16(W) × 10(D) × 9.5(H)mm样品移动范围X axis movement : ±1.5mm / Y axis movement : ±2mm平面样品台倾斜角度范围40° to 80°平面台样品尺寸Ø 30 × 11.4(H)mm操作方式7 inch 触控屏用于样品定位的数码显微镜Mag. x5, x10, x20, x40 用于监控的室摄像机Mag. x5, x10, x20, x404档亮度调节离子束观察模式(LED Off离子枪气体Argon gas (99.999%)气压0.1 Mpa (14.5psi)气压控制Mass Flow Control真空系统分子泵, 隔膜泵外形尺寸607(W) × 472(D) × 277.5(430.5)(H) mm重量主机 36kg / 隔膜泵 6.5kg 特点Auto Beam On/Off modeStep by step mode

PELCO Tripod PolisherTM 590由IBM East Fishkill实验室的研究人员设计，以准确地制备预先指定的微米尺度区域的透射电镜和扫描电镜样品。对于TEM样品，该技术已成功地用于将离子研磨时间限制在15分钟以内，并且在某些情况下，消除了离子研磨的需要。尽管这项技术是为制备半导体横截面而设计的，但它已被用于从陶瓷、复合材料、金属和地质样品等不同材料制备平面图和横截面样品。590 TEM– 用于TEM样品减薄，避免用手裸磨而容易造成的样品破碎；同时提升研磨薄度，有效减少后续离子减薄所需的制备时间590 SEM- 用于SEM样品制备，避免手磨容易造成的歪斜问题，有效提供制备精度、减少制备所需时间，从而大大提高效率590 TS– 结合590 TEM与590 SEM 双重功能，达到一机多用操作-标准法PELCO Tripod PolisherTM 590可制备用于扫描电镜和透射电镜横截面分析的样品。为此，在PELCO Tripod PolisherTM 590的带槽的L形支架上夹放一个特殊的扫描电镜样品座，将样品置于其上。首先，在15μm粘合金属的金刚石盘上进行初步研磨，再依次使用30μm到0.5μm系列尺寸的金刚石膜进行研磨和抛光，最后用二氧化硅悬浮液完成抛光过程。在研磨过程中，通过后面的两个千分尺调整抛光面。使用倒置显微镜进行定期检查，调整抛光面，直至其与感兴趣面平行。此时，可将扫描电镜样品座移至离子研磨机中进行快速研磨，以去除细微的划痕、抛光碎屑，在扫描电镜分析前得到样品表面形貌。扫描电镜样品座可直接放入扫描电镜分析。分析完成后，制作同一区域的透射电镜样品。从扫描电镜样品座上取下样品，贴在单孔TEM栅网上。拆下带槽的L形支架，将TEM栅网置于抛光机中心的圆形样品支架上。使用金刚石研磨膜（Diamond Lapping Film）对样品进行机械减薄。在此过程中，使用倒置显微镜定期检查，并通过调节千分尺使抛光面处于正确位置。样品最终抛光至1μm或更薄，然后离子研磨15分钟。操作-楔形法快速离子研磨中产生的择优减薄和形貌使不同材料间界面的研究变得困难。可通过完全消除离子研磨步骤和采用楔形技术将样品机械抛光到电子透明厚度来较少这些问题的发生。采用这种技术时，用Pyrex插件替换带槽的L型支架中的SEM样品座，将样品置于插头端面上。 在得到感兴趣面后，取下样品并置于Pyrex插件的底端。调整两个后千分尺，，回撤近样品的那个千分尺，以使样品减薄至楔形。从背侧对楔形样品顶端感兴趣特征区减薄，直到感兴趣区边缘厚约1μm。然后，使用抛光布（如MultiTex Cloth（产品编号816-12）和硅质悬浮液对样品进行最后的抛光处理，直到可以看到厚度条纹（低于几千埃）。最后将样品从Pyrex插件中取出，置于单孔TEM栅网上进行分析。 l 适用TEM分析的精细的横截面l 快速、可重现地制备TEM样品l 将离子研磨时间从数小时缩短至数分钟。l 由整个样品可制备得到大的薄区。产品编号描述59100 PELCO Tripod Polisher 590TEM 透射电镜精密样品制备59200 PELCO Tripod Polisher 590SEM 扫描电镜精密样品制备59300 PELCO Tripod Polisher 590TS 用于SEM和TEM样品制备

UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、红外光学材料（如硒化锌、硫化锌、硅、锗等晶体）、金属等片状材料的双面精密研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样行星齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。UNIPOL-160D双面研磨抛光机可以选择用研磨盘加磨料研磨样品，也可以选择抛光盘贴砂纸的方式研磨样品。抛光盘贴砂纸是将砂纸贴在研抛底片上然后将研抛底片吸附在抛光盘上在进行研磨抛光。可以同时对多个样品一起进行研磨，研磨抛光的效率高，适合大量试样的研磨或工厂的小批量生产。1、转速采用手动调整变频器频率的控制方式。2、可同时对4片最大尺寸为Ø 2" 的基片进行双面研磨抛光。3、可进行薄片的双面减薄。4、是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具。产品名称 UNIPOL-160D双面研磨抛光机产品型号 UNIPOL-160D安装条件 本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。1、水：设备配有上水口及下水口，需自行连接自来水及排水2、电：AC220V 50Hz，必须有良好接地3、气：无4、工作台：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上5、通风装置：不需要主要参数 1、电源：220V 50Hz2、功率：550W3、磨抛盘：Ø 225mm4、磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调5、最大样件尺寸：Ø 50mm，厚度≤15mm6、上磨抛盘重量：3.5kg产品规格 尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg序号名称数量图片链接1研磨盘1个2抛光盘1个3修盘行星轮1个-4载样行星轮（电木）1个-5配重环1个6磁力片2片7研抛底片2片8抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各1片9金刚石抛光膏（W2.5）1支序号名称功能类别图片链接1可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。（可选）-

規格：Φ200mm Φ220mm Φ230mm Φ250mmΦ300mm带背胶，(对于无粘贴胶的织物，其规格可定做）。下面是选不带胶抛光布请参考：抛光盘直径Φ200mm (使用无粘贴后背的抛光布，其直径为240~250mm)抛光盘直径Φ230mm (使用无粘贴后背的抛光布，其直径为270mm) 抛光盘直径Φ250mm (使用无粘贴后背的抛光布，其直径为290~300mm)使用方法1.无胶普通使用时，直接放置在抛光盘上，用压圈扣住即可 2.带胶粘贴抛光盘使用，可将拋光织物直接固定在拋盘上，采用高档压敏胶制成，抛光布平整，样品不会产生倒角现象。

UNIPOL-160D双面研磨抛光机主要用于石英晶片、蓝宝石、陶瓷、玻璃、金属等片状材料的精密双面研磨抛光。本机采用涡轮蜗杆减速机为传动机构，通过齿轮组实现上、中、下三轴不同速度、不同方向的转动，使上、下研磨抛光盘和中间太阳轮产生速度差以及相对运动，而样件置于太阳轮驱动的载样齿轮内孔中，从而对其进行双面研磨抛光。技术参数主要特点转速采用手动调整变频器频率的控制方式可同时对4片最大尺寸为Φ2" 的基片进行双面研磨抛光可进行薄片的双面减薄是双面研磨抛光Si、 Ge 、氧化物单晶基片的理想工具技术参数电源：220V 50Hz功率：550W磨抛盘：Φ225mm磨抛盘转速：0-72rpm内无级可调最大样件尺寸：Φ50mm，厚度≤15mm上磨抛盘重量：3.5kg产品规格尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg标准配件1研磨盘1套2抛光盘1套3修盘行星轮4个4载样行星轮（电木）8个5配重环3个6磁力片4片7研抛底片4片8抛光垫（磨砂革、合成革、聚氨酯）各2片9研磨膏（W2.5）1支操作视频点击查看可选配件可根据您的需要制作不同开孔的载样齿轮。

抛光车间加湿器 工业加湿器厂家新闻记者报道：在许多工厂企业的工作场所如手机外壳，汽车轮毂等产品的打磨抛光车间，都迫切的需要一种能够抑制粉尘的控制设备；在倡导环保低碳生产的今天，抑制粉尘已成为迫切需要解决的问题，不解决车间生产环境中存在的粉尘问题，不但违反相关的环境法规，引发粉尘爆炸等安全事故；而且还会严重影响员工的身体健康和工作状态，吸入过多的粉尘颗粒容易导致员工患有呼吸系统疾病。 在今天，加湿器的广泛应用，工业生产车间内的静电和粉尘问题已经能够完美的得到解决。正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器所产生的超细颗粒水雾，直径大概只有毛发的十分之一，如此细小的水雾颗粒有能力捕捉空气中存在的粉尘及其他尘埃粒子，通过粘附在粉尘上面，从而使得粉尘降落在地面，获得降尘的目的。 正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器产品，对于其他加湿方式的加湿器而言，具有【雾化颗粒细】 、【使用能耗低】 、【雾化能效高】，【加湿速度快】的显著优势。 正岛电器生产的ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器是采用超声波高频振荡的原理，从而达到均匀加湿的目的；具有空气加湿、净化、防静电、降温、降尘等多种用途；既可以较大空间进行均匀加湿，也可对特殊空间进行局部湿度补偿，具有较高的使用灵活性。 点击此处查看抛光车间加湿器全部新闻图片 电话： 正岛ZS系列超声波工业用加湿器生产厂家：正岛电器，产品优势区别与对比，谨防假冒！备注目前市场部分加湿器厂家仿冒正岛加湿器ZS系列型号低配置低价格在销售请客户区别以下：品 牌电 源风 机外 壳正 岛变频电源 防水等级IP68(低能耗、低故障)特制防水风机全不锈钢外壳及内胆仿冒变压器(高耗能、高故障高、维修频率高)普通风机(易烧毁)普通钣金(易锈)正岛电器郑重承诺：整机保修一年，完善售后服务体系；以质量第一，诚信至上为企业宗旨。 欢迎您来电咨询抛光车间加湿器，车间降尘加湿器，工业加湿器厂家的详细信息！工业用加湿器种类有很多,不同品牌工业用加湿器价格及应用范围也会有所不同,而我们将会为您提供全方位的售后服务和优质的解决方案。 正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器控制方式，技术参数： 控制方式加湿量1.8kg/h加湿量3kg/h加湿量6kg/h加湿量9kg/h加湿量12kg/h加湿量18kg/h开关控制ZS-06ZS-10ZS-20ZS-30ZS-40ZS-F60时序控制ZS-06SZS-10SZS-20SZS-30SZS-40SZS-F60S湿度控制ZS-06ZZS-10ZZS-20ZZS-30ZZS-40ZZS-F60Z出雾方式单管单管单管双管双管三管湿度标准适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）适用空间（m3）50%RH以下250500100015002000250055-65%RH20040080012001600200065-75%RH1503006009001200150075-85%RH100200400600800100085-95%RH7515030045060075095%RH以上50100200300400500消耗功率180W300W600W900W1200W1500W净重15kg18kg22kg30kg38kg55kg 查看更多抛光车间加湿器，车间降尘加湿器，工业加湿器厂家的详细信息尽在:正岛电器 正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器产品六大核心配置优势： 优势一：【全不锈钢箱体】机组采用全不锈钢箱体结构，喷塑处理，美观耐用；自动进水，设有溢水保护，可自动控制水位；底部装有万向轮，可自由移动。 优势二：【集成式雾化器】机组采用集成式超音波钢化机芯，自带缺水保护装置，无机械驱动、无噪音、雾化效率高，杜绝易堵塞、维修繁锁等问题。 优势三：【IP68级防水电源】机组采用独家专利的全密封防水变频电源和全密封集成电路，防水等级为IP68（可置于水下1米深处也不会短路）。 优势四：【轴承式防水风机】机组风动装置采用防水等级为IP68的滚珠轴承式36V防水风机，具有启动快、风量大、振动小，耐腐蚀、运转稳定。 优势五：【耐碱酸陶瓷雾化片】机组选用的陶瓷雾化片适合较硬水质和耐碱酸的使用环境，且正常使用寿命长达3000－5000小时，更换方便快捷。 优势六：【高精度湿度传感器】机组配有微电脑自动控制器&日本神荣高精度湿度传感器，全自动控制面板，人机对话界面，智能化轻触式按键操作。您可能还对以下内容感兴趣...1. 洁净型湿膜加湿器(QS-9)2. 移动式水桶加湿器(CS-20Z)3. 微调型工业加湿机(ZS-20Z )4. 大型工业用加湿机(ZS-F60Z)工业加湿器厂家记者核心提示：使用正岛ZS-40Z抛光车间加湿器及ZS系列车间降尘加湿器来降尘是一种比较经济的选择，因为高压微雾系统使用的电量有限，而且耗水量也较小，在使用过程中可以自由控制喷雾用水的水量。十分方便。在长期的使用过程中，不但节约企业资金而且符合社会所倡导的低碳环保的需求。以上关于抛光车间加湿器，车间降尘加湿器，工业加湿器厂家的最新相关新闻报道是正岛电器为大家提供的！ 您可以在这里更详细地了解抛光车间加湿器的最新相关信息： 2014年8月2日,昆山中荣金属制品有限公司汽车轮毂抛光车间发生爆炸,截至8月4号为止，已造成71人死亡,近200人受伤.经初步调查，此次事故原因可能是生产过程中产生的粉尘遇明火导致爆炸。按照相关规定，粉尘车间严禁明火。那么，汽车轮毂抛光车间缘何会遭遇爆炸？ 南京工业大学教授张礼敬说，当粉尘悬浮于空中，达到爆炸浓度极限时，遇到火源(包括明火、静电、摩擦等)就会发生爆炸。至于造成伤害大小，和粉尘量、空间及作业现场人员密集程度等都有关。 　　相关专家表示，粉尘爆炸属于工厂爆炸事故里最具危害的爆炸之一，作业车间越是密闭爆炸威力越大。早在1987年，黑龙江哈尔滨就曾发生了一起造成58死、170多人受伤的粉尘爆炸事故。 　　现场一位专业人士表示，粉尘爆炸需要两个条件，一是要达到一定的浓度，二是要有明火。按照规定，这种车间的安全要求极高，无论是粉尘浓度、通风还是明火方面都有严格规定。 　粉尘爆炸 　　●什么是粉尘爆炸？ 　　粉尘爆炸：是由于悬在空气中的可燃粉尘燃烧而形成的高气压所造成的。粉尘是固体物质的微小颗粒，它的表面积与相同重量的块状物质相比要大得多，故容易着火。如果它悬浮在空气中，并达到一定的浓度，便形成爆炸性混合物。 　　七类粉尘具爆炸性：金属(如镁粉、铝粉)；煤炭；粮食(如小麦、淀粉)；饲料(如血粉、鱼粉)；农副产品(如棉花、烟草)；林产品(如纸粉、木粉)；合成材料(如塑料、染料) 　　●事故发生的条件 　　多发企业：煤矿，面粉厂，糖厂，纺织厂，硫磺厂，饲料、塑料、金属加工厂及粮库等厂矿企业。 　　爆炸条件：1.可燃物。可燃性粉尘以适当的浓度在空气中悬浮，形成人们常说的粉尘云；2.助燃物。有充足的空气和氧化剂；3.点火源。有火源或者强烈振动与摩擦（通常认为，易爆粉尘只要满足条件1和条件2，就意味着具备了可能发生事故的苗头）。 ●如何预防粉尘爆炸？ 　　1.减少粉尘在空气中的浓度。采用密闭性能良好的设备，尽量减少粉尘飞散，同时要安装有效的通风除尘设备，加强清扫工作。 　　2.控制室内温湿度。 　　3.改善设备，控制火源。有粉尘爆炸危险的场所，都要采用防爆电机、防爆电灯、防爆开关。 　　4.应事先控制爆炸的范围。 　　5.要控制温度和含氧程度。凡有粉尘沉积的容器，要有降温加湿措施，必要时还可以充入惰性气体，以冲淡氧气的含量。

技术特色： 专利电磁聚焦离子枪设计 超宽加速电压范围（可达10keV），抛光效率高 电压范围不高于100eV，修复后近乎无损 配备液氮冷台（可持续制冷超过18小时），去除热损伤 同时具备截面切割和平面抛光功能 可选配真空转移

三脚抛光器（Tripod Polisher又名楔入式抛光器、抛光具）由IBM公司科学家设计，是一款用于SEM和TEM电镜制样的精密仪器。它大大降低了样本对离子减薄的依赖，缩短了制备时间，某些时候它可以省去离子减薄工序。Model 590三脚抛光器（tripod polisher）即可用于平面样本的制作，也可用于截面样本。适用于多种材料，比如陶瓷、高分子、金属、地矿物质材料等。EMS公司推出三款三脚抛光器，Model 590TEM、Model 590SEM、Model 590TS。产品信息：货号产品名称规格50115-10Tripod Polisher , Model 590 TEM个50115-20Tripod Polisher , Model 590 SEM个50115-30Tripod Polisher , Model 590TS (SEM &TEM)个主件介绍：主机：含有3个测微计带delrin脚，无论是圆形样品还是L形架在抛光时都可以与主机连接。 圆形样品安装器：圆形样品安装器中心有一个pyrex棒，用于使TEM样品平行抛光，pyrex插件使样品可在透射光下进行观察，以测量其厚度。 L形架：L形架可容纳SEM柱及pyrex插件。 SEM拄：SEM螺柱适用于大部分SEM的样品。 Pyrex插件：用于更换SEM柱，pyrex插件使样品可在透射光下进行观察，以测量其厚度。 平直工具：平直工具与60μm金刚砂研磨胶片一起使用，用于将delrin脚与抛光主机平行。还出售各类金属抛光膏。

西恩士仪器提供自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S报价，同时包括自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S图片、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S参数、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S使用说明书、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S价格、自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S经销商价格等信息，自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S维修、为您购买自动金相研磨抛光机SinPOL 4000S提供有价值的产品本机采用了先进的微处理器控制系统，使得磨抛盘、磨抛头的转速实现无级可调，制样压力、时间设定直观、便捷。操作者只需更换磨抛盘或者金相砂纸和抛光织物即可完成磨、抛工序的操作，从而使本机展现了更加广泛的应用性。本机具备磨抛盘旋转方向可任意选择、磨抛盘可快速更换；多试样夹持器和气动单点加载；磨料自动配送（分液器可选配）等功能，还具有转动平稳、安全可靠、噪音低及采用铸铝底座增加了磨抛的刚性等特点。本机带有水冷却装置和磨粒冲刷喷嘴，可以在研磨时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织并随时将磨粒冲刷排走；再配以ABS外壳和不锈钢标准件，在外观上更加美观大方，并提高了防腐、防锈性能且易清洁。技术参数：项目规格 SINPOL 4000S研磨盘数单盘研磨直径200mm/250mm/300mm底盘 50-1000r/min（无级调速）研磨转速研磨头50-150r/min电机250W/250W/370W研磨方向顺时针，逆时针研磨试样数量4个试样规格Φ20/25/30/32/40mm可选其中一种加载方式气压自动加压操作界面/程序数显显示，可设定研磨转速，时间，转向运转中提示：运转转速,时间倒数计时环境温度5-40°C / 41-104°F电压/频率单相AC220V 50Hz自来水水压1-10 bar / 14.5-145 psi尺寸单盘790×566×677（mm）质量重量73kg

产品名称：抛光布产品型号：PGB-80 PGB-150产品类型：抛光材料产品特点：抛光布由浸润了抛光材料的高质全棉制成

仪器简介：电极拉制成功后,其尖端必须作优化处理,如用热抛光的方法使电极尖端光滑,周围均匀,以提高实验过程中的封接成功率.抛光仪或电极熔锻仪就是为了实现上述操作处理而设计的.其基本组成部件包括:一台显微镜,附有两种高低放大倍数的物镜,分别作涂敷和热抛光之用.主要特点：* 可拉制电极尖端少于0.3微米微电极抛光仪* 三组数字准确控制热力和拉力微电极抛光仪* 加热丝分别为铂金/铱金丝和锡烙合金丝微电极抛光仪* 主机采用防锈物料制造微电极抛光仪* 体积小，适合细小空间微电极抛光仪* 适合微注射研究 微电极抛光仪

对天然的、富含杂质的矿石物质的抛光过程要比普通的岩石样品抛光困难的多。对物质的抛光要与该物质的地质属性相一致，此设备磨抛不同岩石薄片其厚度可以精确调节。 该产品对样品的抛光会在同一时间内进行三个方面的操作： 1）抛光盘的自动旋转。 2)样品夹持器自旋转。 3)磨料自动滴入。 该设备同时处理1至5个样品薄片，可以在几分钟内同时完成打磨1个或5个样品的第一面。每个样品都有单独设置厚度的压片器（5个样品最大尺寸是30X45mm 3个样品最大尺寸是45X60mm）。 2) 抛光过程是定时控制，没有其它外力干扰，运转时间可控，精确控制薄片厚度。 性能： 磨头：1-5个 转速：25到200rpm 标准样品尺寸：30x45mm, 60x45mm,特定 计时器：1到60分钟 抛光盘直径：200mm， 硬度可调 多种抛光料：6um, 3um, 1um 50张抛光布：&Phi 200 mm 同时可以使用&Phi 150至&Phi 250 mm的抛光盘

KEP-3000X 电解抛光腐蚀仪一、产品概述KEP-3000X型电解抛光腐蚀仪是一台集电解抛光、腐蚀功能为一体的金相试样制备仪器。适合于工厂、大专院校、科研机构等实验室使用。该设备利用电化学原理进行金相试样的制备，避免了机械抛光所带来的变形层，具有制样速度快，重复性好、等优点，是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的好设备。特别适用于工厂、大专院校、科研单位的金相试验室，是金相试样腐蚀的好设备。二、功能和特点1、触摸屏操作控制；2、电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；3、可选择电压电流曲线实时显示；4、实现恒定电流和恒定电压工作方式；5、直流0~100V / 0~6A，其他范围电流/电压值可定制；6、电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；7、电压电流调节、显示精度小数点后两位；8、电信号低纹波，稳定性高；9、电源过压、过热以及输入电源过欠压保护；10、扫描功能：通过设定电压范围可得到电流强度曲线，可用于定义抛光与蚀刻电压的近似值；11、可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径15mm，20mm，30mm可定制）；12、控制抛光/腐蚀工作时间；13、搅拌装置确保抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；14、实时显示溶液温度，当溶液温度高于设定温度自动打开水阀进行冷却；15、数据库功能：具有密码保护，可储存20种自定义方法；16、可以通过U盘读取工作电压、电流，可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究；17、用户可以通过计算机直接操作，直接读取所有历史数据，可对所有数据进行分析、存档、打印处理。（选配）三、技术参数项目规格工作电压 AC220V 50/60Hz输出电压电流 抛光0-100V 6A 蚀刻0-100V 6A (一般0-25V) 外部蚀刻0—100V 6A输出电流显示精度电压0.01V/电流0.001A时间显示工作时间可自行设定0-999s扫描功能定义抛光和蚀刻近似电压值数据库用户可自定义储存20条方法，密码保护冷却系统冷却盘管，外接自来水自动冷却（可选配循环冷却）电脑软件操作可连接电脑软件进行操作、储存、打印处理控制单元尺寸350*300*150mm抛光单元置尺寸270*280*250mm总功率1000W仪器重量25kg操作环境环境温度5-40℃湿度0 - 85 % RH, 不凝结四、操作界面五、技术参数名称规格数量控制单元KEP-3000X1台抛光与蚀刻单元面罩3个（标准孔尺寸Φ15 Φ20 Φ30其他可定制1套外部蚀刻单元烧杯800ML铁架台、支撑块（选配）1套国标电源线1.5米1根冷却进水管3米（含快速水龙头接头）1套排水管2米（含固定喉箍）1套说明书/合格证/保修单1份电脑联机操作（选配）专用软件和数据通讯线（选配）1套

PG-2型金相试样抛光机　　PG-2抛光机是采集多方面使用人员的意见和要求设计而成的，它具有造型美、结构合理、传动平稳、噪音小、操作维修方便等优点。该机可供双人同时操作，抛光盘直径与传递功率均大于国内同类产品，能适合更多种材料的抛光要求，是试样抛光的理想设备。本产品分落地式(PG-2)和台式(PG-2A)两种，供用户选择。 PG-2金相试样抛光机主要参数：抛盘直径：200mm带胶抛光布直径：200mm转　　速：900r/min（可改为1400r/min）电 动 机：YS7116 0.2kW电 源：380V 50Hz外形尺寸：PG-2：81×40×92cmPG-2A：81×40×35cm重　　量：PG-2型26Kg；PG-2A型23Kg

产品名称：振动抛光机产品型号：KHG-250产品介绍：KHG-250型振动抛光机采用高频微量振动方式，对样件表层进行轻量精细抛光，尽量减少在抛光过程中的机械应力；适用于在各种材料上制备高质量的抛光表面，包括电子背散射衍射分析 (EBSD) 应用、原子力显微镜（AFM）分析、电镜（SEM）分析等前序样品制备有效。同时，振动抛光因其优异的机械-化学抛光效果，适合大部分材料的精抛和终抛，尤其适用于软质和韧性材料，如纯钛及钛合金、纯铝及铝合金、纯铜及铜合金、镍基合金、高温合金等。与传统的振动抛光机不同，本机通过弹簧板及磁吸合电机来产生左右方向的振动，由于弹簧板与振动盘之间是有角度的，因而可以让试样在抛光盘内作圆周运动。该结构可以产生几乎完全水平方向的振动，大限度地提高了样品接触抛光布的时间，在抛光过程对样品没有产生附加损伤层和变形层，可以有效地去除和避免浮凸、嵌入和塑性流变等缺陷。该机外观新颖美观，操作简单，振动频率和振动电压可随着振动强度自动适应，可一次放置多个试样，无需人员值守，用户设定好参数后就可以离开，等待试样自动完成振动抛光，广泛应用于各大企业事业单位和科研院校。产品特点：1.手动自动一键切换2.自适应工件自动搜频3.超长设置时间、一键满足多种需求4.整体机构振动平稳，噪音低，寿命长5.无极调速加四挡定速，方便快捷满足各种需求6.强度范围宽50-600任意设置，满足多种零部件7.充分利用悬浮液，清洗方便8.夹持样品范围大可调节技术参数：名称规格抛盘直径φ250抛布直径φ250振动电压10-220V振动强度50-600振动频率25-400HZ设置时间30000分钟样品直径φ20-50mm输入电源电压：220V 频率：50HZ功率1KW外形尺寸 500X610X365mm重量85kg

P800型抛光材料套装包括:1.0 um a-氧化铝粉1瓶 0.3 um a-氧化铝粉1瓶 0.05 um g-氧化铝粉1瓶 用于抛光皮的抛光盒 2个 1200目的Carbimet金相砂纸（灰色)5张 尼龙抛光布（白色)5张 Microcloth抛光绒布（咖啡色）10张。

KEP-5000 电解抛光腐蚀仪一、产品简介：KEP-5000 型 电解抛光腐蚀仪，利用电化学原理进行金相样品的制备。该设备既可用于金相试样的抛光，也可用于金相试样的腐蚀，具备制样快，重复性好、没有机械加工的变形层等优点，是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的理想设备。该设备标配软件和记录仪，可实时显示电压、电流、时间、温度等关系曲线，以便于进一步数据分析和研究，是科研院校和工厂实验室研究电解过程极化曲线的专用设备。二、产品特点：&bull 7 寸触摸屏操作控制。&bull 电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；&bull 可选择电压电流曲线实时显示；&bull 实现恒定电流和恒定电压工作方式；&bull 直流 0~100V / 0~6A，电流/电压值可定制；&bull 电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；&bull 电压电流调节、显示精度小数点后两位；&bull 电信号低纹波，稳定性高；&bull 电源过压、过热以及市电输入过欠压保护；&bull 可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径 15mm，20mm，30mm）；&bull 控制抛光/腐蚀工作时间；&bull 搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；&bull 工作电压、电流可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究（选配项： RS485 链接方式任选与计算机）。三、主要功能：◆ 连接 RS485 通讯连接方式任选与计算机通讯；◆ 可按设定电压或电流增加速率和保持时间，并准确测量相对应的电流或电压值；◆ 电流、电压精度高，精确到小数点后两位；◆ 实时测量电压、电流随时间变化的曲线；◆ 样品电流-电压的极化曲线；◆ 温度随时间变化的曲线；◆ 用户的计算机可直接读取所有历史数据，可对所有数据进行分析、存档、打印处理。四、主机触摸屏界面（标配）：五、电脑软件操作界面（选配）： 图1：电压-时间曲线 电流-时间曲线 图2：电流-电压极化曲线 图3：电流电压数据存储界面六、主要参数：型号KEP-5000工作电压AC220V 50Hz输出电压直流 0~100V / 0~6A，连续可调，数字显示；输出电流电压 0.01V/电流 0.001A恒温范围常温~100℃±1℃时间显示工作时间可自行设定容器容量800ml冷却系统冷却盘管，外接自来水冷却数据导出U 盘导出电箱尺寸292*380*120mm磁力搅拌器尺寸240*190*130mm总功率900W仪器重量15kg六、标准配置：序号名称数量图片1标准抛光/腐蚀组件：含冷却盘管、阴极等软管样品罩：控制样品抛光面积，直径15、20、30mm1 台2简易抛光/腐蚀组件（铁架台、阳极支架板，阳极夹、阴极等）1 套3搅拌器和加热控制单元1 套4电解抛光腐蚀仪专用软件（选配）1 套5说明书1 份6合格证1 份

1.用途： 对于大多数材料，尤其是较难制备的材料以及需要充分去除应力和整体不允许有任何破坏的精密元器件等样品的表面抛光工作非常适合，从而充分的满足材料样品微观分析（尤其是EBSD分析）的需要。包括，并不限于以下应用：1) 较软材料，如：铝、铜、镍等；2) 表面镀层；3) 整体不允许做任何破损的精密元器件；4) 高科技超合金；5) 岩相超薄片样品的制备：抛光后的样品厚度可达至5~10微米 EBSD应用说明：对于大多数材料，经过正常的样品制备后，如果通过观察检验，变形层还存在，那么，就需要利用振动抛光机（Buehler VibroMet 2 Vibratory Polisher）再进行20~30分钟的振动抛光以充分的去除变形层，从而获取符合高品质的EBSD实验图形要求的样品制备结果。所有的金属材料，即使是硬质合金材料，皆可通过振动抛光来充分的去除残余变形，从而提高EBSD实验图形的品质。2.技术性能：1) 防腐蚀、防冲撞的整体设计；2) 前置触摸式液晶显示屏：操作简单，易行，操作包括：启/停显示（灯）和振动速度控制；3) 数字式液晶屏可清晰地显示振动电流变化的柱状曲线；4) 透明的抛光盘防尘罩可保证抛光盘的洁净；5) 可快速更换的抛光盘；6) 宽大的抛光盘（12英寸直径）可承载多至18个镶嵌样品或较大的无需镶嵌的样品；7) 无需操作者参与的全自动工作过程；8) 可调节电流的水平振动驱动系统，转速可达7200转/分。9) 有不同尺寸的样品卡持器供选择：用于镶嵌好的直径为：1”、11/4”、11/2” 的样品的卡持器及配重；

一、性能：l 为数字控制的8"盘研磨抛光机；l 性价比高、耐用性好，是一款适用于中小型实验室的理想产品；l 设计用于金属、陶瓷及地质样品及断面的专业研磨抛光；l 快速换盘系统，适合从粗研磨到最后抛光的所有研磨抛光程序；l 含研磨用给排水装置；l 外壳由单块防腐增强玻璃纤维聚酯制造；l 配备强力1/3HP马达；配有固定转速150、300 rpm，使大多数样品均能得到最佳结果；数字控制转速范围为50至600 rpm。 二、技术参数：盘大小8" (203mm)盘数量1盘型快速更换, drop-in型转速固定： 150 / 300 rpm 可变： 50-600 rpm控制数字式马达250W功率230V ，2A总尺寸345 x 585 x 295mm重量30kg

一、产品介绍OC-EP100X型电解抛光腐蚀仪是一台集电解抛光、腐蚀功能为一体的金相试样制备仪器。适合于工厂、大专院校、科研机构等实验室使用。该设备利用电化学原理进行金相试样的制备，避免了机械抛光所带来的变形层，具有制样速度快，重复性好、等优点，是有色金属试样、钢尤其是不锈钢制备金相样品的理想设备。特别适用于工厂、大专院校、科研单位的金相试验室，是金相试样腐蚀的好设备。二、 功能和特点1、触摸屏操作控制；2、电压、电流范围大，可同时满足各种材料的抛光和腐蚀；3、可选择电压电流曲线实时显示；4、实现恒定电流和恒定电压工作方式；5、直流0~100V / 0~6或者0~60V/0~20A，其他范围电流/电压值可定制；6、电压、电流有初调和微调切换功能，能准确稳定的设定电压电流值；7、电压电流调节、显示精度小数点后两位；8、电信号低纹波，稳定性高；9、电源过压、过热以及输入电源过欠压保护；10、扫描功能：通过设定电压范围可得到电流强度曲线，可用于定义抛光与蚀刻电压的近似值；11、可控制样品的抛光/腐蚀面积（样品罩开孔直径15mm，20mm，30mm可定制）；12、控制抛光/腐蚀工作时间；13、搅拌装置保证了抛光/腐蚀介质均匀，样品表面环境一致；14、实时显示溶液温度，当溶液温度高于设定温度自动打开水阀进行冷却；15、数据库功能：具有密码保护，可储存20种自定义方法；16、可以通过U盘读取工作电压、电流，可输入计算机，以便于进一步数据分析和研究；17、用户可以通过计算机直接操作，直接读取所有历史数据，可对所有数据进行分析、 存档、打印处理。（选配）三、 技术参数项目规格工作电压 AC220V 50/60Hz输出电压电流抛光0-100V 6A 蚀刻0-100V 6A (一般0-25V) 外部蚀刻0—100V 6A输出电流显示精度电压0.01V/电流0.001A时间显示工作时间可自行设定0-999s扫描功能定义抛光和蚀刻近似电压值数据库用户可自定义储存20条方法，密码保护冷却系统冷却盘管，外接自来水自动冷却（可选配循环冷却）电脑软件操作可连接电脑软件进行操作、储存、打印处理控制单元尺寸350*300*150mm抛光单元置尺寸270*280*250mm总功率1000W仪器重量25kg操作环境环境温度5-40℃湿度0 - 85 % RH, 不凝结 四、包装清单名称规格数量控制单元OC-EP100X1台抛光与蚀刻单元面罩3个（标准孔尺寸Φ15 Φ20 Φ30其他可定制1套国标电源线1.5米1根冷却进水管3米（含快速水龙头接头）1套排水管2米（含固定喉箍）1套说明书 1份合格证1份保修单1份

新升级的美国Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 高精密研磨系统，采用7寸LCD触摸屏完成所有操作，研磨系统精度能够达到1um，适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的前处理 Allied精密研磨抛光机 MultiPrep™ 系统适用于高精密（金相，SEM，TEM，AFM等）样品的半自动准备加工。主要性能包括平行抛光，精确角度抛光，定点抛光或几种方式结合抛光；它解决了操作者之间的不一致性，提供可重复的结果，而不管他们的技能如何； MultiPrep 无须手持样品，保证只有样品面与研磨剂接触。 双测微计（倾斜度和摆动度）允许相对于研磨盘进行精确的样品倾斜度调整；精密的Z-轴指示器保证在整个研磨/抛光过程中维持预定义的几何方向。 数字指示器可以量化材料的去除率，可以实时监测或进行预先设定的无人操作。可变速的旋转和振荡，能够最大限度地提高整个研磨/抛光盘的使用和减少手工制样。可调负荷控制，扩大了其从小样品（易碎样品）到大样品的全方位处理能力。 常见的应用包括并联电路层级，横截面，楔角抛光等特征MultiPrep定位头特点：前数字指示器显示实时的材料去除率（样品的行程），1微米分辨率精确主轴设计保证样品垂直于研磨盘，使之同时旋转双轴测微计控制样品角坐标设置（斜度和摆度），+10°/-2.5°幅度， 0.02° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置（静态），具有归零功能，1微米分辨率6倍速样品自动摆动齿轮传动主轴应用于要求较高的转动力矩，如较大或封装的样品凸轮锁紧钳无需其他辅助工具，方便用户重新设置工作夹具8倍速样品自动旋转样品调整范围：0-600克（100克增量）美国ALLIED设计制造研磨/抛光机特点：研磨盘速度范围：5-350 RPM（5转速增量）数字计时器和转速表7“LCD触摸屏，带键盘输入控制所有功能顺时针/逆时针研磨盘旋转可选的AD-5 ™ 自动操作流体分配器调节阀电子控制冷却液0.5 HP（375 W），高扭矩马达稳定的RIM，铝和不锈钢结构腐蚀/耐冲击盖一年保修符合欧盟CE标准由美国Allied设计制造 项目＃描述15-2200MultiPrep™ 精密抛光系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相包括：飞溅环和压板盖，刻度盘指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 15" W x 26" D x 20" H (381 x 660 x 508 mm)Weight: 95 lb. (43 kg)15-2200-TEM带O型环驱动的MultiPrep™ 系统，用于8”研磨盘，100-240 V 50/60 Hz 1相 - 专为透射电子显微镜而设计样品制备精致材料研磨抛光包括：飞溅环和压板盖，刻度指示器校准套件，夹具/附件存储盒Dims: 22" W x 26" D x 21" H (560 x 660 x 535 mm)Weight: 125 lb. (57 kg) 产品附件注：夹具/磁性研磨盘，设备及配件单独出售。请从下面附件列表中选择，以保证一个完整的系统配置的报价。项目＃配件图片描述15-1005用于 #15-1010, #15-1010-RE, #15-1013上的凸轮锁连接器15-1010含有3.1mm可拆卸扫描电镜样件的横截面扁板15-1010-RE用于#15-1005, #69-50000, #69-41000, #69-41005上的含有基准线的横截面扁板15-1013含有5.3 mm宽 x 3.5 mm深的耐热玻璃插件的TEM楔形/FIB 上用减薄夹具15-1014TEM楔形/FIB 夹具和4个 #69-40015耐热玻璃插件15-1018含有 0.5” 直径x 0.4” 高的耐热玻璃插件的SIMS/TEM 上用减薄夹具15-10202.25" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-803" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1020-1004" 直径不锈钢平行抛光夹具15-1025可镶嵌40 mm大小件的泪滴状夹具15-1035重量块套件包含：1个200克 和1个100克桶形重量块,1个200克1个100克和1个 50克 槽形重量块及1个固定杆15-10452.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.75" 深 袋形多功能夹具15-104645°对角线方向, 2.00" 宽 x 1.00" 高 x 0.80" 深 袋形多功能夹具15-10471.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-104845° 对角线方向, 1.00" 宽 x 0.40" 高 x 0.45" 深 袋形多功能夹具15-1050有0.63" 宽 x 0.10" 高x 0.25" 深的袋形 夹式横截面扁板15-1051对角线方向夹式横截面扁板120-30015含花岗岩底座的数显指示器测量系统10-10058“英寸（203毫米）铝研磨盘10-1005M8“英寸（203毫米）磁性研磨盘5-8100研磨盘、砂纸、抛光布储物柜，最大可放置12”大小5-8105铝制托盘/架子

1、离子平面抛光和离子切割一体化技术，一套系统实现两种模式，无需复杂的切换流程，简洁方便。2、动态离子切割技术，实现样品的往复平移和旋转，最大切割长度达10mm，有效减少投影/遮挡效应。3、超大的平面抛光装载尺寸50X25mm(直径x高)，为原位实验等大尺寸样品提供可能。4、能量0.5-10kv连续可调，既可满足低能区减少非晶层，又可兼顾高能区大幅提高制样效率。粗校准 → 样品抛光 → 观察抛光结果01将样品装入切割样品台，放入粗校准仪中进行校准，使样品平面与挡板平行，样品待切割面比离子束挡板上沿高出 10-200𝜇 𝑚 。02校准成功后将样品放入工作仓中，选择切割模式，点击每个离子枪的“步骤设置”，设置电压、电流和持续时间；选择“线性距离”，数值为样品半径或半宽。各参数均确认无误后，开启离子枪。03待设置的时间结束后，样品抛光完成，点击“返回常压“，取出样品即可进行后续电镜实验观察。

GNAD系列高精度研磨抛光设备是MCF公司研制的覆盖半导体材料，光电材料等应用领域的精密磨抛设备。主要适用的材料包括：硅，砷化镓，铌酸锂，光纤，碳化硅，蓝宝石，碲锌镉等多种材料。设备结构及功能GNAD系列精密研磨抛光机包括主机，远程操控系统，夹具，真空系统，填料系统，研磨抛光盘等。主机及所有的零备件均采用高防腐蚀材料，整机防腐，适用于多种半导体材料的化学机械研磨抛光。设备的功能参数，可由独立的远程操控系统控制。远程操控系统可根据用户工艺等具体要求选择无线或有线方式控制主机。夹具配备晶片研磨厚度在线监测装置，数字显示，监测精度1um，夹具自身对晶片的压力连续可调。真空系统通过抽真空的方式将样品直接吸附在样品固定装置底面。根据不同工艺要求，真空系统可以直接吸附样品或者直接吸附贴有样品的玻璃基板。自动填料系统可根据不同的工艺要求，调整滴料速度，并在研磨料用完同时自动停机，以防止没有研磨料时对样品产生的损伤。设备可支持双多通道进料系统同时工作，实现化学研磨抛光等各种复杂的工艺。设备的摆臂配置样品水平转动驱动系统，大大提升了磨抛效率的同时，也更好的控制样品平整度。GNAD系列磨抛机具有实时在线监控磨抛盘温度变化和冷却选配功能。盘温接近预设温度警戒值，设备会自动启动冷却功能，保持磨抛盘在工艺要求的温度范围内运转工作。设备参数 电源: 240V、10A / 110V、10A 晶圆尺寸: GNAD4 4”x 1/2/3 GNAD6 6”x 1/2 工作盘直径: 300mm-420mm 盘转速: 0-120rpm 摆臂摆动频率: 0-30spm 工作时间: 0-10小时 MCF公司可根据用户需求，提供完整的工艺方案，同时定制匹配方案的设备机型。具体设备详情请咨询MCF中国！